TA的每日心情 | 慵懒 2022-8-27 22:14 |
---|
签到天数: 351 天 [LV.8]合体
|
晨枫 发表于 2024-9-16 14:00
0 \; Z) X) Z2 }% x1 _- J; n! A, E) H$ Y2 f也就是说,即使28nm现在还有光刻机瓶颈,其他也都就绪、只欠东风了。这是好事!
/ {; A5 Q5 E+ K' C2 A) b
6 Y; ?& N3 l7 I& u$ D( H个人感觉:相比于前一阵 ... & q& d8 b" ^$ v2 u
- i" W* f5 o) s& a9 h- L9 {
2 o* H5 x% P$ s应该会在5年内实现吧。
# \% h+ a9 V. c1 o& [ C# L
6 f: _# h. u( q( m3 W# s$ U% [5 @微博上有位“沉睡之书11”说的。(不一定准确,可以看看), O6 @( M) k8 `
24-9-16 23:55, \9 U+ O8 I6 T2 L4 f
发布于 湖南
' i* X; n* n9 l; `0 i+ v来自 微博网页版
?4 C" h m( N* K7 ~% M& _啊,说过很多次了,#光刻机# 不是挖机, h4 u% L# M0 B' C
不是运过来就能直接开工的。
5 C5 m# X, x# J5 {9 q$ T% R/ c: O他需要调试,需要不断的用,一边用一边调整,等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。
2 b3 L# E% y; }8 m6 G8 I+ q! J1 [
这个时间很长,也是我常年说:
9 J% Z( E* K+ I' _就算今天ASML传送一台EUV给咱,我们拿到第一批量产的芯片流片完(无论7nm,5nm还是多少)起码2年后——这最乐观的2年时间,还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
6 w. f; o1 V) Q; s# z
8 @2 ^ e7 b5 ^& Z( I+ v( X' w现在发布的这台机器是起码3年前就验收了(科工),现在工信部验收推广(产业链),成熟得不行了才拿出来的。你需要,给钱就有,不限量。
0 U3 t0 S. F( \5 @( Q% y" p. p& a' s
; ]9 ?. B _4 w* @4 B简单理解就是——这机子是干式光刻机,做的是65-55nm的芯片,一次曝光。
- `; I0 b( F; C4 N% ] ~0 |! S: q8 o干式光刻机没啥意义,为什么呢?因为改进之后的也可以出产低制程的,向下兼容并且良率更高(成本低方案成熟)0 g$ T( i7 a4 u5 \$ v) r
多重曝光也不是这哥们来做……(我是不清楚干式光刻机有没人搞这个)
" }' E# w v' t但这玩意的光路设计啥的,是成型了的。有了它,就加浸没式透镜,修改物镜,最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机,但起码上线了2年了
& Z) C" x) ?# M; t# i5 k/ \1 Z% V+ B, |0 q# _2 W
没公布的那个肯定还在不断的调试,修改,更换国产配件。
8 V, n, ]. \9 g3 }" K普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
# {! ?; |% y8 i8 u/ C, J, w#华为mate70# 也没多久了。
/ V, g2 m6 x, Y, V$ x |
|