TA的每日心情 | 慵懒 2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:00
1 V. E D' `& ]9 D! T/ k0 {3 p也就是说,即使28nm现在还有光刻机瓶颈,其他也都就绪、只欠东风了。这是好事!
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个人感觉:相比于前一阵 ...
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* |/ h3 z! `+ N应该会在5年内实现吧。
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微博上有位“沉睡之书11”说的。(不一定准确,可以看看)
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发布于 湖南4 v% d. E, w: X e
来自 微博网页版! t0 ~/ M' S/ a ~, d W5 G( T
啊,说过很多次了,#光刻机# 不是挖机
& n7 d7 J* h5 o2 F i不是运过来就能直接开工的。
5 ?$ o# |$ Z( U8 t# F他需要调试,需要不断的用,一边用一边调整,等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。% L7 K; {8 m* h# U$ x
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这个时间很长,也是我常年说:7 b/ s. o! f, `9 e- t/ d
就算今天ASML传送一台EUV给咱,我们拿到第一批量产的芯片流片完(无论7nm,5nm还是多少)起码2年后——这最乐观的2年时间,还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
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+ p: A: l% `9 D `现在发布的这台机器是起码3年前就验收了(科工),现在工信部验收推广(产业链),成熟得不行了才拿出来的。你需要,给钱就有,不限量。
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! Y" [7 U7 J1 ]) X. ]! ~' r简单理解就是——这机子是干式光刻机,做的是65-55nm的芯片,一次曝光。
; C: ?$ G: G9 \2 Y/ f9 [; q+ p* o9 P/ |干式光刻机没啥意义,为什么呢?因为改进之后的也可以出产低制程的,向下兼容并且良率更高(成本低方案成熟)
8 L' X$ I: M: i; s) r' |; E+ [: y多重曝光也不是这哥们来做……(我是不清楚干式光刻机有没人搞这个)7 L& ]2 C, _- O* v
但这玩意的光路设计啥的,是成型了的。有了它,就加浸没式透镜,修改物镜,最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机,但起码上线了2年了
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( X" @; n1 P2 S没公布的那个肯定还在不断的调试,修改,更换国产配件。
% I2 A$ x7 o( z& u+ _: d: O1 j* y0 C普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。2 ~: D6 h1 } ^1 }3 C/ ]. v+ F: h
#华为mate70# 也没多久了。
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