TA的每日心情 | 慵懒 2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:00
5 i4 s2 ]( ~, Y! B8 y也就是说,即使28nm现在还有光刻机瓶颈,其他也都就绪、只欠东风了。这是好事!# L+ Z3 h' [& y1 t9 {& _0 y
( c: i4 L" N1 T2 I9 U个人感觉:相比于前一阵 ...
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应该会在5年内实现吧。. Y; K9 b% M6 |" Q+ t; B3 G& Y: s, s
1 [+ M7 q: P, v0 m微博上有位“沉睡之书11”说的。(不一定准确,可以看看)
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发布于 湖南& X7 I$ J; N, R1 ?# a; u
来自 微博网页版0 H( T0 ?% \% }+ y# S$ _0 p
啊,说过很多次了,#光刻机# 不是挖机
- a) r5 y4 x5 @: i; W( x不是运过来就能直接开工的。- Y7 I- Z* j& V7 a
他需要调试,需要不断的用,一边用一边调整,等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。
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这个时间很长,也是我常年说:2 D$ I) \# _/ O1 D, f& N6 R
就算今天ASML传送一台EUV给咱,我们拿到第一批量产的芯片流片完(无论7nm,5nm还是多少)起码2年后——这最乐观的2年时间,还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
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# e9 L6 O$ e3 {- M: t6 r现在发布的这台机器是起码3年前就验收了(科工),现在工信部验收推广(产业链),成熟得不行了才拿出来的。你需要,给钱就有,不限量。
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简单理解就是——这机子是干式光刻机,做的是65-55nm的芯片,一次曝光。! [4 v* c3 ~* G# ^/ w, [
干式光刻机没啥意义,为什么呢?因为改进之后的也可以出产低制程的,向下兼容并且良率更高(成本低方案成熟)+ F9 `, a6 Z8 C( G
多重曝光也不是这哥们来做……(我是不清楚干式光刻机有没人搞这个)9 q5 J1 ~6 N( v* E9 n
但这玩意的光路设计啥的,是成型了的。有了它,就加浸没式透镜,修改物镜,最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机,但起码上线了2年了* C& o( ^9 n5 T8 E! `
! }: M3 K$ p B3 x& J" C3 E没公布的那个肯定还在不断的调试,修改,更换国产配件。: n/ O2 ?1 s p8 S, O L) n9 B# f
普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
5 F; \+ a% A) ?; X" F* x# y#华为mate70# 也没多久了。# ^ F0 M3 z( f4 X! G
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