TA的每日心情 | 慵懒
2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:00
! ?- v* ~) \5 X1 v: {也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！
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个人感觉：相比于前一阵 ...
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) ^; b8 ]3 D0 j; w* w6 M' B( m应该会在5年内实现吧。& b; r4 z8 r3 [$ m) i
! N1 |/ v( i' t; ~- V* q5 h C微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）
! w) ?: T; ?+ O1 C6 Q8 {24-9-16 23:55
" h F4 v( R5 l2 H发布于 湖南% M1 q' ~% m+ u, _# {- k3 T, e
来自 微博网页版
0 L1 D2 g# P! k啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机( b+ Q+ @# z/ F
不是运过来就能直接开工的。: _! h0 i Z3 ?5 v
他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。
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这个时间很长，也是我常年说：
5 x9 | E5 a! W5 G就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
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) E9 ~* f2 M$ U* ]2 | g$ n, e现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。
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9 E* q8 E5 M; ^* Y简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。( [& f# H, }- L( q
干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）/ l+ a2 t% D; M/ }- G
多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）' X8 i9 I: {- K V# B
但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了
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没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。' ^3 t# s3 W0 F/ A& c# V# T6 c. r
普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
3 L h& Q% |/ f. r3 K#华为mate70# 也没多久了。
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雷达卡
发表于 2024-9-17 08:06:46
显身卡
楼主
发表于 2024-9-17 08:39:20