TA的每日心情 | 慵懒
2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:000 N6 B, ?, a5 K- k3 P1 E
也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！
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" u! x* k2 }% V2 e$ W个人感觉：相比于前一阵 ...
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应该会在5年内实现吧。2 _- r& e% U L! X
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微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）
9 G2 T: x4 e& [+ S9 S4 @24-9-16 23:55
1 z" P- b3 Z! w发布于 湖南) I6 V: d8 X" L* L. T
来自 微博网页版
0 Q( v4 g& g# B, D: W l: [) v啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机$ ~3 N/ V5 k i; c0 z
不是运过来就能直接开工的。% x" a6 z9 k1 }) K7 l9 S0 K) w4 k
他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。) v, p& r, [' F0 o
" e [3 K& o7 v1 d( b D这个时间很长，也是我常年说：# E/ A! i8 W# P/ a- N, Z
就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。3 {3 y) f: U- f* M. R9 p6 k* h
+ s6 K8 V' ~7 q: q# m现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。! a; ]' E6 ^& f
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简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。
9 h# d4 k0 Q3 Q% p: y0 \/ \: b干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）
2 d0 j' z/ l9 ? m/ ~多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）/ Y' V! ~& W: ] T9 Y \, ~4 S, l- {
但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了
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4 J# P3 [ J2 O) o6 d没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。
% r* B D. O) E+ n普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
) s4 F% E4 J4 u2 H! E# `: B! @#华为mate70# 也没多久了。3 @5 @( S0 c/ B1 B; S j
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雷达卡
发表于 2024-9-17 08:06:46
显身卡
楼主
发表于 2024-9-17 08:39:20