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[LV.Master]无
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[LV.9]渡劫
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马鹿 发表于 2024-9-15 04:18. B7 Y# `' d. q: k 我还以为你才30多岁。。。
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[LV.4]金丹
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[LV.8]合体
moletronic 发表于 2024-9-16 09:461 a. L" r0 p- a# ] 公布的参数只能确定的说解决了65nm的有无问题,对于代工厂来说要不要用还有几个关键参数没说。比如生产速度 ...
老财迷 发表于 2024-9-15 21:19* d3 h7 s$ z/ X, D) E$ _ 感谢感谢 8 C" q7 S* B; o, E6 s7 s ' G& ?* r! K( f% t: ?; B% A工信部公布的是:2.1.6 氟化氩光刻机 晶圆直径:300mm;照明波长:193nm;分辨率≤ ...
晨枫 发表于 2024-9-16 14:00 9 l# r' c+ X: I$ F, e" ~, ^2 |4 u也就是说,即使28nm现在还有光刻机瓶颈,其他也都就绪、只欠东风了。这是好事!. L- {4 g9 G2 X8 g1 Z1 D' R9 X( z * T- W% z7 |5 A; p 个人感觉:相比于前一阵 ...
moletronic 发表于 2024-9-16 07:42 5 L, |/ y9 P& x/ I3 J$ c+ Y7 [EUV没有透镜,只有反射镜,整个光学系统完全不同。目前看不会再搞浸水了。 ...
沉宝 发表于 2024-9-16 12:46+ X# b( O; ~, |- S6 p' D1 E! I1 e 不存在28nm光刻机,只有28nm工艺节点。: x: ?4 D# d& [ 8 ?0 C' O" j5 V; \1 ^# j R 从光刻机所用的光源上来说,只有 193 nm (ArF激光) 和 13.5 nm ( ...
晨枫 发表于 2024-9-16 11:21 7 j$ m, G9 }3 L也就是说,EUV用浸水没有用?
moletronic 发表于 2024-9-16 14:38 5 u1 v' [7 Y1 s: K+ F8 C理论上有用,但目前没看到在路线图上。估计是水对EUV的吸收太大,本来EUV光源的强度就小。 ...
晨枫 发表于 2024-9-16 12:39) [% c* G. M2 U7 i 是哦,连透镜都不能用,水可能更加不行了
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