国产光刻机猜测

老财迷

晨枫 发表于 2024-9-16 14:00
- U, H  F; u! E$ n2 A4 h也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！
0 T/ B6 a) W# j0 b" {+ A
个人感觉：相比于前一阵 ...

6 i+ M7 t3 Y# B, J7 I

这就要西方好好领教什么叫产能过剩了。

7 R: _( k4 q* ]- U; f应该会在5年内实现吧。
( K1 T5 {3 k, l& P& h
$ p/ H% x1 K: v6 [1 |微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）
" M9 c# c8 Y  v* v7 }# E24-9-16 23:55
发布于 湖南
1 F9 F" B  s& p1 S0 E来自 微博网页版
啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机
不是运过来就能直接开工的。
3 m% E; |/ h* m; Y" u他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。

% W% F. @( @% V- a这个时间很长，也是我常年说：
0 N/ ~9 X4 U% A" L' A+ x就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。

8 L7 Z# [( x# }5 A现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。
0 m4 I: ^9 q+ N+ u' u. h+ f9 m
1 M* P9 e3 z0 w9 A1 G简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。
6 j8 U& G9 D5 Q0 m( B干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）
: r, c6 q! ~4 p# r% Q3 R多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）
但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了
: m! W+ T. L! W- S
没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。
普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
#华为mate70# 也没多久了。
! `& p8 X/ A$ H  ?) T

moletronic

老财迷 发表于 2024-9-16 16:06
$ Q. G$ @' [, Q8 Y5 W应该会在5年内实现吧。

' s( U$ w2 Z; ~. V' D; j% W微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）

5 N* J" H/ [" r/ s! r+ f0 V* i
这个有点扯，新机到货后肯定要调试的，但绝对用不了两年的时间。

晨枫

moletronic 发表于 2024-9-16 18:15
7 u) u/ r6 p  `* S5 n* R这个有点扯，新机到货后肯定要调试的，但绝对用不了两年的时间。

$ i9 w$ \% @2 e, P5 C但干式到浸润的步子没那么大，这说对了吗？

moletronic

8 ~/ Y* u5 ]3 w& g1 @( s/ ^

晨枫 发表于 2024-9-16 16:39
( s/ g* a. x; o但干式到浸润的步子没那么大，这说对了吗？

+ i% U6 O2 H- Z7 a1 G按说这个跨越不算大，但Nikon就是浸水没搞定
所以俺不敢做预测，只敢对已知的做评述

沉宝

晨枫 发表于 2024-9-17 03:34
, e3 Z: i. P4 C1 h+ H/ T! c不过EUV制作7nm可以轻易一次曝光，产率和良率应该提高很多？

  U6 b& I$ q. w+ R: z理论上是这样。但制造芯片是个复杂的过程，需要各方面不断打磨，才能接近理想的结果。现实中的例子，台积电用193nm光刻机率先量产7nm，三星则以更先进的EUV光刻机应战，由于对新型光刻机的熟悉不足，结果良率低下，很多人抛弃三星。最后三星赔本赚吆喝，开出比台积电低30%的代工费用，才勉强留下大客户。

晨枫

moletronic 发表于 2024-9-16 20:54
按说这个跨越不算大，但Nikon就是浸水没搞定
' x  F5 ~1 Y! ~! f2 |所以俺不敢做预测，只敢对已知的做评述 ...

有道理。

+ r1 r/ Z: b% ]7 R+ W, g不过现在看尼康和佳能的光刻机，总有感觉他们已经三心二意了。既然干不过阿斯麦，就用最小投资吊着。不退场，但也不全力以赴。

中国肯定是全力以赴的。而且倾国之力肯定大于尼康、佳能。

, p' u/ K! E& ~; ^/ ?: M; `3 `这会有差别吗？

晨枫

沉宝 发表于 2024-9-16 21:08
理论上是这样。但制造芯片是个复杂的过程，需要各方面不断打磨，才能接近理想的结果。现实中的例子，台积 ...

这倒是个问题。都说韩国人拼，看来还是拼不过中国人。台湾人也是中国人嘛。

雷声

moletronic 发表于 2024-9-17 10:54
3 L% c" a5 I8 T. ^按说这个跨越不算大，但Nikon就是浸水没搞定
所以俺不敢做预测，只敢对已知的做评述 ...

还没搞定？
3 E9 e/ F: P* h: Y: ^! d$ c; v' d我可能是09年去给Nikon做实验，他们想搞明白光刻机里面为什么会产生微气泡，想买个做实验的系统。我在的小破公司搭了一个，然后过去一起做，看能不能用。那个时候估计还是早期，这些基础的问题都没个数。做了几个实验，证明可以捕捉到微气泡发生，成长和运动的轨迹，我就撤了。这都十五年过去了。
! i! K5 F6 ~% @7 f尼康那时候已经有点不灵的迹象，食堂里面睡满了安装队的人。正常的话那些人都是满世界跑给别人装机器的。

晨枫

moletronic 发表于 2024-9-16 20:54
. f1 s5 J5 U; s/ `9 Q按说这个跨越不算大，但Nikon就是浸水没搞定
所以俺不敢做预测，只敢对已知的做评述 ...

突然想起来：现在就聚焦于逻辑芯片，存储芯片用的芯片技术一样吗？前一段听说长江还是谁的128还是256层NAND也被卡了，因为光刻机的事，这说法准确吗？高端NAND需要多少nm节点的光刻机？

雷声

晨枫 发表于 2024-9-17 11:13
有道理。
5 _7 y3 a3 `' @+ c( \5 q
不过现在看尼康和佳能的光刻机，总有感觉他们已经三心二意了。既然干不过阿斯麦，就用最小投资 ...

可能是真没钱投资了。这些钱政府应该赞助的，可是政府也难呐，到处都是嗷嗷待哺的嘴，捉了个虫也不知道塞哪张嘴里。
" i5 O% _9 P! @很多年前日本媒体评价日本财政用了很形象的词，叫硬直化。所有的钱都有定好的用处，几乎没有活动钱。需要财政支持的时候十分狼狈。该做的事情做不了，钱全都拿去维持日常运转了。

moletronic

- U6 d! W0 `# I: Y9 E5 S

雷声 发表于 2024-9-16 19:19
还没搞定？
我可能是09年去给Nikon做实验，他们想搞明白光刻机里面为什么会产生微气泡，想买个做实验的 ...

Nikon是稳定性不行，被牙膏退货后就没人再买。疫情前去开spie的会，Nikon还吹牛自己行了，但主流客户没人用。
, B' d5 l- r* d" X# q5 [有网上谣言说华为买了些Nikon自己魔改做出了9100…俺比较怀疑真实性。

moletronic

晨枫 发表于 2024-9-16 19:21
( \* d' R( T$ @# V6 m& {+ j突然想起来：现在就聚焦于逻辑芯片，存储芯片用的芯片技术一样吗？前一段听说长江还是谁的128还是256层NA ...

9 s5 e) E/ p8 L" y8 N, R存储和逻辑的工艺重点不一样，节点体系也不同。存储那边现在还没上EUV。

晨枫

moletronic 发表于 2024-9-16 21:31
1 i8 J3 k0 C$ \  j( b2 }存储和逻辑的工艺重点不一样，节点体系也不同。存储那边现在还没上EUV。 ...

需要用到浸润DUV吗？

8 R3 B, j5 H: ?  K/ x我的问题其实是：65nm光刻机能解决国内NAND厂的设备禁运问题吗？

moletronic

晨枫 发表于 2024-9-16 19:34
2 E- J3 L2 T$ l" P3 `$ {需要用到浸润DUV吗？

1 _! t1 U# {1 y* @+ d  b6 S我的问题其实是：65nm光刻机能解决国内NAND厂的设备禁运问题吗？ ...

浸水还是要的，这国产光刻机按公布的指标应该还是没法满足YMTC的全部要求。

晨枫

雷声 发表于 2024-9-16 21:23
可能是真没钱投资了。这些钱政府应该赞助的，可是政府也难呐，到处都是嗷嗷待哺的嘴，捉了个虫也不知道塞 ...

9 M* ~4 [0 y6 m* E- B是的，需要钱的地方太多，但光刻机和芯片可能是不计代价砸钱的方向，优先级比谁都高。这个瓶颈突破后，不只是军事、科技上的阳关道，经济上也是大片的处女地啊。

3 S; k( ~4 b: L9 o( Q  D& X" R硬直化很形象。确实，西方家大业大，花钱手笔也大，但每一笔钱都预定了用处，活动余地真心很小。你看看美国在预算削减时那个鸡飞狗跳，就知道真是谁都动不得。“平均剃头”是公认的最坏选择，但是唯一大家可接受的选择。

晨枫

moletronic 发表于 2024-9-16 21:37
浸水还是要的，这国产光刻机按公布的指标应该还是没法满足YMTC的全部要求。 ...

都说工信部这光刻机不是浸润式，但193nm光源，65nm分辨率，正好是2*1.44倍，是不是太巧了？

沉宝

moletronic 发表于 2024-9-17 10:54
- |/ Z1 ]+ R  S9 X按说这个跨越不算大，但Nikon就是浸水没搞定
所以俺不敢做预测，只敢对已知的做评述 ...

9 x. c5 X" d% h( c' H! Z" z具体工作中还是有很多细节要克服。例如曝光时照到光的水会比遮蔽区的水热一点，这个温差会让水的密度不均匀，从而折射率不均匀，影响成像。为了避免温差，必须让水快速流动混合，但又要避免产生漩涡或者析出气泡。水可以把所接触物品上的杂质洗下来，带到晶圆上，形成缺陷。当初ASML搞浸润式光刻机时，在浸液系统上与林本坚团队合作，方案修改了7-8回，耗时两年多才取得满意的结果。

moletronic

沉宝 发表于 2024-9-16 19:43
* u2 z1 O. F' H, N4 V具体工作中还是有很多细节要克服。例如曝光时照到光的水会比遮蔽区的水热一点，这个温差会让水的密度不均 ...

这当然不容易，不过两年挺快啦，看看牙膏的10nm……

moletronic

晨枫 发表于 2024-9-16 19:40
都说工信部这光刻机不是浸润式，但193nm光源，65nm分辨率，正好是2*1.44倍，是不是太巧了？ ...

! S; R5 X, @9 Q; u1 z# ^: n4 E* _不知道啦，也许是隐晦放风的说法。

hsb

晨枫 发表于 2024-9-17 11:13
/ |" V8 ~% w3 S! k4 c" {7 T这倒是个问题。都说韩国人拼，看来还是拼不过中国人。台湾人也是中国人嘛。 ...

) b/ s- p0 X9 E. F* q中国大，各地方人气质不一，各擅胜场。精细活儿江南地方超过东北山东。如此说来，韩国近东北山东，台湾精英是江浙后代。