国产光刻机猜测

老财迷

晨枫 发表于 2024-9-16 14:00
" z2 t: H* s  Q1 }( k也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！

个人感觉：相比于前一阵 ...

+ i+ _2 w1 e( y5 G5 s/ `$ n0 T

这就要西方好好领教什么叫产能过剩了。

3 j5 u8 ]2 R/ u" G  {应该会在5年内实现吧。

, P  W; w; l! G& q; E4 ^微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）
: Z7 H  a2 }3 ^" S8 U24-9-16 23:55
! ?9 a0 M5 e" C" M发布于 湖南
" X  l1 O, ~9 J% x来自 微博网页版
. t8 P: ]$ ?/ T; e啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机
0 Z0 U! [4 P9 ^4 L! n/ h' f不是运过来就能直接开工的。
他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。
. c. i- p! ^3 Z
这个时间很长，也是我常年说：
: p2 b/ s1 l- k6 `5 ]就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
1 M3 U! K1 F5 U, B6 M
" f  r& s/ e$ t* D现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。
4 H- S% F) K& y: m& D
简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。
干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）
多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）
( O6 ]8 S  y( C% l. w; R* Q但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了
+ \7 A* H' o$ E# }# X
没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。
) B& q. u6 |4 ~0 L' w! _# p普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
#华为mate70# 也没多久了。
- m2 g( U/ D5 z7 J- e# V

moletronic

老财迷 发表于 2024-9-16 16:06
, V9 s+ F. w, T8 _$ p应该会在5年内实现吧。
! C2 h! x1 U3 i
微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）

% W9 ?! W2 g1 n$ F) @9 K
# Q5 j) t# e2 n# l) Y# U3 Y# q+ \这个有点扯，新机到货后肯定要调试的，但绝对用不了两年的时间。

晨枫

moletronic 发表于 2024-9-16 18:15
4 t8 Q. b+ L3 g, ~这个有点扯，新机到货后肯定要调试的，但绝对用不了两年的时间。

1 a7 q1 O: P6 a6 ^5 n" a但干式到浸润的步子没那么大，这说对了吗？

moletronic

晨枫 发表于 2024-9-16 16:39
但干式到浸润的步子没那么大，这说对了吗？

( ]9 ]& ~" _0 W6 z, J8 K
按说这个跨越不算大，但Nikon就是浸水没搞定
所以俺不敢做预测，只敢对已知的做评述

沉宝

晨枫 发表于 2024-9-17 03:34
' y% `5 ?* C/ m9 L* i8 Y不过EUV制作7nm可以轻易一次曝光，产率和良率应该提高很多？

理论上是这样。但制造芯片是个复杂的过程，需要各方面不断打磨，才能接近理想的结果。现实中的例子，台积电用193nm光刻机率先量产7nm，三星则以更先进的EUV光刻机应战，由于对新型光刻机的熟悉不足，结果良率低下，很多人抛弃三星。最后三星赔本赚吆喝，开出比台积电低30%的代工费用，才勉强留下大客户。

晨枫

moletronic 发表于 2024-9-16 20:54
按说这个跨越不算大，但Nikon就是浸水没搞定
) R; B9 E  N5 L+ v* Z所以俺不敢做预测，只敢对已知的做评述 ...

0 M' m1 U) p" A& z有道理。
, {# ^/ q# j6 J
不过现在看尼康和佳能的光刻机，总有感觉他们已经三心二意了。既然干不过阿斯麦，就用最小投资吊着。不退场，但也不全力以赴。

中国肯定是全力以赴的。而且倾国之力肯定大于尼康、佳能。

这会有差别吗？

晨枫

沉宝 发表于 2024-9-16 21:08
; V6 O0 H* w$ r) \" m4 I理论上是这样。但制造芯片是个复杂的过程，需要各方面不断打磨，才能接近理想的结果。现实中的例子，台积 ...

这倒是个问题。都说韩国人拼，看来还是拼不过中国人。台湾人也是中国人嘛。

雷声

moletronic 发表于 2024-9-17 10:54
; |. z2 M! v  N' X) ~按说这个跨越不算大，但Nikon就是浸水没搞定
所以俺不敢做预测，只敢对已知的做评述 ...

还没搞定？
我可能是09年去给Nikon做实验，他们想搞明白光刻机里面为什么会产生微气泡，想买个做实验的系统。我在的小破公司搭了一个，然后过去一起做，看能不能用。那个时候估计还是早期，这些基础的问题都没个数。做了几个实验，证明可以捕捉到微气泡发生，成长和运动的轨迹，我就撤了。这都十五年过去了。
; L0 c; ~! K& \尼康那时候已经有点不灵的迹象，食堂里面睡满了安装队的人。正常的话那些人都是满世界跑给别人装机器的。

晨枫

moletronic 发表于 2024-9-16 20:54
按说这个跨越不算大，但Nikon就是浸水没搞定
所以俺不敢做预测，只敢对已知的做评述 ...

* i( {: \1 @5 n: M突然想起来：现在就聚焦于逻辑芯片，存储芯片用的芯片技术一样吗？前一段听说长江还是谁的128还是256层NAND也被卡了，因为光刻机的事，这说法准确吗？高端NAND需要多少nm节点的光刻机？

雷声

晨枫 发表于 2024-9-17 11:13
( @) Y. ]0 L# K$ h/ p9 E4 E  ?有道理。
4 _4 a8 Z- _5 f1 r& o
不过现在看尼康和佳能的光刻机，总有感觉他们已经三心二意了。既然干不过阿斯麦，就用最小投资 ...

可能是真没钱投资了。这些钱政府应该赞助的，可是政府也难呐，到处都是嗷嗷待哺的嘴，捉了个虫也不知道塞哪张嘴里。
很多年前日本媒体评价日本财政用了很形象的词，叫硬直化。所有的钱都有定好的用处，几乎没有活动钱。需要财政支持的时候十分狼狈。该做的事情做不了，钱全都拿去维持日常运转了。

moletronic

3 O2 z" G6 [1 k: a3 w: Y

雷声 发表于 2024-9-16 19:19
% O5 ~2 F9 x2 S* g  |4 w7 N还没搞定？
我可能是09年去给Nikon做实验，他们想搞明白光刻机里面为什么会产生微气泡，想买个做实验的 ...

Nikon是稳定性不行，被牙膏退货后就没人再买。疫情前去开spie的会，Nikon还吹牛自己行了，但主流客户没人用。
有网上谣言说华为买了些Nikon自己魔改做出了9100…俺比较怀疑真实性。

moletronic

晨枫 发表于 2024-9-16 19:21
9 r8 x0 l2 N7 M8 M& ?突然想起来：现在就聚焦于逻辑芯片，存储芯片用的芯片技术一样吗？前一段听说长江还是谁的128还是256层NA ...

存储和逻辑的工艺重点不一样，节点体系也不同。存储那边现在还没上EUV。

晨枫

moletronic 发表于 2024-9-16 21:31
7 _" D* t- R- \3 x. A存储和逻辑的工艺重点不一样，节点体系也不同。存储那边现在还没上EUV。 ...

$ _: `% j9 S$ l需要用到浸润DUV吗？

  S; H+ Y, o1 }8 f我的问题其实是：65nm光刻机能解决国内NAND厂的设备禁运问题吗？

moletronic

晨枫 发表于 2024-9-16 19:34
/ [8 O( V' ]7 C0 t5 W4 }需要用到浸润DUV吗？
$ Z) t0 X, ]- x- W
3 L! X% Q9 k2 z, I- T: F我的问题其实是：65nm光刻机能解决国内NAND厂的设备禁运问题吗？ ...

浸水还是要的，这国产光刻机按公布的指标应该还是没法满足YMTC的全部要求。

晨枫

雷声 发表于 2024-9-16 21:23
$ h% z7 ]  p% o3 C9 D* w可能是真没钱投资了。这些钱政府应该赞助的，可是政府也难呐，到处都是嗷嗷待哺的嘴，捉了个虫也不知道塞 ...

3 |: N; v  V: a' j% O6 `+ K是的，需要钱的地方太多，但光刻机和芯片可能是不计代价砸钱的方向，优先级比谁都高。这个瓶颈突破后，不只是军事、科技上的阳关道，经济上也是大片的处女地啊。
4 G" A; H0 H$ U  N; E5 l
' Z4 k* Z% R5 l4 \硬直化很形象。确实，西方家大业大，花钱手笔也大，但每一笔钱都预定了用处，活动余地真心很小。你看看美国在预算削减时那个鸡飞狗跳，就知道真是谁都动不得。“平均剃头”是公认的最坏选择，但是唯一大家可接受的选择。

晨枫

moletronic 发表于 2024-9-16 21:37
, x' U8 \! i' A! F! x2 E7 x9 e浸水还是要的，这国产光刻机按公布的指标应该还是没法满足YMTC的全部要求。 ...

) t4 X' A- l7 q# C$ j; d& _, ^都说工信部这光刻机不是浸润式，但193nm光源，65nm分辨率，正好是2*1.44倍，是不是太巧了？

沉宝

moletronic 发表于 2024-9-17 10:54
0 F% g  v" ?, f" }# [) Y  A按说这个跨越不算大，但Nikon就是浸水没搞定
所以俺不敢做预测，只敢对已知的做评述 ...

: k0 c) d- y/ L4 q2 ~具体工作中还是有很多细节要克服。例如曝光时照到光的水会比遮蔽区的水热一点，这个温差会让水的密度不均匀，从而折射率不均匀，影响成像。为了避免温差，必须让水快速流动混合，但又要避免产生漩涡或者析出气泡。水可以把所接触物品上的杂质洗下来，带到晶圆上，形成缺陷。当初ASML搞浸润式光刻机时，在浸液系统上与林本坚团队合作，方案修改了7-8回，耗时两年多才取得满意的结果。

moletronic

' ~( M) _$ W  [3 O$ \$ V

沉宝 发表于 2024-9-16 19:43
具体工作中还是有很多细节要克服。例如曝光时照到光的水会比遮蔽区的水热一点，这个温差会让水的密度不均 ...

这当然不容易，不过两年挺快啦，看看牙膏的10nm……

moletronic

晨枫 发表于 2024-9-16 19:40
都说工信部这光刻机不是浸润式，但193nm光源，65nm分辨率，正好是2*1.44倍，是不是太巧了？ ...

  w( Y: O/ {: f' Z. l) [4 f; q不知道啦，也许是隐晦放风的说法。

hsb

晨枫 发表于 2024-9-17 11:13
" S% A8 c" f8 Y0 K这倒是个问题。都说韩国人拼，看来还是拼不过中国人。台湾人也是中国人嘛。 ...

中国大，各地方人气质不一，各擅胜场。精细活儿江南地方超过东北山东。如此说来，韩国近东北山东，台湾精英是江浙后代。