TA的每日心情 | 慵懒 2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:00. m/ K- [/ c) \4 I a/ q/ K
也就是说,即使28nm现在还有光刻机瓶颈,其他也都就绪、只欠东风了。这是好事!4 q% y4 b- o! s8 ?" O6 q- G
$ V! }* p$ a) {+ h$ \& P8 k个人感觉:相比于前一阵 ...
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9 K) J0 m! f; o4 v: e2 a应该会在5年内实现吧。
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微博上有位“沉睡之书11”说的。(不一定准确,可以看看)" g& {# ~1 f) x9 V
24-9-16 23:55
; E8 e3 ?5 n# Z1 W/ q) g8 u! y9 z发布于 湖南: p$ ]9 K! M6 E: p4 B5 ]2 R5 `
来自 微博网页版
2 N& S2 E3 G8 l* W9 P啊,说过很多次了,#光刻机# 不是挖机8 A2 R! u' k3 J1 M! x! o
不是运过来就能直接开工的。
- }4 i: r( F1 y/ X3 P/ c2 w他需要调试,需要不断的用,一边用一边调整,等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。7 n3 F0 C7 Z; Q/ [6 v
+ F9 f% |' l. V% @& q. X这个时间很长,也是我常年说:
]- X! \ \8 s, _" M- o# o就算今天ASML传送一台EUV给咱,我们拿到第一批量产的芯片流片完(无论7nm,5nm还是多少)起码2年后——这最乐观的2年时间,还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
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现在发布的这台机器是起码3年前就验收了(科工),现在工信部验收推广(产业链),成熟得不行了才拿出来的。你需要,给钱就有,不限量。( `5 X# e* ~+ ~' t5 J6 G) B1 @
( g% p8 v% t- A7 b4 \6 d) \简单理解就是——这机子是干式光刻机,做的是65-55nm的芯片,一次曝光。
, `/ E+ P2 M! R+ J' x$ c干式光刻机没啥意义,为什么呢?因为改进之后的也可以出产低制程的,向下兼容并且良率更高(成本低方案成熟)
* `+ g3 C1 ?* O多重曝光也不是这哥们来做……(我是不清楚干式光刻机有没人搞这个)) m9 O+ X" |9 K/ C
但这玩意的光路设计啥的,是成型了的。有了它,就加浸没式透镜,修改物镜,最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机,但起码上线了2年了4 o. |- O$ v& P u" t* p5 ]8 r
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没公布的那个肯定还在不断的调试,修改,更换国产配件。
0 V9 O c; F( q5 l) f) n普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
7 {; [1 S! i* w. N; Z( X#华为mate70# 也没多久了。
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