TA的每日心情 | 慵懒 2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:009 {+ a5 h" u' [. s
也就是说,即使28nm现在还有光刻机瓶颈,其他也都就绪、只欠东风了。这是好事!9 x1 e5 w9 d5 _$ [$ w
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个人感觉:相比于前一阵 ...
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应该会在5年内实现吧。
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) y2 c2 O! ?+ R: B) M微博上有位“沉睡之书11”说的。(不一定准确,可以看看), o! p6 V% d b' l
24-9-16 23:55
6 a; V: l: {% E% {# j- Q" l发布于 湖南
0 J7 V3 {9 E! \6 {" w来自 微博网页版3 U% @. @/ _3 }4 Y8 Y
啊,说过很多次了,#光刻机# 不是挖机8 ~7 @! g* m/ `5 L
不是运过来就能直接开工的。
8 c- {$ J% }1 u- i他需要调试,需要不断的用,一边用一边调整,等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。
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这个时间很长,也是我常年说:) V1 E1 j7 {# P
就算今天ASML传送一台EUV给咱,我们拿到第一批量产的芯片流片完(无论7nm,5nm还是多少)起码2年后——这最乐观的2年时间,还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。6 C5 X C/ f$ \* @
% c3 N; u9 w& W$ B; i现在发布的这台机器是起码3年前就验收了(科工),现在工信部验收推广(产业链),成熟得不行了才拿出来的。你需要,给钱就有,不限量。$ ?" x# @) I u7 g: o7 g% ^
4 h5 J! b+ Z( m- h6 r" ?" P+ F9 ~" a简单理解就是——这机子是干式光刻机,做的是65-55nm的芯片,一次曝光。
3 Q) k9 ]- X- a0 ^$ P' M干式光刻机没啥意义,为什么呢?因为改进之后的也可以出产低制程的,向下兼容并且良率更高(成本低方案成熟)6 I' z, ^: Y7 p" `# N
多重曝光也不是这哥们来做……(我是不清楚干式光刻机有没人搞这个)( ?0 R) E' h+ e/ a
但这玩意的光路设计啥的,是成型了的。有了它,就加浸没式透镜,修改物镜,最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机,但起码上线了2年了6 X9 g7 W" I3 b' l5 W$ n5 p0 v
/ b3 e3 {9 k6 t8 T$ h没公布的那个肯定还在不断的调试,修改,更换国产配件。
* g& L1 I& m ^/ \/ `9 d, x/ `( [普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。) U V& K( K3 P- B3 W/ x+ e
#华为mate70# 也没多久了。
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