TA的每日心情 | 慵懒
2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:00
* C# T2 B) @0 X9 p9 C也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！! h' w p. A1 B: B% c
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个人感觉：相比于前一阵 ...
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应该会在5年内实现吧。2 U9 s1 x/ r) Y& u
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微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）
1 k& o# w8 U! x24-9-16 23:55
, |9 {" W- t/ A1 s发布于 湖南# V: _" W# E R: p: p, c5 e
来自 微博网页版! W! Q- F+ p6 D
啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机
5 f% g1 `8 B; K7 V# j+ T+ D不是运过来就能直接开工的。7 D5 m9 X0 [4 w5 l9 M" ~
他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。) C. E q! D) `3 d
4 ^7 _. s, ^" ]" w1 F这个时间很长，也是我常年说：) W0 u" r' q# M6 ?. C1 Q/ j0 B3 K
就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
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7 w9 w! ]( Y' s6 C现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。: g7 O) \1 G4 ~0 ~+ ^
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简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。3 h# |& W; r# q+ o: f9 o
干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）
* `) l' ~. }! H/ y9 Z多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）
. z$ J( j* h& W9 b# Q8 K但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了
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没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。: @$ L: c" D; T8 u j
普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
+ k' P7 N: t! x+ U/ s8 C! J#华为mate70# 也没多久了。9 Q3 m+ i% ?/ V5 i9 v
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雷达卡
发表于 2024-9-17 08:06:46
显身卡
楼主
发表于 2024-9-17 08:39:20