TA的每日心情 | 慵懒 2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:00
- S# W: V3 U& n7 }也就是说,即使28nm现在还有光刻机瓶颈,其他也都就绪、只欠东风了。这是好事!
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个人感觉:相比于前一阵 ...
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3 Q; k' e3 {) r应该会在5年内实现吧。
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微博上有位“沉睡之书11”说的。(不一定准确,可以看看)
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发布于 湖南; l9 Q0 ?( M; K# s3 b2 a; g
来自 微博网页版
! R1 l: t [0 K O( H啊,说过很多次了,#光刻机# 不是挖机
" ]4 p; V2 @7 Y5 o7 E不是运过来就能直接开工的。) l2 ?8 o) Z: `
他需要调试,需要不断的用,一边用一边调整,等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。% g5 O% N; @; e! c% j3 i! h
" J7 ]0 {1 y! ]+ [: c. S' S这个时间很长,也是我常年说:
; l( w) z/ a( |+ S4 H就算今天ASML传送一台EUV给咱,我们拿到第一批量产的芯片流片完(无论7nm,5nm还是多少)起码2年后——这最乐观的2年时间,还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
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8 M5 j* z7 e& Z$ O' x现在发布的这台机器是起码3年前就验收了(科工),现在工信部验收推广(产业链),成熟得不行了才拿出来的。你需要,给钱就有,不限量。: Y" h0 a5 f( b7 C0 V3 k6 K
4 \4 h5 w0 E1 t) ], l/ q9 \9 o' L简单理解就是——这机子是干式光刻机,做的是65-55nm的芯片,一次曝光。1 S' U4 @* f7 e* x
干式光刻机没啥意义,为什么呢?因为改进之后的也可以出产低制程的,向下兼容并且良率更高(成本低方案成熟)4 u0 H3 | y2 [. h, ]' w
多重曝光也不是这哥们来做……(我是不清楚干式光刻机有没人搞这个)
) w! c+ ]( i7 M& {. Z# s+ R. C8 Z但这玩意的光路设计啥的,是成型了的。有了它,就加浸没式透镜,修改物镜,最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机,但起码上线了2年了
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没公布的那个肯定还在不断的调试,修改,更换国产配件。
# {8 Q3 }# g1 t5 {# I0 P z7 ?普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
; R9 E/ t: M7 I9 H#华为mate70# 也没多久了。
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