TA的每日心情 | 慵懒
2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:00: \7 ^& c: Y0 R
也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！
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3 {. x- x$ A6 E' j, b- k+ v个人感觉：相比于前一阵 ...
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应该会在5年内实现吧。
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微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）
$ D( G) G! w E8 W# X' k24-9-16 23:55% _2 U, X! \ P" l2 i# ^
发布于 湖南; Q( K1 W8 U$ L4 l/ _
来自 微博网页版4 [3 F! g( G4 i" a; I: X
啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机
D1 i) O0 D" g* g不是运过来就能直接开工的。/ V/ k; z" t) T6 q, `, r
他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。% i s$ h; G* Y) t9 {
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这个时间很长，也是我常年说：
6 K# H, A8 X+ j+ x& H; _- e, G就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。. f; L. d# e9 l; V& m
' e7 z% P2 s# H' ^现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。
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简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。; d1 L0 R/ H' z; Q" y( U
干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）! y" u; x0 H/ ~* O, G% P% a0 Y
多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）! a1 J2 F: h9 h/ L4 W& `0 d* j |6 v
但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了$ c6 x% N3 s& F
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没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。" T# u1 C# d/ a& T( A. T/ [# Y( L
普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
' m* a% B* P8 m4 N+ s9 n#华为mate70# 也没多久了。
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雷达卡
发表于 2024-9-17 08:06:46
显身卡
楼主
发表于 2024-9-17 08:39:20