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[LV.Master]无
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[LV.9]渡劫
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马鹿 发表于 2024-9-15 04:18, l0 R- V. c5 J 我还以为你才30多岁。。。
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[LV.4]金丹
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[LV.8]合体
moletronic 发表于 2024-9-16 09:46! \2 E* U1 P" a 公布的参数只能确定的说解决了65nm的有无问题,对于代工厂来说要不要用还有几个关键参数没说。比如生产速度 ...
老财迷 发表于 2024-9-15 21:19 / R8 r8 p. P) Y+ X9 ?8 d# n- W感谢感谢' t" A% d% A" U+ {2 | " v5 y; y& M. Y8 b. f( q0 C8 u 工信部公布的是:2.1.6 氟化氩光刻机 晶圆直径:300mm;照明波长:193nm;分辨率≤ ...
晨枫 发表于 2024-9-16 14:00 / n5 S9 L# w! v* \% l- c. f M也就是说,即使28nm现在还有光刻机瓶颈,其他也都就绪、只欠东风了。这是好事!) Y6 l8 N$ m& a9 A8 t+ U. X6 B 2 ~$ c% w2 B* j1 T 个人感觉:相比于前一阵 ...
moletronic 发表于 2024-9-16 07:42& n8 y5 B5 H$ i5 [ EUV没有透镜,只有反射镜,整个光学系统完全不同。目前看不会再搞浸水了。 ...
沉宝 发表于 2024-9-16 12:46# `& e' o8 X& v8 C$ n 不存在28nm光刻机,只有28nm工艺节点。 ! ]5 T, d- X( G* I4 L& B& E0 N0 C9 u8 V 5 f3 _* U, }. K$ o0 p, x从光刻机所用的光源上来说,只有 193 nm (ArF激光) 和 13.5 nm ( ...
晨枫 发表于 2024-9-16 11:21 - p& k6 x/ `* s$ W. B: q' u) J也就是说,EUV用浸水没有用?
moletronic 发表于 2024-9-16 14:38) n: [! f5 E1 e I1 }; Y0 e2 o" V 理论上有用,但目前没看到在路线图上。估计是水对EUV的吸收太大,本来EUV光源的强度就小。 ...
晨枫 发表于 2024-9-16 12:39 ! c; |# i4 A+ j1 M是哦,连透镜都不能用,水可能更加不行了
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