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[科普知识] 国产光刻机猜测

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  • TA的每日心情
    慵懒
    2022-8-27 22:14
  • 签到天数: 351 天

    [LV.8]合体

    21#
    发表于 2024-9-17 08:06:46 | 只看该作者
    晨枫 发表于 2024-9-16 14:00! ^5 |/ E: i; e  @
    也就是说,即使28nm现在还有光刻机瓶颈,其他也都就绪、只欠东风了。这是好事!
    , C5 _  B+ b9 Z8 L. l  _  l1 x8 x/ V0 C3 j: J& k
    个人感觉:相比于前一阵 ...

    7 c8 z# E' t1 T7 X* E' ?: X
    ! m( x: g0 C& U9 w, z
    这就要西方好好领教什么叫产能过剩了。
    . j( s0 I' t& ^
    应该会在5年内实现吧。
    , k% n( z) e+ d+ ~% ]( c* ~5 b3 N" ]
    微博上有位“沉睡之书11”说的。(不一定准确,可以看看)
    6 [# T4 R  E- L) l; j- Z9 }7 D24-9-16 23:55: `8 ?1 h4 c0 O
    发布于 湖南
    . s5 e2 T' i6 ]来自 微博网页版/ w" M9 P2 C6 Q% o8 R- P% O1 q
    啊,说过很多次了,#光刻机# 不是挖机9 X/ W' m0 h+ {7 f7 M3 E
    不是运过来就能直接开工的。
    : q1 I( p" f" [, p2 n5 |1 D他需要调试,需要不断的用,一边用一边调整,等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。
    . W7 u/ U8 i$ l. p  U8 |1 t! o
    , T  F& Q- |5 R; D8 n这个时间很长,也是我常年说:% J/ i& n% d% p/ K  Q. p
    就算今天ASML传送一台EUV给咱,我们拿到第一批量产的芯片流片完(无论7nm,5nm还是多少)起码2年后——这最乐观的2年时间,还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。- E; Y# k' V* ~& A! Q

    " j4 g( |$ x: v现在发布的这台机器是起码3年前就验收了(科工),现在工信部验收推广(产业链),成熟得不行了才拿出来的。你需要,给钱就有,不限量。
    9 ^& w) K5 X) x+ c
    + p8 q3 D! ?6 E简单理解就是——这机子是干式光刻机,做的是65-55nm的芯片,一次曝光。( q2 J# n/ M0 W( N$ k7 e1 ]; p4 o/ ?2 n
    干式光刻机没啥意义,为什么呢?因为改进之后的也可以出产低制程的,向下兼容并且良率更高(成本低方案成熟)
    - p: H4 E' ~  {: Q* x8 S多重曝光也不是这哥们来做……(我是不清楚干式光刻机有没人搞这个)# R5 D' R$ N2 Z( Y% J/ y! D; I0 V8 k
    但这玩意的光路设计啥的,是成型了的。有了它,就加浸没式透镜,修改物镜,最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机,但起码上线了2年了  m4 t- G* t# @

    * v' x& @8 i) k6 d! z% d没公布的那个肯定还在不断的调试,修改,更换国产配件。
    # T* s; ?4 {; V* e, V普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
    5 ~5 H3 {: J3 L; O#华为mate70# 也没多久了。
    $ N( o: g' e' g' c: U8 b6 ^

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    这真是极好的: 5.0
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      发表于 2024-9-18 15:38
    给力: 5 涨姿势: 5 这真是极好的: 5
      发表于 2024-9-17 08:38
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  • TA的每日心情
    开心
    2023-2-8 04:51
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    [LV.Master]无

    22#
     楼主| 发表于 2024-9-17 08:15:36 | 只看该作者
    老财迷 发表于 2024-9-16 16:06
    ( a4 d, m" T7 Y' d% W应该会在5年内实现吧。3 T! E* f) h9 ]; T( G
    . k& }. M! L% G, d2 F0 l  R
    微博上有位“沉睡之书11”说的。(不一定准确,可以看看)

    ' v: y. B7 R; Q% p0 n% W# c' o8 h' z) K8 y/ h+ d3 X; i& _
    这个有点扯,新机到货后肯定要调试的,但绝对用不了两年的时间。

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    以你说的为准 :)  发表于 2024-9-17 15:27

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    23#
    发表于 2024-9-17 08:39:20 | 只看该作者
    moletronic 发表于 2024-9-16 18:15$ c, S" c6 r+ ]( t0 @! u4 d
    这个有点扯,新机到货后肯定要调试的,但绝对用不了两年的时间。
    + K; b! Z4 ~9 e2 c) o6 \7 _8 b
    但干式到浸润的步子没那么大,这说对了吗?
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  • TA的每日心情
    开心
    2023-2-8 04:51
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    [LV.Master]无

    24#
     楼主| 发表于 2024-9-17 10:54:17 | 只看该作者
    本帖最后由 moletronic 于 2024-9-16 18:56 编辑 + K: _* F2 Q6 x. W* N9 y
    晨枫 发表于 2024-9-16 16:39
    % a+ B8 G* K8 o但干式到浸润的步子没那么大,这说对了吗?

    ) L& {; z9 M3 K: v5 j7 }/ {) R+ Y. \  W, q- T1 w
    按说这个跨越不算大,但Nikon就是浸水没搞定
    " c  U$ J1 b+ M& [9 y$ F$ u所以俺不敢做预测,只敢对已知的做评述

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    25#
    发表于 2024-9-17 11:08:25 | 只看该作者
    晨枫 发表于 2024-9-17 03:34
    1 K8 t  |: k3 i不过EUV制作7nm可以轻易一次曝光,产率和良率应该提高很多?
    7 [  P) m- _( V4 e5 w4 ~
    理论上是这样。但制造芯片是个复杂的过程,需要各方面不断打磨,才能接近理想的结果。现实中的例子,台积电用193nm光刻机率先量产7nm,三星则以更先进的EUV光刻机应战,由于对新型光刻机的熟悉不足,结果良率低下,很多人抛弃三星。最后三星赔本赚吆喝,开出比台积电低30%的代工费用,才勉强留下大客户。

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      发表于 2024-9-17 15:28

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    26#
    发表于 2024-9-17 11:13:01 | 只看该作者
    moletronic 发表于 2024-9-16 20:54
    8 s1 ?% s9 Z6 D5 q按说这个跨越不算大,但Nikon就是浸水没搞定
    6 B* c$ N4 q! D9 h所以俺不敢做预测,只敢对已知的做评述 ...
    ' [' p+ \, {& ^, x" A! `" b
    有道理。" ]( ~) {5 |' E/ U. A

    0 `8 k5 K$ X* s$ o5 ]不过现在看尼康和佳能的光刻机,总有感觉他们已经三心二意了。既然干不过阿斯麦,就用最小投资吊着。不退场,但也不全力以赴。1 t! v) |7 I$ V% Y
    8 m0 g$ l( i3 a+ n
    中国肯定是全力以赴的。而且倾国之力肯定大于尼康、佳能。
    2 w7 O4 U- B6 K  T8 i+ z6 v4 K( T* B3 M* o7 I" c
    这会有差别吗?
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    27#
    发表于 2024-9-17 11:13:37 | 只看该作者
    沉宝 发表于 2024-9-16 21:083 P+ E# ~& f0 F
    理论上是这样。但制造芯片是个复杂的过程,需要各方面不断打磨,才能接近理想的结果。现实中的例子,台积 ...

    ) ^; w6 a6 b' W+ o/ i$ @! h' U这倒是个问题。都说韩国人拼,看来还是拼不过中国人。台湾人也是中国人嘛。
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    28#
    发表于 2024-9-17 11:19:08 | 只看该作者
    moletronic 发表于 2024-9-17 10:54' L4 F1 g) m& A9 `
    按说这个跨越不算大,但Nikon就是浸水没搞定6 o/ t% S6 B- l1 Q0 G
    所以俺不敢做预测,只敢对已知的做评述 ...
    / P) s  a  L* w3 S
    还没搞定?
    6 w2 I: M8 e( d) \3 r5 X我可能是09年去给Nikon做实验,他们想搞明白光刻机里面为什么会产生微气泡,想买个做实验的系统。我在的小破公司搭了一个,然后过去一起做,看能不能用。那个时候估计还是早期,这些基础的问题都没个数。做了几个实验,证明可以捕捉到微气泡发生,成长和运动的轨迹,我就撤了。这都十五年过去了。
    " p9 M' L' K4 y; A. z( h1 j4 h尼康那时候已经有点不灵的迹象,食堂里面睡满了安装队的人。正常的话那些人都是满世界跑给别人装机器的。  A3 A+ O# Y0 B1 d

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    坛里藏龙卧虎啊  发表于 2024-9-17 15:31

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    29#
    发表于 2024-9-17 11:21:47 | 只看该作者
    moletronic 发表于 2024-9-16 20:54
    : Y( i8 f  W+ t- U按说这个跨越不算大,但Nikon就是浸水没搞定$ r5 h3 ~3 A; W5 V5 g
    所以俺不敢做预测,只敢对已知的做评述 ...

    , `+ z2 G  [# T( y突然想起来:现在就聚焦于逻辑芯片,存储芯片用的芯片技术一样吗?前一段听说长江还是谁的128还是256层NAND也被卡了,因为光刻机的事,这说法准确吗?高端NAND需要多少nm节点的光刻机?
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    30#
    发表于 2024-9-17 11:23:33 | 只看该作者
    晨枫 发表于 2024-9-17 11:139 c5 W4 t: J6 Z1 `4 m! N# N* n
    有道理。
    ! X- ]% d; j9 F5 I- Y1 d/ {5 A- l- M4 a& a; n1 M$ e1 B
    不过现在看尼康和佳能的光刻机,总有感觉他们已经三心二意了。既然干不过阿斯麦,就用最小投资 ...
    " a: }; R# x9 B# {2 {
    可能是真没钱投资了。这些钱政府应该赞助的,可是政府也难呐,到处都是嗷嗷待哺的嘴,捉了个虫也不知道塞哪张嘴里。
    ) B, S5 {0 w; l* a6 c. R, ^很多年前日本媒体评价日本财政用了很形象的词,叫硬直化。所有的钱都有定好的用处,几乎没有活动钱。需要财政支持的时候十分狼狈。该做的事情做不了,钱全都拿去维持日常运转了。

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      发表于 2024-9-17 15:32

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    31#
     楼主| 发表于 2024-9-17 11:28:54 | 只看该作者
    本帖最后由 moletronic 于 2024-9-16 19:33 编辑 & X+ ^) h4 W; a- ^1 [  w
    雷声 发表于 2024-9-16 19:19
    ! r$ N" ?1 q3 R/ U还没搞定?
    ' v' M  Z, @: M/ ]) f我可能是09年去给Nikon做实验,他们想搞明白光刻机里面为什么会产生微气泡,想买个做实验的 ...
      A& v% w, s0 A. |5 P1 K

    ; _; {  \" u* y. ?4 U- |Nikon是稳定性不行,被牙膏退货后就没人再买。疫情前去开spie的会,Nikon还吹牛自己行了,但主流客户没人用。
    - d9 Z8 s1 z" E4 j有网上谣言说华为买了些Nikon自己魔改做出了9100…俺比较怀疑真实性。
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    32#
     楼主| 发表于 2024-9-17 11:31:01 | 只看该作者
    晨枫 发表于 2024-9-16 19:21
    5 ~2 t- D1 p! i* ~* O& v. K突然想起来:现在就聚焦于逻辑芯片,存储芯片用的芯片技术一样吗?前一段听说长江还是谁的128还是256层NA ...
    $ x0 K! T( b+ S+ A, G) ?! v
    存储和逻辑的工艺重点不一样,节点体系也不同。存储那边现在还没上EUV。
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    33#
    发表于 2024-9-17 11:34:00 | 只看该作者
    moletronic 发表于 2024-9-16 21:316 ~) X6 p- ^" Z8 p$ S" A' O* z* g
    存储和逻辑的工艺重点不一样,节点体系也不同。存储那边现在还没上EUV。 ...
    1 r* T5 c. h" Q2 @: L
    需要用到浸润DUV吗?
    & m- q( j5 G# J6 \) S9 L: N5 e0 R  u$ J9 p, e7 R, C* E" I/ x6 B
    我的问题其实是:65nm光刻机能解决国内NAND厂的设备禁运问题吗?
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    2023-2-8 04:51
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    [LV.Master]无

    34#
     楼主| 发表于 2024-9-17 11:37:50 | 只看该作者
    晨枫 发表于 2024-9-16 19:34
    ' d) O4 e: K7 @需要用到浸润DUV吗?! W, k" e; A' s6 Y. }3 G- ]" \- Z

    * M4 g/ @# G1 y- W/ x+ h我的问题其实是:65nm光刻机能解决国内NAND厂的设备禁运问题吗? ...
    " e0 H9 G0 u6 z' n; [  z
    浸水还是要的,这国产光刻机按公布的指标应该还是没法满足YMTC的全部要求。
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    35#
    发表于 2024-9-17 11:38:06 | 只看该作者
    雷声 发表于 2024-9-16 21:23
    3 q& a" p+ Y6 b  t: V% K可能是真没钱投资了。这些钱政府应该赞助的,可是政府也难呐,到处都是嗷嗷待哺的嘴,捉了个虫也不知道塞 ...

    6 H0 y$ D7 @- L( G  Y是的,需要钱的地方太多,但光刻机和芯片可能是不计代价砸钱的方向,优先级比谁都高。这个瓶颈突破后,不只是军事、科技上的阳关道,经济上也是大片的处女地啊。
    & @( e9 t) o% ~! P$ \  D7 d! U" z' Y. c
    硬直化很形象。确实,西方家大业大,花钱手笔也大,但每一笔钱都预定了用处,活动余地真心很小。你看看美国在预算削减时那个鸡飞狗跳,就知道真是谁都动不得。“平均剃头”是公认的最坏选择,但是唯一大家可接受的选择。
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    36#
    发表于 2024-9-17 11:40:47 | 只看该作者
    moletronic 发表于 2024-9-16 21:37' F% ^& j7 b. S* ]8 _* ~
    浸水还是要的,这国产光刻机按公布的指标应该还是没法满足YMTC的全部要求。 ...
    ( M+ ^  F! n6 o; |" h
    都说工信部这光刻机不是浸润式,但193nm光源,65nm分辨率,正好是2*1.44倍,是不是太巧了?
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    37#
    发表于 2024-9-17 11:43:29 | 只看该作者
    moletronic 发表于 2024-9-17 10:54: ^' d1 I( K" F  R, s
    按说这个跨越不算大,但Nikon就是浸水没搞定5 G6 k* ]# D1 E0 o9 T$ @: _+ k
    所以俺不敢做预测,只敢对已知的做评述 ...

    ; E1 B( W1 H0 E  ~+ b% N1 g具体工作中还是有很多细节要克服。例如曝光时照到光的水会比遮蔽区的水热一点,这个温差会让水的密度不均匀,从而折射率不均匀,影响成像。为了避免温差,必须让水快速流动混合,但又要避免产生漩涡或者析出气泡。水可以把所接触物品上的杂质洗下来,带到晶圆上,形成缺陷。当初ASML搞浸润式光刻机时,在浸液系统上与林本坚团队合作,方案修改了7-8回,耗时两年多才取得满意的结果。

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  • TA的每日心情
    开心
    2023-2-8 04:51
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    38#
     楼主| 发表于 2024-9-17 11:59:49 | 只看该作者
    本帖最后由 moletronic 于 2024-9-16 20:02 编辑 : m' {1 `1 I' h4 Y
    沉宝 发表于 2024-9-16 19:43
    ) R5 t3 `( z/ `具体工作中还是有很多细节要克服。例如曝光时照到光的水会比遮蔽区的水热一点,这个温差会让水的密度不均 ...
    % d' G/ R2 y( ~& ~& w
    1 B3 R# a* u8 i  {* i
    这当然不容易,不过两年挺快啦,看看牙膏的10nm……
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  • TA的每日心情
    开心
    2023-2-8 04:51
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    39#
     楼主| 发表于 2024-9-17 12:01:58 | 只看该作者
    晨枫 发表于 2024-9-16 19:40
    + I) R# O# C0 z' k- _都说工信部这光刻机不是浸润式,但193nm光源,65nm分辨率,正好是2*1.44倍,是不是太巧了? ...
    6 E0 \; ]3 o0 l& h
    不知道啦,也许是隐晦放风的说法。
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    40#
    发表于 2024-9-17 17:38:39 | 只看该作者
    晨枫 发表于 2024-9-17 11:13* H( b0 v/ q. P4 ~
    这倒是个问题。都说韩国人拼,看来还是拼不过中国人。台湾人也是中国人嘛。 ...
    : x% N) O0 J/ Y4 J5 o/ Q
    中国大,各地方人气质不一,各擅胜场。精细活儿江南地方超过东北山东。如此说来,韩国近东北山东,台湾精英是江浙后代。
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