TA的每日心情 | 慵懒
2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:00
) ?! b5 l* m0 x* v) n5 ~: m也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！0 u3 R: b5 p N/ c0 ?
3 z& m9 h/ w1 D' _$ y; y2 l1 g% o个人感觉：相比于前一阵 ...
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应该会在5年内实现吧。
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微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）
+ ^5 d6 y( l" f$ {4 i; J24-9-16 23:550 o: d& }* M: x- o, D
发布于 湖南3 W5 j c0 y2 k7 q; C* z
来自 微博网页版0 v0 x/ w3 g- v9 z$ H( Y
啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机
4 p2 ^# H4 A; b不是运过来就能直接开工的。
4 ~* }$ T/ O" o! Y! X* r# v0 s他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。
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! \# O4 P' S5 k这个时间很长，也是我常年说：
: S; A8 c, r" z$ w就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
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现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。
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简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。1 q4 f4 ?- X; L; t1 I; U
干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）5 @' H4 i0 m" K& M$ M) M( O
多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）) i. ]2 G0 C# @0 O7 {/ j* w
但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了
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) ]% q3 q* }) x% u1 H) {( j4 T没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。
% a) N& s1 o; q( n& f o普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
7 [& w+ t* P, u1 r4 `1 Q#华为mate70# 也没多久了。+ @5 _) V% N' e2 h4 s. s
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雷达卡
发表于 2024-9-17 08:06:46
显身卡
楼主
发表于 2024-9-17 08:39:20