国产光刻机猜测

老财迷

晨枫 发表于 2024-9-16 14:00
: V) N& l( D  _5 S, ?4 y1 C也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！
! T* w$ ?3 m) {3 c2 c. w' R! W
* v4 W! J6 J# o' X7 t3 t个人感觉：相比于前一阵 ...

这就要西方好好领教什么叫产能过剩了。

+ b/ V9 }) z( V' o; r, c9 {应该会在5年内实现吧。

2 s/ q2 c& X* \微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）
. e! j2 Z6 ]% P5 s. ?+ s24-9-16 23:55
( K6 a0 c! b4 L  C! f7 c3 m+ g发布于 湖南
2 X# a, Z* J' n4 x& d+ i来自 微博网页版
啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机
9 O- K  w1 ^, r0 G2 q6 N  t# ?不是运过来就能直接开工的。
他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。
7 k" X5 s5 a- R" d4 S3 \
7 H" O3 M5 o- C这个时间很长，也是我常年说：
' Q+ H; O8 l9 n) b就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。

现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。

简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。
* K* {( v0 s* K' u干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）
1 ~. A' x1 v6 o$ ~8 j8 k多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）
但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了

* Q! \" l' x$ \1 V没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。
; c% |( C8 x8 W4 K4 `, p1 v0 Y普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
#华为mate70# 也没多久了。

moletronic

老财迷 发表于 2024-9-16 16:06
应该会在5年内实现吧。
& P' A6 d5 d) f# Y
微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）

1 [( B6 l1 ]; a# P/ c% v, R9 k
这个有点扯，新机到货后肯定要调试的，但绝对用不了两年的时间。

晨枫

moletronic 发表于 2024-9-16 18:15
这个有点扯，新机到货后肯定要调试的，但绝对用不了两年的时间。

但干式到浸润的步子没那么大，这说对了吗？

moletronic

1 H( ?. A  ^( _+ c- w

晨枫 发表于 2024-9-16 16:39
但干式到浸润的步子没那么大，这说对了吗？

9 u8 e0 z4 J* F) X" s, g. ~; z5 F
按说这个跨越不算大，但Nikon就是浸水没搞定
所以俺不敢做预测，只敢对已知的做评述

沉宝

晨枫 发表于 2024-9-17 03:34
不过EUV制作7nm可以轻易一次曝光，产率和良率应该提高很多？

8 V0 U- w. D2 ]理论上是这样。但制造芯片是个复杂的过程，需要各方面不断打磨，才能接近理想的结果。现实中的例子，台积电用193nm光刻机率先量产7nm，三星则以更先进的EUV光刻机应战，由于对新型光刻机的熟悉不足，结果良率低下，很多人抛弃三星。最后三星赔本赚吆喝，开出比台积电低30%的代工费用，才勉强留下大客户。

晨枫

moletronic 发表于 2024-9-16 20:54
8 b9 Y# n) t7 n3 [7 g按说这个跨越不算大，但Nikon就是浸水没搞定
所以俺不敢做预测，只敢对已知的做评述 ...

0 O9 @. H* X) }; j; A# M有道理。
% K; W; D# g6 V& _/ ~* U
6 c# J/ o5 g7 h5 c9 u! E不过现在看尼康和佳能的光刻机，总有感觉他们已经三心二意了。既然干不过阿斯麦，就用最小投资吊着。不退场，但也不全力以赴。

$ \/ ~9 l( ~3 i! Q) }; i+ T# d+ v( ?中国肯定是全力以赴的。而且倾国之力肯定大于尼康、佳能。

这会有差别吗？

晨枫

沉宝 发表于 2024-9-16 21:08
理论上是这样。但制造芯片是个复杂的过程，需要各方面不断打磨，才能接近理想的结果。现实中的例子，台积 ...

2 y5 {7 G, d2 F2 Z这倒是个问题。都说韩国人拼，看来还是拼不过中国人。台湾人也是中国人嘛。

雷声

moletronic 发表于 2024-9-17 10:54
1 U. u. X* z4 S( t1 _7 ^' C按说这个跨越不算大，但Nikon就是浸水没搞定
所以俺不敢做预测，只敢对已知的做评述 ...

还没搞定？
我可能是09年去给Nikon做实验，他们想搞明白光刻机里面为什么会产生微气泡，想买个做实验的系统。我在的小破公司搭了一个，然后过去一起做，看能不能用。那个时候估计还是早期，这些基础的问题都没个数。做了几个实验，证明可以捕捉到微气泡发生，成长和运动的轨迹，我就撤了。这都十五年过去了。
0 A1 u+ N6 C. @! J# s- G2 u6 n尼康那时候已经有点不灵的迹象，食堂里面睡满了安装队的人。正常的话那些人都是满世界跑给别人装机器的。

晨枫

moletronic 发表于 2024-9-16 20:54
按说这个跨越不算大，但Nikon就是浸水没搞定
所以俺不敢做预测，只敢对已知的做评述 ...

突然想起来：现在就聚焦于逻辑芯片，存储芯片用的芯片技术一样吗？前一段听说长江还是谁的128还是256层NAND也被卡了，因为光刻机的事，这说法准确吗？高端NAND需要多少nm节点的光刻机？

雷声

晨枫 发表于 2024-9-17 11:13
有道理。
& c) D4 ~6 }. Y- w2 {
不过现在看尼康和佳能的光刻机，总有感觉他们已经三心二意了。既然干不过阿斯麦，就用最小投资 ...

可能是真没钱投资了。这些钱政府应该赞助的，可是政府也难呐，到处都是嗷嗷待哺的嘴，捉了个虫也不知道塞哪张嘴里。
很多年前日本媒体评价日本财政用了很形象的词，叫硬直化。所有的钱都有定好的用处，几乎没有活动钱。需要财政支持的时候十分狼狈。该做的事情做不了，钱全都拿去维持日常运转了。

moletronic

雷声 发表于 2024-9-16 19:19
还没搞定？
3 }  [+ f2 T) [5 e! o1 ]9 i6 z我可能是09年去给Nikon做实验，他们想搞明白光刻机里面为什么会产生微气泡，想买个做实验的 ...

: P: c3 N5 o6 f% f4 L# H2 [
) a3 s2 F/ i$ d6 B) yNikon是稳定性不行，被牙膏退货后就没人再买。疫情前去开spie的会，Nikon还吹牛自己行了，但主流客户没人用。
, b1 z  M0 B% Z/ D: A, N有网上谣言说华为买了些Nikon自己魔改做出了9100…俺比较怀疑真实性。

moletronic

晨枫 发表于 2024-9-16 19:21
' y9 ~' `; \3 J0 V5 c+ O+ q突然想起来：现在就聚焦于逻辑芯片，存储芯片用的芯片技术一样吗？前一段听说长江还是谁的128还是256层NA ...

+ k9 r; i0 w1 T  P5 ^1 R) Z4 Z7 |  E存储和逻辑的工艺重点不一样，节点体系也不同。存储那边现在还没上EUV。

晨枫

moletronic 发表于 2024-9-16 21:31
存储和逻辑的工艺重点不一样，节点体系也不同。存储那边现在还没上EUV。 ...

4 ~' b; a- v' R4 E3 u+ R2 r5 t0 x需要用到浸润DUV吗？
! i, H8 I+ h5 s7 O
3 g6 C' Z/ M9 l+ q" o1 D+ \我的问题其实是：65nm光刻机能解决国内NAND厂的设备禁运问题吗？

moletronic

晨枫 发表于 2024-9-16 19:34
7 a# M& d6 z2 \  A8 g需要用到浸润DUV吗？
( E& H5 {2 J! T1 [; b$ ]% ]5 u% g$ E/ ?7 Y
我的问题其实是：65nm光刻机能解决国内NAND厂的设备禁运问题吗？ ...

浸水还是要的，这国产光刻机按公布的指标应该还是没法满足YMTC的全部要求。

晨枫

雷声 发表于 2024-9-16 21:23
% x# G! L" E1 r可能是真没钱投资了。这些钱政府应该赞助的，可是政府也难呐，到处都是嗷嗷待哺的嘴，捉了个虫也不知道塞 ...

0 H) p7 p1 e5 u! d是的，需要钱的地方太多，但光刻机和芯片可能是不计代价砸钱的方向，优先级比谁都高。这个瓶颈突破后，不只是军事、科技上的阳关道，经济上也是大片的处女地啊。
8 c$ L5 f' Z9 n
9 C3 r9 {6 x* P4 j) s4 t' w硬直化很形象。确实，西方家大业大，花钱手笔也大，但每一笔钱都预定了用处，活动余地真心很小。你看看美国在预算削减时那个鸡飞狗跳，就知道真是谁都动不得。“平均剃头”是公认的最坏选择，但是唯一大家可接受的选择。

晨枫

moletronic 发表于 2024-9-16 21:37
1 N% ^' j. ^- W- ^" S5 [& i. v浸水还是要的，这国产光刻机按公布的指标应该还是没法满足YMTC的全部要求。 ...

) D# P9 P) p& `3 {( s. E; C' T4 t都说工信部这光刻机不是浸润式，但193nm光源，65nm分辨率，正好是2*1.44倍，是不是太巧了？

沉宝

moletronic 发表于 2024-9-17 10:54
' m# ?' S  `1 A5 U按说这个跨越不算大，但Nikon就是浸水没搞定
! |1 L5 T+ e2 L  ]6 D$ v; y所以俺不敢做预测，只敢对已知的做评述 ...

0 R$ z4 j' k0 \! B+ c1 o8 L具体工作中还是有很多细节要克服。例如曝光时照到光的水会比遮蔽区的水热一点，这个温差会让水的密度不均匀，从而折射率不均匀，影响成像。为了避免温差，必须让水快速流动混合，但又要避免产生漩涡或者析出气泡。水可以把所接触物品上的杂质洗下来，带到晶圆上，形成缺陷。当初ASML搞浸润式光刻机时，在浸液系统上与林本坚团队合作，方案修改了7-8回，耗时两年多才取得满意的结果。

moletronic

沉宝 发表于 2024-9-16 19:43
1 {* W: U# y9 [0 h具体工作中还是有很多细节要克服。例如曝光时照到光的水会比遮蔽区的水热一点，这个温差会让水的密度不均 ...

这当然不容易，不过两年挺快啦，看看牙膏的10nm……

moletronic

晨枫 发表于 2024-9-16 19:40
2 c; f! z* y/ i# X/ v, g; n都说工信部这光刻机不是浸润式，但193nm光源，65nm分辨率，正好是2*1.44倍，是不是太巧了？ ...

不知道啦，也许是隐晦放风的说法。

hsb

晨枫 发表于 2024-9-17 11:13
* l3 M: z1 x! F% v这倒是个问题。都说韩国人拼，看来还是拼不过中国人。台湾人也是中国人嘛。 ...

中国大，各地方人气质不一，各擅胜场。精细活儿江南地方超过东北山东。如此说来，韩国近东北山东，台湾精英是江浙后代。