TA的每日心情 | 慵懒 2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:00) V S2 z/ v- K9 h8 p
也就是说,即使28nm现在还有光刻机瓶颈,其他也都就绪、只欠东风了。这是好事!8 G' s$ P# A$ H
& e) u8 ~6 w* ?1 S8 y; i个人感觉:相比于前一阵 ... - q6 H! b; A! }. k7 L
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应该会在5年内实现吧。* Z" N# R# `1 C) O' P, c8 r
5 k7 z2 u( D3 R1 x+ L微博上有位“沉睡之书11”说的。(不一定准确,可以看看)
+ Z; @) U! h& L9 v( T24-9-16 23:55
0 Y* L0 W f& Z" F. N0 a# T发布于 湖南! n6 f) H5 I; P2 g
来自 微博网页版
* i# I& S, k. I6 ^啊,说过很多次了,#光刻机# 不是挖机
! Z" u' X: g9 S( o0 F1 d3 W不是运过来就能直接开工的。
, G4 @4 d, ?# P6 w1 M5 h+ C他需要调试,需要不断的用,一边用一边调整,等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。. z9 w6 i, o: D
. H7 Z3 H; }2 ^4 D" ]4 [5 R这个时间很长,也是我常年说:
8 C. a( S1 [; V; I3 w+ u就算今天ASML传送一台EUV给咱,我们拿到第一批量产的芯片流片完(无论7nm,5nm还是多少)起码2年后——这最乐观的2年时间,还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
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3 E& X1 Q5 _3 h) k) `现在发布的这台机器是起码3年前就验收了(科工),现在工信部验收推广(产业链),成熟得不行了才拿出来的。你需要,给钱就有,不限量。1 y* `0 Q# }/ s8 U
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简单理解就是——这机子是干式光刻机,做的是65-55nm的芯片,一次曝光。
2 l' }; c1 h& y+ i' i# n7 O; V8 g干式光刻机没啥意义,为什么呢?因为改进之后的也可以出产低制程的,向下兼容并且良率更高(成本低方案成熟)0 L0 S/ A/ X* Z. [% N6 _; d& H, x
多重曝光也不是这哥们来做……(我是不清楚干式光刻机有没人搞这个)
3 U3 @" `/ w$ X% k但这玩意的光路设计啥的,是成型了的。有了它,就加浸没式透镜,修改物镜,最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机,但起码上线了2年了& l& I7 \- @# d1 e- ?7 X
, H! ~2 k* m# W没公布的那个肯定还在不断的调试,修改,更换国产配件。6 ]3 O/ [1 b9 B" | V
普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
6 u9 t4 I: H$ z8 K# \: A. _#华为mate70# 也没多久了。
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