TA的每日心情 | 慵懒 2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:00! ^5 |/ E: i; e @
也就是说,即使28nm现在还有光刻机瓶颈,其他也都就绪、只欠东风了。这是好事!
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个人感觉:相比于前一阵 ...
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应该会在5年内实现吧。
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微博上有位“沉睡之书11”说的。(不一定准确,可以看看)
6 [# T4 R E- L) l; j- Z9 }7 D24-9-16 23:55: `8 ?1 h4 c0 O
发布于 湖南
. s5 e2 T' i6 ]来自 微博网页版/ w" M9 P2 C6 Q% o8 R- P% O1 q
啊,说过很多次了,#光刻机# 不是挖机9 X/ W' m0 h+ {7 f7 M3 E
不是运过来就能直接开工的。
: q1 I( p" f" [, p2 n5 |1 D他需要调试,需要不断的用,一边用一边调整,等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。
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, T F& Q- |5 R; D8 n这个时间很长,也是我常年说:% J/ i& n% d% p/ K Q. p
就算今天ASML传送一台EUV给咱,我们拿到第一批量产的芯片流片完(无论7nm,5nm还是多少)起码2年后——这最乐观的2年时间,还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。- E; Y# k' V* ~& A! Q
" j4 g( |$ x: v现在发布的这台机器是起码3年前就验收了(科工),现在工信部验收推广(产业链),成熟得不行了才拿出来的。你需要,给钱就有,不限量。
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+ p8 q3 D! ?6 E简单理解就是——这机子是干式光刻机,做的是65-55nm的芯片,一次曝光。( q2 J# n/ M0 W( N$ k7 e1 ]; p4 o/ ?2 n
干式光刻机没啥意义,为什么呢?因为改进之后的也可以出产低制程的,向下兼容并且良率更高(成本低方案成熟)
- p: H4 E' ~ {: Q* x8 S多重曝光也不是这哥们来做……(我是不清楚干式光刻机有没人搞这个)# R5 D' R$ N2 Z( Y% J/ y! D; I0 V8 k
但这玩意的光路设计啥的,是成型了的。有了它,就加浸没式透镜,修改物镜,最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机,但起码上线了2年了 m4 t- G* t# @
* v' x& @8 i) k6 d! z% d没公布的那个肯定还在不断的调试,修改,更换国产配件。
# T* s; ?4 {; V* e, V普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
5 ~5 H3 {: J3 L; O#华为mate70# 也没多久了。
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