TA的每日心情 | 慵懒
2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:007 I `' ?/ h5 m# e6 @
也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！
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个人感觉：相比于前一阵 ...
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应该会在5年内实现吧。
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微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）
2 J, G$ u) ]6 E24-9-16 23:55
5 _* L: a: l4 v1 L- K! I发布于 湖南: K4 b( P0 }1 @) t7 K* N9 M
来自 微博网页版 j0 R2 S* _7 u
啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机. g! V' d/ e( k
不是运过来就能直接开工的。5 R/ l" t" \5 T
他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。0 G' U# c1 ~% \; q& Y3 o
1 d5 c4 n) O5 c# U4 c. D- J, ^这个时间很长，也是我常年说：
$ X; k8 _( O5 Z- K0 b就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
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: ~: a/ \ x8 Q" h: I5 I现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。
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. d% q: T9 q/ w, Z9 |) i; D简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。
+ \" |0 q3 k \$ W干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）* ^* X% U0 l% u- {8 B7 d9 o& I
多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）8 O3 q0 z5 J9 U' t4 M1 c- O( T3 ^
但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了5 y; }' m6 w4 N7 t
2 J' W( p1 c; c& s8 ~没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。) L# i5 ^$ X6 d% X! W6 m
普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。( H* [ p2 N0 a
#华为mate70# 也没多久了。6 u( P4 \: k* c z0 u# M
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雷达卡
发表于 2024-9-17 08:06:46
显身卡
楼主
发表于 2024-9-17 08:39:20