TA的每日心情 | 慵懒
2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:006 D n# W7 n M
也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！5 [* x- [! D: y. _2 ~. Z
3 V5 o( |' d+ s* C个人感觉：相比于前一阵 ...
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. _0 D' O: i* ~5 p. [7 e8 n7 k# `0 {" L* Q
应该会在5年内实现吧。& l" V! O+ f0 L# e. X
/ E3 T* o( E% X$ d; W2 v微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）
, Q& G# T0 Y$ z! U" X24-9-16 23:559 \% o( B" g0 B/ \
发布于 湖南& L/ L2 v% a% s+ P& M# Z0 X
来自 微博网页版
& y6 B, m8 o: K4 j啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机4 R+ k; v" Y# u7 g
不是运过来就能直接开工的。
3 _0 s) @5 u- A. U) r- j7 _7 F他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。
) B) y5 G! Q! j" b" S" d
- X1 `7 `9 T0 T" g q6 M2 P这个时间很长，也是我常年说：
, D" J# M7 \" c( H4 i) J" t就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
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现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。
( H) y5 J0 k1 s X: d% l3 \- R3 x; v: \
简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。
2 A, W- [- p8 `, P' c& N: `0 u干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）1 \6 R k, a: K: ~, s$ [5 q
多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）
_1 ~3 {4 s. I+ X! ^但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了
" d _ S! k& n' M' C
' J3 G0 m7 | f$ P7 D没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。- F3 ]" ]; n- X7 c2 N5 P3 s/ G
普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
]/ r5 ]8 n: x#华为mate70# 也没多久了。
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雷达卡
发表于 2024-9-17 08:06:46
显身卡
楼主
发表于 2024-9-17 08:39:20