TA的每日心情 | 慵懒
2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:00; |7 C& o; G2 k6 z
也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！
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个人感觉：相比于前一阵 ...
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" M: A# R0 H% r1 }应该会在5年内实现吧。
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( Z* I/ I1 {- {+ P+ ~微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）
; U/ v8 p* P5 B# e24-9-16 23:552 a2 x' J: ?4 p- _. n) _4 ~* Q+ o7 L
发布于 湖南
4 U# E, ^6 q7 m( m7 Z来自 微博网页版
! @2 v* [* E* l$ ~- q啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机5 J- g/ j! n) c
不是运过来就能直接开工的。
$ D7 X$ ~8 i T4 Q他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。8 `' c. F" }, e D) M+ ?; |
7 r" l; G) n4 Y5 V这个时间很长，也是我常年说：
( G: r! ~+ J" C I( X% ^) u就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
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e& N I% |6 S* m9 W现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。$ ]' k, [- t8 x$ h, w# f; M+ b$ E
6 a# L/ k8 o, e1 y简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。
: c) r" j) S; ?7 B干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）
1 n" P" J6 `) l' {2 U( X多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）. {8 m5 d( Z, s8 Z0 B% f: N
但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了
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没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。
" m; C/ o) `4 X8 _$ k普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
8 z# @3 @, ~! y* w5 q) H( q#华为mate70# 也没多久了。
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雷达卡
发表于 2024-9-17 08:06:46
显身卡
楼主
发表于 2024-9-17 08:39:20