TA的每日心情 | 慵懒 2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:00' o+ I2 O% w% x# e W2 s% ^) u& y8 F4 O
也就是说,即使28nm现在还有光刻机瓶颈,其他也都就绪、只欠东风了。这是好事!
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9 {6 y( f) p0 b3 m `个人感觉:相比于前一阵 ... / |0 `1 t* [! s% e( }
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8 u+ ~! y6 c% E( z3 C2 c, z; N应该会在5年内实现吧。
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微博上有位“沉睡之书11”说的。(不一定准确,可以看看): X. O" b& W0 Q+ `% |! O
24-9-16 23:55
! J* G# K; K* Q+ ]# v发布于 湖南4 ^, G0 \. T; C; J$ T3 _
来自 微博网页版
& n$ p' I5 L" z( l [7 d" M/ U啊,说过很多次了,#光刻机# 不是挖机
, G8 {3 B. E3 P; D; ^5 u! S1 h3 G不是运过来就能直接开工的。
8 J) J; x% \, {6 Y% b他需要调试,需要不断的用,一边用一边调整,等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。
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3 U S7 ^2 j% E) i) v$ C这个时间很长,也是我常年说:
* a2 n; v+ t, `, y0 h, k- G就算今天ASML传送一台EUV给咱,我们拿到第一批量产的芯片流片完(无论7nm,5nm还是多少)起码2年后——这最乐观的2年时间,还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
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5 F5 G3 c3 e$ i' n! L( U# A) i现在发布的这台机器是起码3年前就验收了(科工),现在工信部验收推广(产业链),成熟得不行了才拿出来的。你需要,给钱就有,不限量。" w, p9 T D3 e( t6 `
/ L: G9 t$ E$ f7 ~1 W简单理解就是——这机子是干式光刻机,做的是65-55nm的芯片,一次曝光。, ^2 O$ v7 F2 D9 p* a
干式光刻机没啥意义,为什么呢?因为改进之后的也可以出产低制程的,向下兼容并且良率更高(成本低方案成熟)5 A8 w3 \/ K r& |
多重曝光也不是这哥们来做……(我是不清楚干式光刻机有没人搞这个)
4 b* O1 u. j. U5 _但这玩意的光路设计啥的,是成型了的。有了它,就加浸没式透镜,修改物镜,最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机,但起码上线了2年了
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% ~/ ]4 r" B) |7 d+ K7 a* Y没公布的那个肯定还在不断的调试,修改,更换国产配件。
* Z, b- ]0 x; V3 ?) ?普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。* g& R$ c5 @! M P- k- {* i
#华为mate70# 也没多久了。
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