TA的每日心情 | 慵懒
2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:00
( N1 C6 S2 K M+ _也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！
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个人感觉：相比于前一阵 ...
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/ [. Z+ k8 I0 |; i. e1 T, r* @应该会在5年内实现吧。
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微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）
3 ^( @& _" A2 a6 A1 k6 v+ n24-9-16 23:55* f7 R- Y/ A5 S- J3 T$ u& T% j
发布于 湖南/ T5 x, y8 t( l2 m
来自 微博网页版! T! X6 ?' x" i: i3 Z
啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机
; ]% o' l; A- `1 ~- r不是运过来就能直接开工的。
- C/ E" l; n: j他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。% q! I( _+ B- k$ E7 D5 i# Z
1 ^- m0 O; F' @" P这个时间很长，也是我常年说：
2 v: c5 S; X! q5 G. T就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
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* o7 k5 O' X* k& L o* y* f现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。8 i+ m9 z& o3 t0 |( B: R
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简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。; p1 p# V: m p+ Q
干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）
( ~4 _1 v" d; J. _, @/ _$ j+ N0 z多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）
: k: g5 a/ C2 R* B但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了8 p( T7 y# O$ t, H2 p" ]
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没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。) o$ i* }) V( @4 a
普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
6 E5 K- V: j8 g% Q#华为mate70# 也没多久了。
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雷达卡
发表于 2024-9-17 08:06:46
显身卡
楼主
发表于 2024-9-17 08:39:20