TA的每日心情 | 慵懒 2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:00
; G3 B6 f0 a+ f, h( a$ g也就是说,即使28nm现在还有光刻机瓶颈,其他也都就绪、只欠东风了。这是好事!
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" L" c% \) V8 F6 n: J个人感觉:相比于前一阵 ... + ]3 n, S o' i! z8 Y! ] ]& `
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应该会在5年内实现吧。0 e3 N; S( {4 b G
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微博上有位“沉睡之书11”说的。(不一定准确,可以看看)
0 r4 o- o# m' D; h# I5 T* B24-9-16 23:55
5 M4 ?. y. f* D% r9 H( m: r发布于 湖南% a2 V8 `) v8 m& ], d: I
来自 微博网页版& A& L! I" Y8 D) o6 u) e0 @
啊,说过很多次了,#光刻机# 不是挖机$ ^* ]' u+ h+ P, O
不是运过来就能直接开工的。
! J, |. ]6 [9 @# a" g他需要调试,需要不断的用,一边用一边调整,等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。2 T6 K# N9 g" Z B. f& |
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这个时间很长,也是我常年说:3 D) g1 g% }% R6 C& d; `
就算今天ASML传送一台EUV给咱,我们拿到第一批量产的芯片流片完(无论7nm,5nm还是多少)起码2年后——这最乐观的2年时间,还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
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现在发布的这台机器是起码3年前就验收了(科工),现在工信部验收推广(产业链),成熟得不行了才拿出来的。你需要,给钱就有,不限量。
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5 z9 v; O7 o, R( ]5 E7 ?简单理解就是——这机子是干式光刻机,做的是65-55nm的芯片,一次曝光。3 l- R& w: {8 ]) f. E- k' f
干式光刻机没啥意义,为什么呢?因为改进之后的也可以出产低制程的,向下兼容并且良率更高(成本低方案成熟)
3 k! y/ p) l1 H2 ~# {. N多重曝光也不是这哥们来做……(我是不清楚干式光刻机有没人搞这个)
6 ^& F) g+ B5 @% B+ S D但这玩意的光路设计啥的,是成型了的。有了它,就加浸没式透镜,修改物镜,最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机,但起码上线了2年了
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没公布的那个肯定还在不断的调试,修改,更换国产配件。% x% I# d& N* w* n% _& y& H
普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
) a9 E2 m3 `& \- \: N#华为mate70# 也没多久了。
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