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[科普知识] 国产光刻机猜测

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  • TA的每日心情
    慵懒
    2022-8-27 22:14
  • 签到天数: 351 天

    [LV.8]合体

    21#
    发表于 2024-9-17 08:06:46 | 只看该作者
    晨枫 发表于 2024-9-16 14:00! S, G. u0 ^+ z' y
    也就是说,即使28nm现在还有光刻机瓶颈,其他也都就绪、只欠东风了。这是好事!/ j4 ^0 E& S. h& w4 A

    ; ^$ F2 N  R2 [" R6 ^" X& s个人感觉:相比于前一阵 ...
    * ?; j' g& d) H$ B8 I( J
    7 v7 M+ C  N. i7 [* w+ K
    这就要西方好好领教什么叫产能过剩了。

    7 s4 |" s1 V7 C3 ]! |7 ^, G应该会在5年内实现吧。! l; a5 a% |( F9 o5 s9 L
    " z. b( f9 W% y: L3 N9 ]
    微博上有位“沉睡之书11”说的。(不一定准确,可以看看)% }) R1 E& j* N7 v
    24-9-16 23:55% r+ R! |5 S- L) y1 }
    发布于 湖南
    2 ?4 P# g9 U1 Z3 q5 T' s来自 微博网页版
    + g& Y' D: P8 ]( H1 j# d啊,说过很多次了,#光刻机# 不是挖机
    4 s' o; y+ f" F  Z7 K不是运过来就能直接开工的。" a- d" G# U7 y* V8 Z
    他需要调试,需要不断的用,一边用一边调整,等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。
    9 w3 E# b0 J1 @' _- _
    ; @$ P0 e4 K/ H9 z0 r+ o这个时间很长,也是我常年说:% b1 I. \/ x; O- t7 N
    就算今天ASML传送一台EUV给咱,我们拿到第一批量产的芯片流片完(无论7nm,5nm还是多少)起码2年后——这最乐观的2年时间,还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。- p- d/ P1 F! m0 _' @6 F# h+ C: H0 ~) R: [

    * _8 Y8 H2 e* Z- c现在发布的这台机器是起码3年前就验收了(科工),现在工信部验收推广(产业链),成熟得不行了才拿出来的。你需要,给钱就有,不限量。
    " j6 x- u0 ~! _- E% C* k& t( ]$ W+ w
    简单理解就是——这机子是干式光刻机,做的是65-55nm的芯片,一次曝光。
    9 @5 B- S0 y' |3 }' p# ]" h4 _" I干式光刻机没啥意义,为什么呢?因为改进之后的也可以出产低制程的,向下兼容并且良率更高(成本低方案成熟)
    : `) r& U7 V5 p4 N  X2 C多重曝光也不是这哥们来做……(我是不清楚干式光刻机有没人搞这个)
    ; l% W* ?7 t/ c但这玩意的光路设计啥的,是成型了的。有了它,就加浸没式透镜,修改物镜,最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机,但起码上线了2年了
    0 {3 a& q: T  J4 X+ D+ Y8 |, S$ P2 H
    没公布的那个肯定还在不断的调试,修改,更换国产配件。
    " R4 E# `, c% @0 D* x普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。3 `' R5 `- R, B; A' l* R
    #华为mate70# 也没多久了。
    - z; F5 d5 L" j/ }  N  M6 [

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    这真是极好的: 5.0
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      发表于 2024-9-18 15:38
    给力: 5 涨姿势: 5 这真是极好的: 5
      发表于 2024-9-17 08:38
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  • TA的每日心情
    开心
    2023-2-8 04:51
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    [LV.Master]无

    22#
     楼主| 发表于 2024-9-17 08:15:36 | 只看该作者
    老财迷 发表于 2024-9-16 16:061 |( R9 q" V' Z2 M9 g* s: l& X
    应该会在5年内实现吧。
    / G. b" {# s5 m6 w
    3 {3 V& O* b( G- \& J  B1 A7 k微博上有位“沉睡之书11”说的。(不一定准确,可以看看)

    ; E% g7 K  L+ E& g, j
    3 l; t1 \* t7 U5 @4 r这个有点扯,新机到货后肯定要调试的,但绝对用不了两年的时间。

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    以你说的为准 :)  发表于 2024-9-17 15:27

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    23#
    发表于 2024-9-17 08:39:20 | 只看该作者
    moletronic 发表于 2024-9-16 18:15
    " r, V7 L6 \  y  G3 k4 a这个有点扯,新机到货后肯定要调试的,但绝对用不了两年的时间。
    / L, M; W' U) p# M
    但干式到浸润的步子没那么大,这说对了吗?
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  • TA的每日心情
    开心
    2023-2-8 04:51
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    [LV.Master]无

    24#
     楼主| 发表于 2024-9-17 10:54:17 | 只看该作者
    本帖最后由 moletronic 于 2024-9-16 18:56 编辑
    $ g4 X+ p' T" q0 h$ M
    晨枫 发表于 2024-9-16 16:392 U6 [, {# p0 o3 y3 i3 L# P8 M
    但干式到浸润的步子没那么大,这说对了吗?

    ) \. Q0 x/ O: S7 N# }5 t5 t! d# L4 K+ ]8 L' t
    按说这个跨越不算大,但Nikon就是浸水没搞定
    ) d- ]* _9 n8 M5 M8 u( X: [, [所以俺不敢做预测,只敢对已知的做评述

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    25#
    发表于 2024-9-17 11:08:25 | 只看该作者
    晨枫 发表于 2024-9-17 03:34
    9 l4 t- L+ F; b9 w- p. w不过EUV制作7nm可以轻易一次曝光,产率和良率应该提高很多?
    4 K5 s# U+ F( j" a( E1 j# s" l
    理论上是这样。但制造芯片是个复杂的过程,需要各方面不断打磨,才能接近理想的结果。现实中的例子,台积电用193nm光刻机率先量产7nm,三星则以更先进的EUV光刻机应战,由于对新型光刻机的熟悉不足,结果良率低下,很多人抛弃三星。最后三星赔本赚吆喝,开出比台积电低30%的代工费用,才勉强留下大客户。

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      发表于 2024-9-17 15:28

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    26#
    发表于 2024-9-17 11:13:01 | 只看该作者
    moletronic 发表于 2024-9-16 20:549 Z' d. x# o3 z
    按说这个跨越不算大,但Nikon就是浸水没搞定3 E  M9 c# U) X3 k( u4 A
    所以俺不敢做预测,只敢对已知的做评述 ...
    : T6 _$ h, g. t6 S
    有道理。7 X& I' `% n/ W9 E' \2 k

    5 I7 @3 J' z8 v) C* X# o6 u/ {+ G! Z不过现在看尼康和佳能的光刻机,总有感觉他们已经三心二意了。既然干不过阿斯麦,就用最小投资吊着。不退场,但也不全力以赴。7 |6 G! I2 u1 ~* I0 W9 i9 f

    1 B9 R; k$ j0 A2 u7 C中国肯定是全力以赴的。而且倾国之力肯定大于尼康、佳能。4 X0 Z" }/ g# U- R; n" H; g8 @; v8 M

    ( T  r" v$ J# _9 r8 Y$ }2 `这会有差别吗?
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    27#
    发表于 2024-9-17 11:13:37 | 只看该作者
    沉宝 发表于 2024-9-16 21:080 Y+ ~. C5 A9 q  c3 ?
    理论上是这样。但制造芯片是个复杂的过程,需要各方面不断打磨,才能接近理想的结果。现实中的例子,台积 ...

    1 |& B" K  \) r1 Z6 Y5 N这倒是个问题。都说韩国人拼,看来还是拼不过中国人。台湾人也是中国人嘛。
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    28#
    发表于 2024-9-17 11:19:08 | 只看该作者
    moletronic 发表于 2024-9-17 10:543 D2 j$ j' ^" M4 t5 g3 R  p
    按说这个跨越不算大,但Nikon就是浸水没搞定
    " {, U' j# M4 p$ R  J5 `$ R- g所以俺不敢做预测,只敢对已知的做评述 ...

    6 b# J  i: E) t* m2 w还没搞定? 1 U% ?+ N( q! _- w# J
    我可能是09年去给Nikon做实验,他们想搞明白光刻机里面为什么会产生微气泡,想买个做实验的系统。我在的小破公司搭了一个,然后过去一起做,看能不能用。那个时候估计还是早期,这些基础的问题都没个数。做了几个实验,证明可以捕捉到微气泡发生,成长和运动的轨迹,我就撤了。这都十五年过去了。* n7 d' H* |  i0 S0 }
    尼康那时候已经有点不灵的迹象,食堂里面睡满了安装队的人。正常的话那些人都是满世界跑给别人装机器的。, ~* P7 V( ?: `( Y8 L

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    坛里藏龙卧虎啊  发表于 2024-9-17 15:31

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    29#
    发表于 2024-9-17 11:21:47 | 只看该作者
    moletronic 发表于 2024-9-16 20:545 U/ a5 r4 ^0 n3 Q
    按说这个跨越不算大,但Nikon就是浸水没搞定
    : g# O7 A* g+ L9 @) B! ]6 u8 C所以俺不敢做预测,只敢对已知的做评述 ...

    " ?) V9 a  u2 @5 O/ B4 h% ~突然想起来:现在就聚焦于逻辑芯片,存储芯片用的芯片技术一样吗?前一段听说长江还是谁的128还是256层NAND也被卡了,因为光刻机的事,这说法准确吗?高端NAND需要多少nm节点的光刻机?
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    30#
    发表于 2024-9-17 11:23:33 | 只看该作者
    晨枫 发表于 2024-9-17 11:13
    , t: Y1 `8 r0 i) Q有道理。8 p5 S$ L, R  q: t: h

    $ e: r- L% o  e不过现在看尼康和佳能的光刻机,总有感觉他们已经三心二意了。既然干不过阿斯麦,就用最小投资 ...
    6 ]% l( \5 {" Z- B, A
    可能是真没钱投资了。这些钱政府应该赞助的,可是政府也难呐,到处都是嗷嗷待哺的嘴,捉了个虫也不知道塞哪张嘴里。
    / O- A& z4 V, R3 B' g; ^3 i很多年前日本媒体评价日本财政用了很形象的词,叫硬直化。所有的钱都有定好的用处,几乎没有活动钱。需要财政支持的时候十分狼狈。该做的事情做不了,钱全都拿去维持日常运转了。

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      发表于 2024-9-17 15:32

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    31#
     楼主| 发表于 2024-9-17 11:28:54 | 只看该作者
    本帖最后由 moletronic 于 2024-9-16 19:33 编辑 - b( F! m# s6 l5 R" y+ [( d9 g3 j
    雷声 发表于 2024-9-16 19:19
    # ~! {7 w5 |6 M! ?, W) j还没搞定? - D) }& n2 v0 m$ g
    我可能是09年去给Nikon做实验,他们想搞明白光刻机里面为什么会产生微气泡,想买个做实验的 ...
    , w: r9 c  B" L( f7 y

    , k/ m+ D" |; y2 w) Q, \. Y6 tNikon是稳定性不行,被牙膏退货后就没人再买。疫情前去开spie的会,Nikon还吹牛自己行了,但主流客户没人用。
    3 d+ X& z" k5 l5 c有网上谣言说华为买了些Nikon自己魔改做出了9100…俺比较怀疑真实性。
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    32#
     楼主| 发表于 2024-9-17 11:31:01 | 只看该作者
    晨枫 发表于 2024-9-16 19:21# {1 P: @$ J9 L# T2 H7 Y
    突然想起来:现在就聚焦于逻辑芯片,存储芯片用的芯片技术一样吗?前一段听说长江还是谁的128还是256层NA ...

    % v! {2 k+ G" M, ?; ^4 |存储和逻辑的工艺重点不一样,节点体系也不同。存储那边现在还没上EUV。
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    33#
    发表于 2024-9-17 11:34:00 | 只看该作者
    moletronic 发表于 2024-9-16 21:31
    / R  y" Y* Q; \9 L存储和逻辑的工艺重点不一样,节点体系也不同。存储那边现在还没上EUV。 ...

    2 ~. y7 }/ g) G, A需要用到浸润DUV吗?3 a  o/ t8 l9 L( r0 K2 r
    / u, Q0 ?! n$ L2 F: L
    我的问题其实是:65nm光刻机能解决国内NAND厂的设备禁运问题吗?
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    [LV.Master]无

    34#
     楼主| 发表于 2024-9-17 11:37:50 | 只看该作者
    晨枫 发表于 2024-9-16 19:343 C2 a) _3 f3 U
    需要用到浸润DUV吗?
    0 c4 X3 C: a! W+ j3 f
    5 u, s# M* o2 z9 r我的问题其实是:65nm光刻机能解决国内NAND厂的设备禁运问题吗? ...
    " y  r7 m! [% [5 A) m
    浸水还是要的,这国产光刻机按公布的指标应该还是没法满足YMTC的全部要求。
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    35#
    发表于 2024-9-17 11:38:06 | 只看该作者
    雷声 发表于 2024-9-16 21:23( ]% e8 D4 L6 T$ D, z
    可能是真没钱投资了。这些钱政府应该赞助的,可是政府也难呐,到处都是嗷嗷待哺的嘴,捉了个虫也不知道塞 ...
    : J6 ?; I" L# H3 n$ q" T8 D2 O
    是的,需要钱的地方太多,但光刻机和芯片可能是不计代价砸钱的方向,优先级比谁都高。这个瓶颈突破后,不只是军事、科技上的阳关道,经济上也是大片的处女地啊。
    , x: c" L" N$ x. D' v
    5 z$ {5 T; H* l: B) e硬直化很形象。确实,西方家大业大,花钱手笔也大,但每一笔钱都预定了用处,活动余地真心很小。你看看美国在预算削减时那个鸡飞狗跳,就知道真是谁都动不得。“平均剃头”是公认的最坏选择,但是唯一大家可接受的选择。
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    36#
    发表于 2024-9-17 11:40:47 | 只看该作者
    moletronic 发表于 2024-9-16 21:37/ t2 G4 x8 G5 q
    浸水还是要的,这国产光刻机按公布的指标应该还是没法满足YMTC的全部要求。 ...

    ; I5 u! ?* K+ ]% j都说工信部这光刻机不是浸润式,但193nm光源,65nm分辨率,正好是2*1.44倍,是不是太巧了?
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    37#
    发表于 2024-9-17 11:43:29 | 只看该作者
    moletronic 发表于 2024-9-17 10:54
    % I9 {5 U" k8 W7 p- P按说这个跨越不算大,但Nikon就是浸水没搞定0 P8 `. d2 z% `$ Q4 ]
    所以俺不敢做预测,只敢对已知的做评述 ...

    2 X" t1 e1 g& G' R/ }6 J具体工作中还是有很多细节要克服。例如曝光时照到光的水会比遮蔽区的水热一点,这个温差会让水的密度不均匀,从而折射率不均匀,影响成像。为了避免温差,必须让水快速流动混合,但又要避免产生漩涡或者析出气泡。水可以把所接触物品上的杂质洗下来,带到晶圆上,形成缺陷。当初ASML搞浸润式光刻机时,在浸液系统上与林本坚团队合作,方案修改了7-8回,耗时两年多才取得满意的结果。

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  • TA的每日心情
    开心
    2023-2-8 04:51
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    38#
     楼主| 发表于 2024-9-17 11:59:49 | 只看该作者
    本帖最后由 moletronic 于 2024-9-16 20:02 编辑 5 S) W, m/ K; @* u! Z3 g
    沉宝 发表于 2024-9-16 19:430 V6 _) r. p. C% z6 E- d; w# z. B
    具体工作中还是有很多细节要克服。例如曝光时照到光的水会比遮蔽区的水热一点,这个温差会让水的密度不均 ...
    - H( B5 k/ X" j% T- u3 _7 s
    ' Q' R' r! p/ W
    这当然不容易,不过两年挺快啦,看看牙膏的10nm……
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  • TA的每日心情
    开心
    2023-2-8 04:51
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    39#
     楼主| 发表于 2024-9-17 12:01:58 | 只看该作者
    晨枫 发表于 2024-9-16 19:40
    % Z  J' t7 [4 H; `2 E3 J# X7 J都说工信部这光刻机不是浸润式,但193nm光源,65nm分辨率,正好是2*1.44倍,是不是太巧了? ...
    . \* _5 H* L% K; u5 p2 i
    不知道啦,也许是隐晦放风的说法。
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    40#
    发表于 2024-9-17 17:38:39 | 只看该作者
    晨枫 发表于 2024-9-17 11:130 H# b# a* V: v1 O
    这倒是个问题。都说韩国人拼,看来还是拼不过中国人。台湾人也是中国人嘛。 ...
    , d$ L  j8 o( W9 P' ~- r
    中国大,各地方人气质不一,各擅胜场。精细活儿江南地方超过东北山东。如此说来,韩国近东北山东,台湾精英是江浙后代。
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