TA的每日心情 | 慵懒
2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:002 e3 V* v7 g0 E' P" W
也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！, \: d5 U, R K# G, G, f6 A
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个人感觉：相比于前一阵 ...
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应该会在5年内实现吧。) [2 `2 K# L. y$ o8 S* U6 b
$ m6 p) ~/ U7 \0 F- e微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）9 Q3 h0 v. r8 W$ y3 x/ A
24-9-16 23:55
8 {& E7 {0 P, A- `5 o发布于 湖南
/ m2 T" [4 b3 E" K4 I. P8 [) e0 l, a来自 微博网页版
3 t5 I$ k3 a* _& u啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机& C2 Y6 J& }* B; R- B/ P0 E& t
不是运过来就能直接开工的。
; l$ n, X3 S6 y" g$ J他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。
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/ |: R" S2 S6 J( M# q这个时间很长，也是我常年说：
( M& B+ v+ j0 s3 }3 e# k* l就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
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现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。
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/ E) \# P9 S$ p/ m6 T, O简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。* d; R% k: c3 [) `- k
干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）
6 \( m2 c0 |) k. H4 g; T1 P" s/ g多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）) X2 U7 t5 d% J* j) Q; w& g
但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了) @8 \. Q8 }3 M
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没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。1 h8 n. V+ Y7 J4 k+ ] Q" Y
普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
+ p. `) v. t) B#华为mate70# 也没多久了。
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雷达卡
发表于 2024-9-17 08:06:46
显身卡
楼主
发表于 2024-9-17 08:39:20