TA的每日心情 | 慵懒
2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:00
) X1 y& B( j. O也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！
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/ \" t! B. \3 [" g/ u/ b( X' q/ R个人感觉：相比于前一阵 ...
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+ a2 u0 c* s7 q+ E2 J( m1 L% s% F' u- B/ A. ?# V
应该会在5年内实现吧。
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v9 |7 X- q: p) g微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）
) W, ` f" }* ]7 R24-9-16 23:55. l6 U& @7 O( O$ Z+ v2 w" W
发布于 湖南6 m a# l1 L$ b( S3 J
来自 微博网页版- O9 Q8 _8 V6 C, M3 S
啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机3 J7 ]0 T' s7 t, q3 K
不是运过来就能直接开工的。5 z% l8 Z# e/ c' n' @
他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。; t6 z8 }( X7 z
- u5 R$ ~9 S" L5 [6 O7 N" U这个时间很长，也是我常年说：
' i/ f! J" M1 e; n2 e2 F就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
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' @, L r& f( |) B: K现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。
# t1 g7 F5 @1 C. F
8 l, O6 E$ M- ?0 ?简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。
1 O2 Y, ]1 O `干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）% \, C- ^- R* F7 c" d) M* c& z6 ?- `
多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）1 V% H# t1 @1 |5 v8 X2 Z
但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了2 K4 O, X2 K5 g
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没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。! j4 `( U; s( {$ U Q7 _( ?
普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。- _' t2 v- ~. ?! `
#华为mate70# 也没多久了。2 a( q' p, Y, _6 J; `
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