TA的每日心情 | 慵懒
2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:00& @4 E3 S$ Z' G, Y2 M& Y
也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！
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个人感觉：相比于前一阵 ...
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应该会在5年内实现吧。4 W* F1 x5 \7 J& _: t7 O
; R' k: _" w8 w& J a) a% y
微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）0 O# b9 h9 t2 c K- q# N
24-9-16 23:559 P' q# d/ Z: X
发布于 湖南
+ P" H4 V& E. c" o* A% |来自 微博网页版
0 ?$ a9 @- A2 r- H啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机
6 l' g& v& W! R, i( f8 A- w8 c不是运过来就能直接开工的。5 ^* d) x1 [: g( ]
他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。2 y, {9 r# k3 }* C( ?6 q5 }* n3 u
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这个时间很长，也是我常年说：4 A" n* g& e4 J
就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
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现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。$ P3 i. J! x: t! r9 M+ D: [
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简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。* H; O2 |# S/ A
干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）
) q K. i: M z5 c' j5 r$ S多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）* x2 O6 R$ ?; a
但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了7 s5 [4 H7 Z# @7 H6 M- {* @
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没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。
: O, k& k* y# y$ |# a: J普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。8 @& T- G; I: C% d
#华为mate70# 也没多久了。
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雷达卡
发表于 2024-9-17 08:06:46
显身卡
楼主
发表于 2024-9-17 08:39:20