国产光刻机猜测

老财迷

晨枫 发表于 2024-9-16 14:00
+ ^" ?0 E8 C5 J, f也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！

# g: ^$ x& n/ H/ p4 M个人感觉：相比于前一阵 ...

$ w, V3 O8 {* t

这就要西方好好领教什么叫产能过剩了。

应该会在5年内实现吧。

% X9 Y% ?* g) j, `6 m" W微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）
24-9-16 23:55
发布于 湖南
7 m+ @! l4 J! O. ^4 @来自 微博网页版
啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机
) k. }1 }* L5 b5 |' G不是运过来就能直接开工的。
他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。

, {5 L, e; d: q4 b2 C& R6 x! X这个时间很长，也是我常年说：
+ Y* |2 p  E$ [! s, S( m就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
4 ^- f! v, V7 e# S1 g! O6 l
现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。
, O) u& P- e  Y/ r; S: K; Q
简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。
干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）
: w9 t+ i# B' \2 z- z多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）
8 `+ `& Y2 k: M& Y但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了

0 z) P7 q  Q( P3 H没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。
. A) T( T3 e) R# ~3 \+ i1 r普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
* I: j2 t7 V! N#华为mate70# 也没多久了。

moletronic

老财迷 发表于 2024-9-16 16:06
应该会在5年内实现吧。
& p" B2 ~3 J: Z$ e+ V. `3 U
" i/ t) G: q, K: w  l5 r8 w微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）

+ N. |8 [& x  @( @; E* Y, `这个有点扯，新机到货后肯定要调试的，但绝对用不了两年的时间。

晨枫

moletronic 发表于 2024-9-16 18:15
. O. g$ {, u' y" P0 l4 ?( \这个有点扯，新机到货后肯定要调试的，但绝对用不了两年的时间。

但干式到浸润的步子没那么大，这说对了吗？

moletronic

6 b$ e" d+ J, e5 ]

晨枫 发表于 2024-9-16 16:39
2 x% Q; C- s- E$ o) R9 m* d, H* }但干式到浸润的步子没那么大，这说对了吗？

! I. M1 s; }6 f4 E  y
- H) ~2 C8 O2 |& E9 w: w% `按说这个跨越不算大，但Nikon就是浸水没搞定
! R( f8 d: P4 X! U" n所以俺不敢做预测，只敢对已知的做评述

沉宝

晨枫 发表于 2024-9-17 03:34
  w, T( @; h4 Y7 R- J/ _9 ?不过EUV制作7nm可以轻易一次曝光，产率和良率应该提高很多？

理论上是这样。但制造芯片是个复杂的过程，需要各方面不断打磨，才能接近理想的结果。现实中的例子，台积电用193nm光刻机率先量产7nm，三星则以更先进的EUV光刻机应战，由于对新型光刻机的熟悉不足，结果良率低下，很多人抛弃三星。最后三星赔本赚吆喝，开出比台积电低30%的代工费用，才勉强留下大客户。

晨枫

moletronic 发表于 2024-9-16 20:54
按说这个跨越不算大，但Nikon就是浸水没搞定
( m* g8 T3 ~- u$ u1 m  S! x所以俺不敢做预测，只敢对已知的做评述 ...

/ z7 w2 m' H9 \$ {2 m有道理。
, ^0 _. Q/ u- r; W1 B0 O8 T
不过现在看尼康和佳能的光刻机，总有感觉他们已经三心二意了。既然干不过阿斯麦，就用最小投资吊着。不退场，但也不全力以赴。
( j$ z6 }9 K5 \+ ~2 ~
中国肯定是全力以赴的。而且倾国之力肯定大于尼康、佳能。

9 \! I8 m% S! [$ F0 B0 V这会有差别吗？

晨枫

沉宝 发表于 2024-9-16 21:08
( H1 P7 L' s% s1 s* n理论上是这样。但制造芯片是个复杂的过程，需要各方面不断打磨，才能接近理想的结果。现实中的例子，台积 ...

这倒是个问题。都说韩国人拼，看来还是拼不过中国人。台湾人也是中国人嘛。

雷声

moletronic 发表于 2024-9-17 10:54
按说这个跨越不算大，但Nikon就是浸水没搞定
所以俺不敢做预测，只敢对已知的做评述 ...

* |% E3 l# N" K6 @3 U$ [5 c还没搞定？
* N% @; l; v; V; e- T我可能是09年去给Nikon做实验，他们想搞明白光刻机里面为什么会产生微气泡，想买个做实验的系统。我在的小破公司搭了一个，然后过去一起做，看能不能用。那个时候估计还是早期，这些基础的问题都没个数。做了几个实验，证明可以捕捉到微气泡发生，成长和运动的轨迹，我就撤了。这都十五年过去了。
尼康那时候已经有点不灵的迹象，食堂里面睡满了安装队的人。正常的话那些人都是满世界跑给别人装机器的。
1 b! U4 M& R; ^) e" F) R7 m

晨枫

moletronic 发表于 2024-9-16 20:54
按说这个跨越不算大，但Nikon就是浸水没搞定
所以俺不敢做预测，只敢对已知的做评述 ...

突然想起来：现在就聚焦于逻辑芯片，存储芯片用的芯片技术一样吗？前一段听说长江还是谁的128还是256层NAND也被卡了，因为光刻机的事，这说法准确吗？高端NAND需要多少nm节点的光刻机？

雷声

晨枫 发表于 2024-9-17 11:13
- b- g- S3 S5 c# _3 H, a2 i; I6 J有道理。
! V& |7 @3 [7 e8 J' W  T: U! Z' @/ o
6 x. c6 d; d: X, J6 }  a不过现在看尼康和佳能的光刻机，总有感觉他们已经三心二意了。既然干不过阿斯麦，就用最小投资 ...

可能是真没钱投资了。这些钱政府应该赞助的，可是政府也难呐，到处都是嗷嗷待哺的嘴，捉了个虫也不知道塞哪张嘴里。
很多年前日本媒体评价日本财政用了很形象的词，叫硬直化。所有的钱都有定好的用处，几乎没有活动钱。需要财政支持的时候十分狼狈。该做的事情做不了，钱全都拿去维持日常运转了。

moletronic

$ T! \8 T; F3 X* v( R

雷声 发表于 2024-9-16 19:19
还没搞定？
# L4 ^8 m1 t) a% O: B% K1 q我可能是09年去给Nikon做实验，他们想搞明白光刻机里面为什么会产生微气泡，想买个做实验的 ...

& t9 q' y' f) `. R3 wNikon是稳定性不行，被牙膏退货后就没人再买。疫情前去开spie的会，Nikon还吹牛自己行了，但主流客户没人用。
/ J5 e' S( A' e9 }8 b- K. n; @" ]有网上谣言说华为买了些Nikon自己魔改做出了9100…俺比较怀疑真实性。

moletronic

晨枫 发表于 2024-9-16 19:21
突然想起来：现在就聚焦于逻辑芯片，存储芯片用的芯片技术一样吗？前一段听说长江还是谁的128还是256层NA ...

存储和逻辑的工艺重点不一样，节点体系也不同。存储那边现在还没上EUV。

晨枫

moletronic 发表于 2024-9-16 21:31
- q- m( R0 c. Q" f存储和逻辑的工艺重点不一样，节点体系也不同。存储那边现在还没上EUV。 ...

, T% ~3 P* D" i" }* r+ y需要用到浸润DUV吗？
+ P  ?( ]. r$ ]$ h2 F3 \' |, ?
& m0 z8 y* `' ]. t% w. F我的问题其实是：65nm光刻机能解决国内NAND厂的设备禁运问题吗？

moletronic

晨枫 发表于 2024-9-16 19:34
. q: }: f7 k- S$ {需要用到浸润DUV吗？
1 e; y, m) C3 ^
( K& ~8 o1 j! V/ M8 J6 G" L) c我的问题其实是：65nm光刻机能解决国内NAND厂的设备禁运问题吗？ ...

浸水还是要的，这国产光刻机按公布的指标应该还是没法满足YMTC的全部要求。

晨枫

雷声 发表于 2024-9-16 21:23
可能是真没钱投资了。这些钱政府应该赞助的，可是政府也难呐，到处都是嗷嗷待哺的嘴，捉了个虫也不知道塞 ...

! L+ I: u1 {* b4 [! n是的，需要钱的地方太多，但光刻机和芯片可能是不计代价砸钱的方向，优先级比谁都高。这个瓶颈突破后，不只是军事、科技上的阳关道，经济上也是大片的处女地啊。

硬直化很形象。确实，西方家大业大，花钱手笔也大，但每一笔钱都预定了用处，活动余地真心很小。你看看美国在预算削减时那个鸡飞狗跳，就知道真是谁都动不得。“平均剃头”是公认的最坏选择，但是唯一大家可接受的选择。

晨枫

moletronic 发表于 2024-9-16 21:37
浸水还是要的，这国产光刻机按公布的指标应该还是没法满足YMTC的全部要求。 ...

都说工信部这光刻机不是浸润式，但193nm光源，65nm分辨率，正好是2*1.44倍，是不是太巧了？

沉宝

moletronic 发表于 2024-9-17 10:54
3 u$ b3 }5 }6 y" P$ ?. J, V$ _4 Q按说这个跨越不算大，但Nikon就是浸水没搞定
. r+ v3 Y5 Z- v所以俺不敢做预测，只敢对已知的做评述 ...

具体工作中还是有很多细节要克服。例如曝光时照到光的水会比遮蔽区的水热一点，这个温差会让水的密度不均匀，从而折射率不均匀，影响成像。为了避免温差，必须让水快速流动混合，但又要避免产生漩涡或者析出气泡。水可以把所接触物品上的杂质洗下来，带到晶圆上，形成缺陷。当初ASML搞浸润式光刻机时，在浸液系统上与林本坚团队合作，方案修改了7-8回，耗时两年多才取得满意的结果。

moletronic

沉宝 发表于 2024-9-16 19:43
具体工作中还是有很多细节要克服。例如曝光时照到光的水会比遮蔽区的水热一点，这个温差会让水的密度不均 ...

% I: N, o& O5 n
5 G% [9 B4 E6 p% |4 v这当然不容易，不过两年挺快啦，看看牙膏的10nm……

moletronic

晨枫 发表于 2024-9-16 19:40
7 W# p6 t9 l2 l* O0 Y都说工信部这光刻机不是浸润式，但193nm光源，65nm分辨率，正好是2*1.44倍，是不是太巧了？ ...

不知道啦，也许是隐晦放风的说法。

hsb

晨枫 发表于 2024-9-17 11:13
, e. M  y9 I) ?$ ]- E这倒是个问题。都说韩国人拼，看来还是拼不过中国人。台湾人也是中国人嘛。 ...

中国大，各地方人气质不一，各擅胜场。精细活儿江南地方超过东北山东。如此说来，韩国近东北山东，台湾精英是江浙后代。