TA的每日心情 | 慵懒
2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:00
) D2 L4 c! H6 I: w也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！6 A& o) r b; g0 E; I& |% N
9 j; u; J( H& ^6 }' m+ k个人感觉：相比于前一阵 ...
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应该会在5年内实现吧。
# q6 W2 n) x: m0 Z# |, a. f1 u, B7 v$ ~* ]
微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）1 y, L+ @; S* r2 b3 P6 T- @$ o
24-9-16 23:55
" ]7 o9 N0 e/ w0 |发布于 湖南- q: N6 D8 n) y% i% @
来自 微博网页版
1 u" k: d5 E" o c! `% \% m+ Q$ M啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机
5 x6 D' e$ r. O- |4 c# B不是运过来就能直接开工的。! ?6 d |) n: e( ~
他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。
& \ i& }1 }+ D; W$ M) ]2 H) [, ~2 c4 J& I% Y) {
这个时间很长，也是我常年说：
6 l2 _3 j' _4 |. p8 \就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
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现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。8 ]+ Z. m% p" i$ K& W7 e8 }
: U3 ~4 i, Q0 E
简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。/ m: I4 E1 ]1 w
干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）# F4 Z7 C5 L' f% f5 ]
多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）( x0 _5 |4 p& ]
但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了
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" e% V1 Y: T( e没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。# O! B: E, C' L/ Q6 o) U7 Z
普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。6 o/ \0 m9 x' h& o8 P7 n+ W2 D
#华为mate70# 也没多久了。! v$ e8 O: F+ k* A' g$ Z: S
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雷达卡
发表于 2024-9-17 08:06:46
显身卡
楼主
发表于 2024-9-17 08:39:20