TA的每日心情 | 慵懒 2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:00# o! o! R6 z, Z- S! y8 @
也就是说,即使28nm现在还有光刻机瓶颈,其他也都就绪、只欠东风了。这是好事!3 A4 _0 [1 y2 u7 k; `
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个人感觉:相比于前一阵 ...
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4 O" D+ N6 d, p) s3 [0 I t$ }7 J应该会在5年内实现吧。: e5 f" |2 L: P
) ^* F X& t# G. L* k微博上有位“沉睡之书11”说的。(不一定准确,可以看看)2 M% t7 ]6 s5 f3 E* T) W( B2 A8 [
24-9-16 23:55
. ~5 l& c! Z/ E! ^6 O) {. y发布于 湖南9 D- \( G& ? s! I' z
来自 微博网页版
& {; ^' r3 D3 y! h" T啊,说过很多次了,#光刻机# 不是挖机/ [7 b" u7 U- `2 m
不是运过来就能直接开工的。
1 r& ^& U/ D" o5 B5 V& B* `- P他需要调试,需要不断的用,一边用一边调整,等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。
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! ~$ E1 V \# K/ B) |这个时间很长,也是我常年说:
9 o$ `) A' Q5 D! B/ Y8 B就算今天ASML传送一台EUV给咱,我们拿到第一批量产的芯片流片完(无论7nm,5nm还是多少)起码2年后——这最乐观的2年时间,还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。1 S! q. g ?/ M5 @; ~$ w- q$ ~, }
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现在发布的这台机器是起码3年前就验收了(科工),现在工信部验收推广(产业链),成熟得不行了才拿出来的。你需要,给钱就有,不限量。
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# N7 O9 Q% s6 e2 f& J# d简单理解就是——这机子是干式光刻机,做的是65-55nm的芯片,一次曝光。7 I4 u# F; W/ {# r& h( q9 I* `
干式光刻机没啥意义,为什么呢?因为改进之后的也可以出产低制程的,向下兼容并且良率更高(成本低方案成熟)
- _5 B/ l+ T% g/ u% \+ H K* n! h多重曝光也不是这哥们来做……(我是不清楚干式光刻机有没人搞这个)
7 R1 m( x7 w3 J+ R但这玩意的光路设计啥的,是成型了的。有了它,就加浸没式透镜,修改物镜,最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机,但起码上线了2年了1 _* I; H1 D( L! w* x
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没公布的那个肯定还在不断的调试,修改,更换国产配件。
2 K" `6 O3 r) Z0 C普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。5 Y) \+ ?/ z! R2 s. [2 C
#华为mate70# 也没多久了。
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