TA的每日心情 | 慵懒 2022-8-27 22:14 |
|---|
签到天数: 351 天 [LV.8]合体
|
晨枫 发表于 2024-9-16 14:006 f( T8 N) O; @/ d, Q1 Y* X/ }
也就是说,即使28nm现在还有光刻机瓶颈,其他也都就绪、只欠东风了。这是好事!
! V4 V1 A% k' X- l2 B7 o8 _
7 O3 @* [2 B) w' i个人感觉:相比于前一阵 ...
) G6 t* O1 q4 Q+ Z( M" U9 N- }7 H I; n% g" J E) d
! n7 G( z. Y c( S/ U6 A, k3 |
应该会在5年内实现吧。1 `" h% B1 _: U& u K. Q
1 g. b8 }5 n7 g- X- b& c
微博上有位“沉睡之书11”说的。(不一定准确,可以看看)
9 l( X! I8 p6 p& n- n. r5 z: d1 n24-9-16 23:55
6 H( I M. u7 O发布于 湖南2 v5 i# A* b! e9 r8 ~3 V
来自 微博网页版9 }% b# S+ _3 z
啊,说过很多次了,#光刻机# 不是挖机/ v/ Y! c! O6 `2 ~1 S8 @. d- o W
不是运过来就能直接开工的。
/ i8 T$ ~4 X% T: E: x2 B他需要调试,需要不断的用,一边用一边调整,等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。
6 v3 E$ t3 R; h5 c' |
! X" \( b5 H+ e. |3 f这个时间很长,也是我常年说:% \+ C4 R4 Q3 {; i! y2 D' B7 M, R7 P
就算今天ASML传送一台EUV给咱,我们拿到第一批量产的芯片流片完(无论7nm,5nm还是多少)起码2年后——这最乐观的2年时间,还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
; _- @; d) j- J' F% e! t! a+ U i3 q
现在发布的这台机器是起码3年前就验收了(科工),现在工信部验收推广(产业链),成熟得不行了才拿出来的。你需要,给钱就有,不限量。$ b$ M- f) @2 |8 a' |0 E; S! n
" `# y) ~7 H: L3 m+ D$ }; r简单理解就是——这机子是干式光刻机,做的是65-55nm的芯片,一次曝光。
( g K r5 Q* \- y8 ^3 O干式光刻机没啥意义,为什么呢?因为改进之后的也可以出产低制程的,向下兼容并且良率更高(成本低方案成熟)
7 _6 }* p% a; ]! h' }多重曝光也不是这哥们来做……(我是不清楚干式光刻机有没人搞这个)" r+ q5 a/ {( E: e
但这玩意的光路设计啥的,是成型了的。有了它,就加浸没式透镜,修改物镜,最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机,但起码上线了2年了8 n/ Z! l' \" X) O0 K
/ I& e1 T, @. a1 y1 B. q
没公布的那个肯定还在不断的调试,修改,更换国产配件。
% U+ J; J5 N5 k# ~普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
0 x$ k# h+ u* ?5 t& G+ ~ @#华为mate70# 也没多久了。
, q6 X8 N& @" x) P k. ^- o6 B |
|