TA的每日心情 | 慵懒
2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:00
$ j; d' @# U# Z# ^! D k: c, v也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！# c- u- w q. F7 h4 P5 H3 ^- Y! L8 S
+ X$ o2 P$ u* Y; q个人感觉：相比于前一阵 ...
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7 h! A; i* C# {; s' R) O应该会在5年内实现吧。
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微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）
: e: l, g. x! c24-9-16 23:552 c7 `$ A# s2 F4 B
发布于 湖南& q2 x t D6 m4 a
来自 微博网页版
" s; h) `% ~: U5 I3 M* H啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机
% }& u; q3 d0 X3 a0 M不是运过来就能直接开工的。
) |6 r' w1 j7 Y0 B- M他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。
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这个时间很长，也是我常年说：7 Q, q& {1 [, L: }
就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
) E2 @; y" \) Z9 Z7 e$ S5 G. Z+ ]& S0 }
现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。
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5 T" m6 i. q5 x) Q f简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。! ]& i" e& G8 T- e. j0 B0 e5 ]
干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）. X- _" C1 T- k& r- {: l8 H
多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）9 `8 @% k. A# r/ x
但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了
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% e0 x' ~% O( P @4 W" M$ E没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。! t" j! Z, t' D) {6 h
普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
6 ]5 Y. i8 K% [* R, F5 z9 l: Y" y#华为mate70# 也没多久了。
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雷达卡
发表于 2024-9-17 08:06:46
显身卡
楼主
发表于 2024-9-17 08:39:20