TA的每日心情 | 慵懒 2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:006 j* w/ F2 C* N* b% Y4 U2 q
也就是说,即使28nm现在还有光刻机瓶颈,其他也都就绪、只欠东风了。这是好事!
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9 c8 u n5 e* H7 ~个人感觉:相比于前一阵 ...
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/ M; L: A% O8 `, i+ z4 C+ ^: p, p8 b! v0 I+ r- F/ K# e2 Y" }
应该会在5年内实现吧。
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) `, z4 _# O; m- J6 s微博上有位“沉睡之书11”说的。(不一定准确,可以看看)
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发布于 湖南
, k% B7 u3 w8 X0 K: H2 x4 _ d# m# J来自 微博网页版, F. S0 X1 Q8 x3 x
啊,说过很多次了,#光刻机# 不是挖机& I( t3 `: `' |- K. j
不是运过来就能直接开工的。$ p4 q% `: H1 @
他需要调试,需要不断的用,一边用一边调整,等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。: C* I @) @9 F7 v1 `8 R, O
( H3 v- @5 [9 R
这个时间很长,也是我常年说:
" m+ B: B* h# R就算今天ASML传送一台EUV给咱,我们拿到第一批量产的芯片流片完(无论7nm,5nm还是多少)起码2年后——这最乐观的2年时间,还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
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9 N0 T4 c5 h9 g6 A- P( L! o现在发布的这台机器是起码3年前就验收了(科工),现在工信部验收推广(产业链),成熟得不行了才拿出来的。你需要,给钱就有,不限量。
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简单理解就是——这机子是干式光刻机,做的是65-55nm的芯片,一次曝光。
& H6 N- |6 ]1 i H干式光刻机没啥意义,为什么呢?因为改进之后的也可以出产低制程的,向下兼容并且良率更高(成本低方案成熟)
6 g$ @0 @1 n' q a多重曝光也不是这哥们来做……(我是不清楚干式光刻机有没人搞这个)
9 T3 S" I" j+ n; V但这玩意的光路设计啥的,是成型了的。有了它,就加浸没式透镜,修改物镜,最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机,但起码上线了2年了1 G& O- b$ {9 k; Y/ l$ E0 X
2 Z5 G) b6 R+ R没公布的那个肯定还在不断的调试,修改,更换国产配件。
- n; f, Y, E/ u0 z* }普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。5 H& Q' k$ Q9 Y4 T' S$ {+ ]
#华为mate70# 也没多久了。& A' e4 W* t) `: w* [0 \: \
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