TA的每日心情 | 慵懒
2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:00
7 c5 D: V1 A: w# A1 R也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！& }. l1 V. @0 }! v/ K
, M; R: w. `9 @# p
个人感觉：相比于前一阵 ...
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- u2 ]) K0 U* L- `应该会在5年内实现吧。
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0 u: O2 c# ]' O$ c" H' _$ b微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）# _4 E |$ N/ @. J& {
24-9-16 23:55 [# H- S! p! q4 B
发布于 湖南
" P' q& D2 y" ]. |$ }2 @来自 微博网页版+ K! p- `/ ^, S8 X" ~4 p6 p
啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机3 L+ ?% Z' w7 u; U2 G
不是运过来就能直接开工的。6 A* L1 W9 J! c q# V0 P
他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。+ w' ?% Y$ |0 E
' y# L7 ]; O; k0 k
这个时间很长，也是我常年说：
" ]& z* A( S) F& N就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。: D' a! M7 E- F$ a
' a( Z1 s( G- M9 N/ K
现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。& B* F) V8 g0 |! J, Y
7 B1 j2 f% I8 D简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。
8 h3 L2 C+ r4 |1 |/ w干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）' f! Z/ s# X0 X6 l+ i
多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）
. W7 V: s! M8 W7 q) |8 |但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了
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+ r) J. Z! t( S7 D* u- Z没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。
. t; c8 M7 @2 \- ~! O X' r普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
- p/ ^4 j6 T; G; t# [4 k0 F" p#华为mate70# 也没多久了。
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雷达卡
发表于 2024-9-17 08:06:46
显身卡
楼主
发表于 2024-9-17 08:39:20