国产光刻机猜测

老财迷

晨枫 发表于 2024-9-16 14:00
也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！
, \. M+ K! G& z) V9 @# O8 U# i" o
. |( l# g8 |7 U个人感觉：相比于前一阵 ...

7 m5 Y$ X! p1 P* Z

这就要西方好好领教什么叫产能过剩了。

- f& c' }) `7 F3 l/ q# A应该会在5年内实现吧。

- ]4 X1 {% C& D7 j$ T微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）
/ n1 |6 h( w9 y+ H7 K0 b7 J% U24-9-16 23:55
发布于 湖南
来自 微博网页版
6 z, I0 a8 {# N* Z- J啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机
( l  z. G$ c7 ]3 Z. p不是运过来就能直接开工的。
# O& d$ b+ A4 a他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。

0 w* O/ I. u; \这个时间很长，也是我常年说：
% \% n" |8 R% y# ?$ ^* {1 n8 R就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
! A8 {$ A1 Q$ N* |" L' M
现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。
" I% p" L( O* s5 l. A( u" F8 m
简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。
干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）
7 @8 E; c  D6 A' j+ @多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）
2 E1 {" G; N! p8 f1 ^1 c& d但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了
( i1 |! F# O: T
没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。
普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
; p4 F6 I5 {' u' @6 V* x7 ~& w#华为mate70# 也没多久了。

moletronic

老财迷 发表于 2024-9-16 16:06
应该会在5年内实现吧。
$ E2 f# t. W7 v$ S
1 T5 m3 L; d! _  t5 l4 N微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）

这个有点扯，新机到货后肯定要调试的，但绝对用不了两年的时间。

晨枫

moletronic 发表于 2024-9-16 18:15
9 X) D0 h/ Z( C% B1 X6 E这个有点扯，新机到货后肯定要调试的，但绝对用不了两年的时间。

1 ?1 {& O! n( l' J但干式到浸润的步子没那么大，这说对了吗？

moletronic

' M7 \2 G6 \3 n6 g/ a+ ~) B

晨枫 发表于 2024-9-16 16:39
但干式到浸润的步子没那么大，这说对了吗？

; T( X/ [# |$ a& h+ k# V6 f' E
按说这个跨越不算大，但Nikon就是浸水没搞定
所以俺不敢做预测，只敢对已知的做评述

沉宝

晨枫 发表于 2024-9-17 03:34
不过EUV制作7nm可以轻易一次曝光，产率和良率应该提高很多？

理论上是这样。但制造芯片是个复杂的过程，需要各方面不断打磨，才能接近理想的结果。现实中的例子，台积电用193nm光刻机率先量产7nm，三星则以更先进的EUV光刻机应战，由于对新型光刻机的熟悉不足，结果良率低下，很多人抛弃三星。最后三星赔本赚吆喝，开出比台积电低30%的代工费用，才勉强留下大客户。

晨枫

moletronic 发表于 2024-9-16 20:54
按说这个跨越不算大，但Nikon就是浸水没搞定
0 D  x& D& W, U# x/ r4 Q1 b所以俺不敢做预测，只敢对已知的做评述 ...

, i. R& C' S2 x, S有道理。

不过现在看尼康和佳能的光刻机，总有感觉他们已经三心二意了。既然干不过阿斯麦，就用最小投资吊着。不退场，但也不全力以赴。
/ C6 l/ }" j% x8 N2 Q  C/ I
- J  k3 w$ {9 R1 m7 L中国肯定是全力以赴的。而且倾国之力肯定大于尼康、佳能。
! C( G5 h) F7 S7 L: a1 e' i3 p8 S
这会有差别吗？

晨枫

沉宝 发表于 2024-9-16 21:08
理论上是这样。但制造芯片是个复杂的过程，需要各方面不断打磨，才能接近理想的结果。现实中的例子，台积 ...

% E, J& h7 ]1 r$ n* z/ G( @' T# _这倒是个问题。都说韩国人拼，看来还是拼不过中国人。台湾人也是中国人嘛。

雷声

moletronic 发表于 2024-9-17 10:54
* }: K9 d* o6 e$ D* g4 r- L& W按说这个跨越不算大，但Nikon就是浸水没搞定
所以俺不敢做预测，只敢对已知的做评述 ...

% F. ^; |% j2 F' v; h: [; l* B还没搞定？
4 q4 E; q$ B( S+ f7 k* A9 V我可能是09年去给Nikon做实验，他们想搞明白光刻机里面为什么会产生微气泡，想买个做实验的系统。我在的小破公司搭了一个，然后过去一起做，看能不能用。那个时候估计还是早期，这些基础的问题都没个数。做了几个实验，证明可以捕捉到微气泡发生，成长和运动的轨迹，我就撤了。这都十五年过去了。
尼康那时候已经有点不灵的迹象，食堂里面睡满了安装队的人。正常的话那些人都是满世界跑给别人装机器的。
) a( J) c) X8 e1 u* P

晨枫

moletronic 发表于 2024-9-16 20:54
& O5 ~+ u3 a1 m* s! o按说这个跨越不算大，但Nikon就是浸水没搞定
, S5 s1 I2 L9 n" r* C& W所以俺不敢做预测，只敢对已知的做评述 ...

突然想起来：现在就聚焦于逻辑芯片，存储芯片用的芯片技术一样吗？前一段听说长江还是谁的128还是256层NAND也被卡了，因为光刻机的事，这说法准确吗？高端NAND需要多少nm节点的光刻机？

雷声

晨枫 发表于 2024-9-17 11:13
有道理。

& p( X9 f7 `' g& V+ T8 T0 O8 r不过现在看尼康和佳能的光刻机，总有感觉他们已经三心二意了。既然干不过阿斯麦，就用最小投资 ...

可能是真没钱投资了。这些钱政府应该赞助的，可是政府也难呐，到处都是嗷嗷待哺的嘴，捉了个虫也不知道塞哪张嘴里。
很多年前日本媒体评价日本财政用了很形象的词，叫硬直化。所有的钱都有定好的用处，几乎没有活动钱。需要财政支持的时候十分狼狈。该做的事情做不了，钱全都拿去维持日常运转了。

moletronic

雷声 发表于 2024-9-16 19:19
还没搞定？
4 Y5 X2 t* L2 T3 G2 i+ W" y我可能是09年去给Nikon做实验，他们想搞明白光刻机里面为什么会产生微气泡，想买个做实验的 ...

7 P, ?4 g2 h  S2 L
Nikon是稳定性不行，被牙膏退货后就没人再买。疫情前去开spie的会，Nikon还吹牛自己行了，但主流客户没人用。
, d& _; m. ^1 ?1 }1 q% p有网上谣言说华为买了些Nikon自己魔改做出了9100…俺比较怀疑真实性。

moletronic

晨枫 发表于 2024-9-16 19:21
, |( l# D& J8 j3 `, d4 r突然想起来：现在就聚焦于逻辑芯片，存储芯片用的芯片技术一样吗？前一段听说长江还是谁的128还是256层NA ...

存储和逻辑的工艺重点不一样，节点体系也不同。存储那边现在还没上EUV。

晨枫

moletronic 发表于 2024-9-16 21:31
  Y$ j5 m- V# X% O. K7 u存储和逻辑的工艺重点不一样，节点体系也不同。存储那边现在还没上EUV。 ...

. k8 q3 w& a2 R: V+ Y0 K# _: A需要用到浸润DUV吗？
  R9 C) R) Q- k* f, {6 |
3 L% Y1 D1 d- C$ i8 Q+ s( f* S* O我的问题其实是：65nm光刻机能解决国内NAND厂的设备禁运问题吗？

moletronic

晨枫 发表于 2024-9-16 19:34
需要用到浸润DUV吗？
) ~: H1 E& y7 k2 ~
0 g; W! \$ r! N2 u我的问题其实是：65nm光刻机能解决国内NAND厂的设备禁运问题吗？ ...

浸水还是要的，这国产光刻机按公布的指标应该还是没法满足YMTC的全部要求。

晨枫

雷声 发表于 2024-9-16 21:23
- ?" d/ @7 p9 `% A可能是真没钱投资了。这些钱政府应该赞助的，可是政府也难呐，到处都是嗷嗷待哺的嘴，捉了个虫也不知道塞 ...

: U- q  ^' N" ]是的，需要钱的地方太多，但光刻机和芯片可能是不计代价砸钱的方向，优先级比谁都高。这个瓶颈突破后，不只是军事、科技上的阳关道，经济上也是大片的处女地啊。

硬直化很形象。确实，西方家大业大，花钱手笔也大，但每一笔钱都预定了用处，活动余地真心很小。你看看美国在预算削减时那个鸡飞狗跳，就知道真是谁都动不得。“平均剃头”是公认的最坏选择，但是唯一大家可接受的选择。

晨枫

moletronic 发表于 2024-9-16 21:37
, W6 Z0 h) Y; C: \9 z2 K1 A浸水还是要的，这国产光刻机按公布的指标应该还是没法满足YMTC的全部要求。 ...

2 {3 w5 W' t: `7 \都说工信部这光刻机不是浸润式，但193nm光源，65nm分辨率，正好是2*1.44倍，是不是太巧了？

沉宝

moletronic 发表于 2024-9-17 10:54
! @+ y5 H8 @, Z/ d按说这个跨越不算大，但Nikon就是浸水没搞定
, ~+ O; \1 @- n; Y4 ]7 [( b( N所以俺不敢做预测，只敢对已知的做评述 ...

具体工作中还是有很多细节要克服。例如曝光时照到光的水会比遮蔽区的水热一点，这个温差会让水的密度不均匀，从而折射率不均匀，影响成像。为了避免温差，必须让水快速流动混合，但又要避免产生漩涡或者析出气泡。水可以把所接触物品上的杂质洗下来，带到晶圆上，形成缺陷。当初ASML搞浸润式光刻机时，在浸液系统上与林本坚团队合作，方案修改了7-8回，耗时两年多才取得满意的结果。

moletronic

沉宝 发表于 2024-9-16 19:43
具体工作中还是有很多细节要克服。例如曝光时照到光的水会比遮蔽区的水热一点，这个温差会让水的密度不均 ...

这当然不容易，不过两年挺快啦，看看牙膏的10nm……

moletronic

晨枫 发表于 2024-9-16 19:40
都说工信部这光刻机不是浸润式，但193nm光源，65nm分辨率，正好是2*1.44倍，是不是太巧了？ ...

5 C" j9 |9 n1 \5 V( F不知道啦，也许是隐晦放风的说法。

hsb

晨枫 发表于 2024-9-17 11:13
这倒是个问题。都说韩国人拼，看来还是拼不过中国人。台湾人也是中国人嘛。 ...

中国大，各地方人气质不一，各擅胜场。精细活儿江南地方超过东北山东。如此说来，韩国近东北山东，台湾精英是江浙后代。