TA的每日心情 | 慵懒
2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:00: c$ M0 h0 S2 {' x, U$ o; G: r
也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！
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! ^# w+ K* r+ d9 e3 q) k) N个人感觉：相比于前一阵 ...
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应该会在5年内实现吧。
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微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）" ?3 f- d3 J. [! q+ e! f. e$ E
24-9-16 23:55
. P$ }( s$ \& l发布于 湖南
* L: R: o* y3 q! a$ f: c: O- m, [来自 微博网页版
. i! V1 n9 @' c( Y! ?啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机
% k d( U& D! f2 T) j不是运过来就能直接开工的。: n& Y% g9 P1 {! E2 \. _4 `+ T
他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。/ u. w7 G' r. E
e u0 y- P# f这个时间很长，也是我常年说：
3 }1 M1 `" B2 n! r就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。7 j0 n. ^5 L2 _ d
5 }" d1 _/ X& g# i& p) ?% x现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。# p5 w% z# n, O: r5 a1 i+ U
0 o9 L+ p7 J7 Z7 Y9 N3 ?* M- b0 U T( R简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。
. F" o0 g* Q8 f, E+ d9 ]/ g干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）
0 l- J7 N3 L# f6 j5 J$ W1 h多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）
6 n. h% `5 l4 O' r; L) H! x但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了
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% M" ~1 m7 E5 L6 f6 h* n没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。/ T4 P$ W& F8 a6 D
普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。0 Y; f8 V( }9 [- n4 ]& S
#华为mate70# 也没多久了。
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雷达卡
发表于 2024-9-17 08:06:46
显身卡
楼主
发表于 2024-9-17 08:39:20