TA的每日心情 | 慵懒
2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:00
) n+ t( ]8 r& h9 X4 L也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！
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5 ^" a }& G# k个人感觉：相比于前一阵 ...
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应该会在5年内实现吧。
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" R0 }0 B! E, z4 Q微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）
" k, j. r3 p+ G, A, n/ @24-9-16 23:55
O0 h0 u' r, x7 n; g. i发布于 湖南
' j+ c8 j1 M2 }: [: L来自 微博网页版
' m) u; M7 C' |/ c啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机% r: |6 l) c$ Z$ j, M
不是运过来就能直接开工的。6 E8 b& e8 c2 d/ A
他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。$ d$ F8 L- m) [
/ e& A! x& a/ B/ P2 m6 H k8 _这个时间很长，也是我常年说：
5 w; U6 R3 g H* P9 i8 K! L$ @就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
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现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。
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简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。
$ H2 F9 L9 W) h& E3 C% h. Y: S干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）
. z1 G6 x+ d) j' t) D' U多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）
" |/ F8 D4 H9 w5 A9 B7 v但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了) T; ?6 _$ \/ Q* }" E* U
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没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。
& |2 G, G+ Q1 y2 C( F K普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。/ M, H# \) d$ F$ z7 k* _- c9 u: x
#华为mate70# 也没多久了。
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雷达卡
发表于 2024-9-17 08:06:46
显身卡
楼主
发表于 2024-9-17 08:39:20