TA的每日心情 | 慵懒
2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:00" m/ S5 S* i3 n; Y, m1 D! h
也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！% z; @. u) {0 Y. g+ \! F+ R
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个人感觉：相比于前一阵 ...
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应该会在5年内实现吧。, R$ A. b; w. X1 [# j2 ?8 f
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微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）0 \6 }, M- S5 i8 ?. Q( C
24-9-16 23:55" _* }9 K* w$ q' {- p. I0 c
发布于 湖南, w6 Q: i& e A, O9 N
来自 微博网页版
( Z# ]; U+ ?* m F+ Y3 o4 Q啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机
8 C# k: r. M: o1 k不是运过来就能直接开工的。& a* f- p$ |% @- V |6 T, |
他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。
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4 K4 ^: ?- N& K- ^8 r6 H这个时间很长，也是我常年说：
* q5 H1 @9 M5 r9 _, w" e1 U. h就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
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- T! } ?# }3 ]; B! q) R现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。# k2 X* ^7 A9 U) `2 z* Z) G
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简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。
0 n+ `, e; Q- T, I- P1 T0 L0 K干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）# v* h3 |; E1 E9 a8 v( b
多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）' v/ R J0 j% \. S8 w+ m
但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了
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' |- ^1 `0 R; \& M$ {2 |- h5 }" K没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。
2 ?! ?$ W( c |普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
7 u3 z2 T0 s5 K# C! P$ c#华为mate70# 也没多久了。
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雷达卡
发表于 2024-9-17 08:06:46
显身卡
楼主
发表于 2024-9-17 08:39:20