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楼主: moletronic
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[科普知识] 国产光刻机猜测

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  • TA的每日心情
    慵懒
    2022-8-27 22:14
  • 签到天数: 351 天

    [LV.8]合体

    21#
    发表于 2024-9-17 08:06:46 | 只看该作者
    晨枫 发表于 2024-9-16 14:00
    " z2 t: H* s  Q1 }( k也就是说,即使28nm现在还有光刻机瓶颈,其他也都就绪、只欠东风了。这是好事!2 E* d4 `& ^/ A3 ]  J" g1 ]
    2 C9 y$ A/ M3 V% O
    个人感觉:相比于前一阵 ...
    ! k9 @6 Z! e) h8 ~9 s

    + i+ _2 w1 e( y5 G5 s/ `$ n0 T
    这就要西方好好领教什么叫产能过剩了。

    3 j5 u8 ]2 R/ u" G  {应该会在5年内实现吧。. U+ ^/ L9 z6 K$ S8 k

    , P  W; w; l! G& q; E4 ^微博上有位“沉睡之书11”说的。(不一定准确,可以看看)
    : Z7 H  a2 }3 ^" S8 U24-9-16 23:55
    ! ?9 a0 M5 e" C" M发布于 湖南
    " X  l1 O, ~9 J% x来自 微博网页版
    . t8 P: ]$ ?/ T; e啊,说过很多次了,#光刻机# 不是挖机
    0 Z0 U! [4 P9 ^4 L! n/ h' f不是运过来就能直接开工的。; p' m  L: b2 O( a
    他需要调试,需要不断的用,一边用一边调整,等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。
    . c. i- p! ^3 Z0 U9 {8 `7 s# m) z4 I
    这个时间很长,也是我常年说:
    : p2 b/ s1 l- k6 `5 ]就算今天ASML传送一台EUV给咱,我们拿到第一批量产的芯片流片完(无论7nm,5nm还是多少)起码2年后——这最乐观的2年时间,还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
    1 M3 U! K1 F5 U, B6 M
    " f  r& s/ e$ t* D现在发布的这台机器是起码3年前就验收了(科工),现在工信部验收推广(产业链),成熟得不行了才拿出来的。你需要,给钱就有,不限量。
    4 H- S% F) K& y: m& D9 l6 H: |& _! J% K8 ?& d# k2 J& F
    简单理解就是——这机子是干式光刻机,做的是65-55nm的芯片,一次曝光。! E) O  E6 p6 W
    干式光刻机没啥意义,为什么呢?因为改进之后的也可以出产低制程的,向下兼容并且良率更高(成本低方案成熟)" }) l. \2 K! O& t$ f
    多重曝光也不是这哥们来做……(我是不清楚干式光刻机有没人搞这个)
    ( O6 ]8 S  y( C% l. w; R* Q但这玩意的光路设计啥的,是成型了的。有了它,就加浸没式透镜,修改物镜,最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机,但起码上线了2年了
    + \7 A* H' o$ E# }# X2 E9 e6 d& ^3 t2 O! j
    没公布的那个肯定还在不断的调试,修改,更换国产配件。
    ) B& q. u6 |4 ~0 L' w! _# p普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。- G$ }- w  j/ Q) Y# b
    #华为mate70# 也没多久了。
    - m2 g( U/ D5 z7 J- e# V

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    这真是极好的: 5.0
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      发表于 2024-9-18 15:38
    给力: 5 涨姿势: 5 这真是极好的: 5
      发表于 2024-9-17 08:38
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  • TA的每日心情
    开心
    2023-2-8 04:51
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    [LV.Master]无

    22#
     楼主| 发表于 2024-9-17 08:15:36 | 只看该作者
    老财迷 发表于 2024-9-16 16:06
    , V9 s+ F. w, T8 _$ p应该会在5年内实现吧。
    ! C2 h! x1 U3 i2 G* \5 Z+ J$ t7 {  U- l% c5 F
    微博上有位“沉睡之书11”说的。(不一定准确,可以看看)

    % W9 ?! W2 g1 n$ F) @9 K
    # Q5 j) t# e2 n# l) Y# U3 Y# q+ \这个有点扯,新机到货后肯定要调试的,但绝对用不了两年的时间。

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    以你说的为准 :)  发表于 2024-9-17 15:27

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    23#
    发表于 2024-9-17 08:39:20 | 只看该作者
    moletronic 发表于 2024-9-16 18:15
    4 t8 Q. b+ L3 g, ~这个有点扯,新机到货后肯定要调试的,但绝对用不了两年的时间。

    1 a7 q1 O: P6 a6 ^5 n" a但干式到浸润的步子没那么大,这说对了吗?
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  • TA的每日心情
    开心
    2023-2-8 04:51
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    [LV.Master]无

    24#
     楼主| 发表于 2024-9-17 10:54:17 | 只看该作者
    本帖最后由 moletronic 于 2024-9-16 18:56 编辑 / Q( {' d; O" j" J
    晨枫 发表于 2024-9-16 16:39  O) Q8 q, f& v! u5 O+ z
    但干式到浸润的步子没那么大,这说对了吗?

    ( ]9 ]& ~" _0 W6 z, J8 K& j, I# i7 Y' G
    按说这个跨越不算大,但Nikon就是浸水没搞定2 r1 w3 P& X3 O
    所以俺不敢做预测,只敢对已知的做评述

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    25#
    发表于 2024-9-17 11:08:25 | 只看该作者
    晨枫 发表于 2024-9-17 03:34
    ' y% `5 ?* C/ m9 L* i8 Y不过EUV制作7nm可以轻易一次曝光,产率和良率应该提高很多?
    ; `% k! Y1 X1 U1 s
    理论上是这样。但制造芯片是个复杂的过程,需要各方面不断打磨,才能接近理想的结果。现实中的例子,台积电用193nm光刻机率先量产7nm,三星则以更先进的EUV光刻机应战,由于对新型光刻机的熟悉不足,结果良率低下,很多人抛弃三星。最后三星赔本赚吆喝,开出比台积电低30%的代工费用,才勉强留下大客户。

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      发表于 2024-9-17 15:28

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    26#
    发表于 2024-9-17 11:13:01 | 只看该作者
    moletronic 发表于 2024-9-16 20:54( ~) h5 b* g- w" s. o& f8 B7 Y
    按说这个跨越不算大,但Nikon就是浸水没搞定
    ) R; B9 E  N5 L+ v* Z所以俺不敢做预测,只敢对已知的做评述 ...

    0 M' m1 U) p" A& z有道理。
    , {# ^/ q# j6 J3 s& j8 P8 ?1 i! m! G
    不过现在看尼康和佳能的光刻机,总有感觉他们已经三心二意了。既然干不过阿斯麦,就用最小投资吊着。不退场,但也不全力以赴。/ h' p6 H, K7 D7 a. J+ P0 k; R4 |
    ' u- r/ }. q: ]' i
    中国肯定是全力以赴的。而且倾国之力肯定大于尼康、佳能。. L8 r2 X: X3 g+ B
    # f: B# j5 x  m* t$ Y& y- V
    这会有差别吗?
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    27#
    发表于 2024-9-17 11:13:37 | 只看该作者
    沉宝 发表于 2024-9-16 21:08
    ; V6 O0 H* w$ r) \" m4 I理论上是这样。但制造芯片是个复杂的过程,需要各方面不断打磨,才能接近理想的结果。现实中的例子,台积 ...
    # w: b9 C- `2 J+ V
    这倒是个问题。都说韩国人拼,看来还是拼不过中国人。台湾人也是中国人嘛。
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    28#
    发表于 2024-9-17 11:19:08 | 只看该作者
    moletronic 发表于 2024-9-17 10:54
    ; |. z2 M! v  N' X) ~按说这个跨越不算大,但Nikon就是浸水没搞定0 F7 [; U+ ~  y
    所以俺不敢做预测,只敢对已知的做评述 ...
    + L6 D* Q  n0 N5 u( I) ~
    还没搞定? / M# S/ o) ?( G* c4 J  S/ S
    我可能是09年去给Nikon做实验,他们想搞明白光刻机里面为什么会产生微气泡,想买个做实验的系统。我在的小破公司搭了一个,然后过去一起做,看能不能用。那个时候估计还是早期,这些基础的问题都没个数。做了几个实验,证明可以捕捉到微气泡发生,成长和运动的轨迹,我就撤了。这都十五年过去了。
    ; L0 c; ~! K& \尼康那时候已经有点不灵的迹象,食堂里面睡满了安装队的人。正常的话那些人都是满世界跑给别人装机器的。) B3 o7 O: O5 B$ r& c/ b" e* A

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    坛里藏龙卧虎啊  发表于 2024-9-17 15:31

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    29#
    发表于 2024-9-17 11:21:47 | 只看该作者
    moletronic 发表于 2024-9-16 20:545 D5 W1 H) ?" Y; s1 r/ i4 E
    按说这个跨越不算大,但Nikon就是浸水没搞定( e2 A& c( }3 s' {2 P3 s" t& H
    所以俺不敢做预测,只敢对已知的做评述 ...

    * i( {: \1 @5 n: M突然想起来:现在就聚焦于逻辑芯片,存储芯片用的芯片技术一样吗?前一段听说长江还是谁的128还是256层NAND也被卡了,因为光刻机的事,这说法准确吗?高端NAND需要多少nm节点的光刻机?
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    30#
    发表于 2024-9-17 11:23:33 | 只看该作者
    晨枫 发表于 2024-9-17 11:13
    ( @) Y. ]0 L# K$ h/ p9 E4 E  ?有道理。
    4 _4 a8 Z- _5 f1 r& o" m. N! m" ^% K( C$ \2 y" g; O
    不过现在看尼康和佳能的光刻机,总有感觉他们已经三心二意了。既然干不过阿斯麦,就用最小投资 ...
    / m7 E! n: D: Z. c% z4 R, i: L
    可能是真没钱投资了。这些钱政府应该赞助的,可是政府也难呐,到处都是嗷嗷待哺的嘴,捉了个虫也不知道塞哪张嘴里。8 @& u0 s# g/ [# R  I8 m
    很多年前日本媒体评价日本财政用了很形象的词,叫硬直化。所有的钱都有定好的用处,几乎没有活动钱。需要财政支持的时候十分狼狈。该做的事情做不了,钱全都拿去维持日常运转了。

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      发表于 2024-9-17 15:32

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    31#
     楼主| 发表于 2024-9-17 11:28:54 | 只看该作者
    本帖最后由 moletronic 于 2024-9-16 19:33 编辑
    3 O2 z" G6 [1 k: a3 w: Y
    雷声 发表于 2024-9-16 19:19
    % O5 ~2 F9 x2 S* g  |4 w7 N还没搞定? : @: e1 {/ m( K4 m% L+ x- U
    我可能是09年去给Nikon做实验,他们想搞明白光刻机里面为什么会产生微气泡,想买个做实验的 ...
    2 w2 L: M$ b7 u3 |
    # Y& O5 S% e" b8 @; q; |
    Nikon是稳定性不行,被牙膏退货后就没人再买。疫情前去开spie的会,Nikon还吹牛自己行了,但主流客户没人用。) t' b" T4 V! |6 J, z7 s
    有网上谣言说华为买了些Nikon自己魔改做出了9100…俺比较怀疑真实性。
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    32#
     楼主| 发表于 2024-9-17 11:31:01 | 只看该作者
    晨枫 发表于 2024-9-16 19:21
    9 r8 x0 l2 N7 M8 M& ?突然想起来:现在就聚焦于逻辑芯片,存储芯片用的芯片技术一样吗?前一段听说长江还是谁的128还是256层NA ...
    * F' w9 F8 m( n
    存储和逻辑的工艺重点不一样,节点体系也不同。存储那边现在还没上EUV。
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    33#
    发表于 2024-9-17 11:34:00 | 只看该作者
    moletronic 发表于 2024-9-16 21:31
    7 _" D* t- R- \3 x. A存储和逻辑的工艺重点不一样,节点体系也不同。存储那边现在还没上EUV。 ...

    $ _: `% j9 S$ l需要用到浸润DUV吗?- G$ u) w( s3 O! J, }

      S; H+ Y, o1 }8 f我的问题其实是:65nm光刻机能解决国内NAND厂的设备禁运问题吗?
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  • TA的每日心情
    开心
    2023-2-8 04:51
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    34#
     楼主| 发表于 2024-9-17 11:37:50 | 只看该作者
    晨枫 发表于 2024-9-16 19:34
    / [8 O( V' ]7 C0 t5 W4 }需要用到浸润DUV吗?
    $ Z) t0 X, ]- x- W
    3 L! X% Q9 k2 z, I- T: F我的问题其实是:65nm光刻机能解决国内NAND厂的设备禁运问题吗? ...
    2 i3 S+ k  p# _4 w
    浸水还是要的,这国产光刻机按公布的指标应该还是没法满足YMTC的全部要求。
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    35#
    发表于 2024-9-17 11:38:06 | 只看该作者
    雷声 发表于 2024-9-16 21:23
    $ h% z7 ]  p% o3 C9 D* w可能是真没钱投资了。这些钱政府应该赞助的,可是政府也难呐,到处都是嗷嗷待哺的嘴,捉了个虫也不知道塞 ...

    3 |: N; v  V: a' j% O6 `+ K是的,需要钱的地方太多,但光刻机和芯片可能是不计代价砸钱的方向,优先级比谁都高。这个瓶颈突破后,不只是军事、科技上的阳关道,经济上也是大片的处女地啊。
    4 G" A; H0 H$ U  N; E5 l
    ' Z4 k* Z% R5 l4 \硬直化很形象。确实,西方家大业大,花钱手笔也大,但每一笔钱都预定了用处,活动余地真心很小。你看看美国在预算削减时那个鸡飞狗跳,就知道真是谁都动不得。“平均剃头”是公认的最坏选择,但是唯一大家可接受的选择。
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    36#
    发表于 2024-9-17 11:40:47 | 只看该作者
    moletronic 发表于 2024-9-16 21:37
    , x' U8 \! i' A! F! x2 E7 x9 e浸水还是要的,这国产光刻机按公布的指标应该还是没法满足YMTC的全部要求。 ...

    ) t4 X' A- l7 q# C$ j; d& _, ^都说工信部这光刻机不是浸润式,但193nm光源,65nm分辨率,正好是2*1.44倍,是不是太巧了?
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    37#
    发表于 2024-9-17 11:43:29 | 只看该作者
    moletronic 发表于 2024-9-17 10:54
    0 F% g  v" ?, f" }# [) Y  A按说这个跨越不算大,但Nikon就是浸水没搞定, F) F" R+ H' D7 W
    所以俺不敢做预测,只敢对已知的做评述 ...

    : k0 c) d- y/ L4 q2 ~具体工作中还是有很多细节要克服。例如曝光时照到光的水会比遮蔽区的水热一点,这个温差会让水的密度不均匀,从而折射率不均匀,影响成像。为了避免温差,必须让水快速流动混合,但又要避免产生漩涡或者析出气泡。水可以把所接触物品上的杂质洗下来,带到晶圆上,形成缺陷。当初ASML搞浸润式光刻机时,在浸液系统上与林本坚团队合作,方案修改了7-8回,耗时两年多才取得满意的结果。

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  • TA的每日心情
    开心
    2023-2-8 04:51
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    38#
     楼主| 发表于 2024-9-17 11:59:49 | 只看该作者
    本帖最后由 moletronic 于 2024-9-16 20:02 编辑
    ' ~( M) _$ W  [3 O$ \$ V
    沉宝 发表于 2024-9-16 19:43; I; X( h6 S% ^$ l$ A4 [$ O. F
    具体工作中还是有很多细节要克服。例如曝光时照到光的水会比遮蔽区的水热一点,这个温差会让水的密度不均 ...
    ! T% [; X, D. N% w- z. s, r
    + w$ i% u. d  N3 r
    这当然不容易,不过两年挺快啦,看看牙膏的10nm……
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  • TA的每日心情
    开心
    2023-2-8 04:51
  • 签到天数: 1811 天

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    39#
     楼主| 发表于 2024-9-17 12:01:58 | 只看该作者
    晨枫 发表于 2024-9-16 19:40) H$ s$ n( U& Q: c( j
    都说工信部这光刻机不是浸润式,但193nm光源,65nm分辨率,正好是2*1.44倍,是不是太巧了? ...

      w( Y: O/ {: f' Z. l) [4 f; q不知道啦,也许是隐晦放风的说法。
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    40#
    发表于 2024-9-17 17:38:39 | 只看该作者
    晨枫 发表于 2024-9-17 11:13
    " S% A8 c" f8 Y0 K这倒是个问题。都说韩国人拼,看来还是拼不过中国人。台湾人也是中国人嘛。 ...
    . F/ N& K8 Y& k: C1 B
    中国大,各地方人气质不一,各擅胜场。精细活儿江南地方超过东北山东。如此说来,韩国近东北山东,台湾精英是江浙后代。
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