国产光刻机猜测

老财迷

晨枫 发表于 2024-9-16 14:00
) @0 W7 K& s3 {/ v- d也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！

. Y& b& Z6 q6 L个人感觉：相比于前一阵 ...

' E8 y7 A/ |- t5 `1 F
: J6 A7 h7 l# m( C

这就要西方好好领教什么叫产能过剩了。

应该会在5年内实现吧。

+ Y, |' P, O7 u% p/ b# n微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）
24-9-16 23:55
发布于 湖南
来自 微博网页版
; Q! i8 B) s* X啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机
不是运过来就能直接开工的。
, N- L1 {8 \% M3 J+ g7 ]他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。

- S& d6 w. q1 ~  J) r这个时间很长，也是我常年说：
就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
6 J( `2 A/ j( }! I* W/ c
现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。
0 B* r4 f2 m8 r# t8 S  t( V2 t/ A
简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。
干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）
0 @9 U& K+ L0 U' Q多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）
但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了

; r) J2 F3 v6 b. Q( w8 k: Y没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。
" S$ C# S, T1 S, _$ }$ H  x普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
4 s! K1 Z+ V% T6 H; c#华为mate70# 也没多久了。

moletronic

老财迷 发表于 2024-9-16 16:06
1 I# I' D% m" H9 H% Q应该会在5年内实现吧。

微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）

, k1 b0 _, {# \2 m/ T
这个有点扯，新机到货后肯定要调试的，但绝对用不了两年的时间。

晨枫

moletronic 发表于 2024-9-16 18:15
这个有点扯，新机到货后肯定要调试的，但绝对用不了两年的时间。

但干式到浸润的步子没那么大，这说对了吗？

moletronic

  }8 O# y( h' h- l7 c' O

晨枫 发表于 2024-9-16 16:39
但干式到浸润的步子没那么大，这说对了吗？

按说这个跨越不算大，但Nikon就是浸水没搞定
/ x# Y. E; [1 J1 o8 F$ s所以俺不敢做预测，只敢对已知的做评述

沉宝

晨枫 发表于 2024-9-17 03:34
1 x. E$ h3 S6 u' C7 A不过EUV制作7nm可以轻易一次曝光，产率和良率应该提高很多？

/ Q- |" e7 O# d% ]理论上是这样。但制造芯片是个复杂的过程，需要各方面不断打磨，才能接近理想的结果。现实中的例子，台积电用193nm光刻机率先量产7nm，三星则以更先进的EUV光刻机应战，由于对新型光刻机的熟悉不足，结果良率低下，很多人抛弃三星。最后三星赔本赚吆喝，开出比台积电低30%的代工费用，才勉强留下大客户。

晨枫

moletronic 发表于 2024-9-16 20:54
1 H$ x2 _; A! T% {( ?1 w按说这个跨越不算大，但Nikon就是浸水没搞定
所以俺不敢做预测，只敢对已知的做评述 ...

有道理。

不过现在看尼康和佳能的光刻机，总有感觉他们已经三心二意了。既然干不过阿斯麦，就用最小投资吊着。不退场，但也不全力以赴。

中国肯定是全力以赴的。而且倾国之力肯定大于尼康、佳能。
: t/ G6 N+ R: v1 q0 ~
# I1 g2 _# _. S& ~. |这会有差别吗？

晨枫

沉宝 发表于 2024-9-16 21:08
理论上是这样。但制造芯片是个复杂的过程，需要各方面不断打磨，才能接近理想的结果。现实中的例子，台积 ...

6 Z/ l8 W  N( z7 n+ z( s5 y这倒是个问题。都说韩国人拼，看来还是拼不过中国人。台湾人也是中国人嘛。

雷声

moletronic 发表于 2024-9-17 10:54
按说这个跨越不算大，但Nikon就是浸水没搞定
所以俺不敢做预测，只敢对已知的做评述 ...

还没搞定？
5 E% s+ Q9 O) y0 U* t2 a我可能是09年去给Nikon做实验，他们想搞明白光刻机里面为什么会产生微气泡，想买个做实验的系统。我在的小破公司搭了一个，然后过去一起做，看能不能用。那个时候估计还是早期，这些基础的问题都没个数。做了几个实验，证明可以捕捉到微气泡发生，成长和运动的轨迹，我就撤了。这都十五年过去了。
7 d  b/ O4 Z( D! q2 [尼康那时候已经有点不灵的迹象，食堂里面睡满了安装队的人。正常的话那些人都是满世界跑给别人装机器的。
  {. S7 g0 e; c' F

晨枫

moletronic 发表于 2024-9-16 20:54
按说这个跨越不算大，但Nikon就是浸水没搞定
所以俺不敢做预测，只敢对已知的做评述 ...

8 |  M1 A* N0 n* ~0 f突然想起来：现在就聚焦于逻辑芯片，存储芯片用的芯片技术一样吗？前一段听说长江还是谁的128还是256层NAND也被卡了，因为光刻机的事，这说法准确吗？高端NAND需要多少nm节点的光刻机？

雷声

晨枫 发表于 2024-9-17 11:13
有道理。
$ y3 d* C2 |* `- A8 f0 n& H3 m4 l
+ x3 \8 r8 v1 o/ {/ J不过现在看尼康和佳能的光刻机，总有感觉他们已经三心二意了。既然干不过阿斯麦，就用最小投资 ...

可能是真没钱投资了。这些钱政府应该赞助的，可是政府也难呐，到处都是嗷嗷待哺的嘴，捉了个虫也不知道塞哪张嘴里。
很多年前日本媒体评价日本财政用了很形象的词，叫硬直化。所有的钱都有定好的用处，几乎没有活动钱。需要财政支持的时候十分狼狈。该做的事情做不了，钱全都拿去维持日常运转了。

moletronic

雷声 发表于 2024-9-16 19:19
还没搞定？
. ]9 ?1 v( s  X  _/ K/ A我可能是09年去给Nikon做实验，他们想搞明白光刻机里面为什么会产生微气泡，想买个做实验的 ...

3 A1 ^8 C/ h% H
& l" }. }  l4 y7 UNikon是稳定性不行，被牙膏退货后就没人再买。疫情前去开spie的会，Nikon还吹牛自己行了，但主流客户没人用。
有网上谣言说华为买了些Nikon自己魔改做出了9100…俺比较怀疑真实性。

moletronic

晨枫 发表于 2024-9-16 19:21
: X/ V, i# K8 K7 P6 `突然想起来：现在就聚焦于逻辑芯片，存储芯片用的芯片技术一样吗？前一段听说长江还是谁的128还是256层NA ...

存储和逻辑的工艺重点不一样，节点体系也不同。存储那边现在还没上EUV。

晨枫

moletronic 发表于 2024-9-16 21:31
' W" \) l7 y1 x6 w: N) V: p' y存储和逻辑的工艺重点不一样，节点体系也不同。存储那边现在还没上EUV。 ...

需要用到浸润DUV吗？

, ?3 Q" C8 j/ s! m4 Y+ ?9 ^+ @我的问题其实是：65nm光刻机能解决国内NAND厂的设备禁运问题吗？

moletronic

晨枫 发表于 2024-9-16 19:34
7 ]& g; T& H4 V9 h) l2 F# H需要用到浸润DUV吗？
+ @% P3 J; y1 K; A  Q) o5 }
我的问题其实是：65nm光刻机能解决国内NAND厂的设备禁运问题吗？ ...

浸水还是要的，这国产光刻机按公布的指标应该还是没法满足YMTC的全部要求。

晨枫

雷声 发表于 2024-9-16 21:23
' X; ^/ v8 i# k4 }# j" ~1 q- I可能是真没钱投资了。这些钱政府应该赞助的，可是政府也难呐，到处都是嗷嗷待哺的嘴，捉了个虫也不知道塞 ...

是的，需要钱的地方太多，但光刻机和芯片可能是不计代价砸钱的方向，优先级比谁都高。这个瓶颈突破后，不只是军事、科技上的阳关道，经济上也是大片的处女地啊。

硬直化很形象。确实，西方家大业大，花钱手笔也大，但每一笔钱都预定了用处，活动余地真心很小。你看看美国在预算削减时那个鸡飞狗跳，就知道真是谁都动不得。“平均剃头”是公认的最坏选择，但是唯一大家可接受的选择。

晨枫

moletronic 发表于 2024-9-16 21:37
浸水还是要的，这国产光刻机按公布的指标应该还是没法满足YMTC的全部要求。 ...

都说工信部这光刻机不是浸润式，但193nm光源，65nm分辨率，正好是2*1.44倍，是不是太巧了？

沉宝

moletronic 发表于 2024-9-17 10:54
5 L% a- Y$ I! Y4 f按说这个跨越不算大，但Nikon就是浸水没搞定
) O$ ?- t- g; N0 m) e  }/ A所以俺不敢做预测，只敢对已知的做评述 ...

/ H* p' h. G4 e+ N- c* e具体工作中还是有很多细节要克服。例如曝光时照到光的水会比遮蔽区的水热一点，这个温差会让水的密度不均匀，从而折射率不均匀，影响成像。为了避免温差，必须让水快速流动混合，但又要避免产生漩涡或者析出气泡。水可以把所接触物品上的杂质洗下来，带到晶圆上，形成缺陷。当初ASML搞浸润式光刻机时，在浸液系统上与林本坚团队合作，方案修改了7-8回，耗时两年多才取得满意的结果。

moletronic

沉宝 发表于 2024-9-16 19:43
' B4 C2 R% Q+ C# p- |, y具体工作中还是有很多细节要克服。例如曝光时照到光的水会比遮蔽区的水热一点，这个温差会让水的密度不均 ...

' a, r' a) `4 u8 [( y+ n
这当然不容易，不过两年挺快啦，看看牙膏的10nm……

moletronic

晨枫 发表于 2024-9-16 19:40
都说工信部这光刻机不是浸润式，但193nm光源，65nm分辨率，正好是2*1.44倍，是不是太巧了？ ...

不知道啦，也许是隐晦放风的说法。

hsb

晨枫 发表于 2024-9-17 11:13
& W# o& G; w( ^这倒是个问题。都说韩国人拼，看来还是拼不过中国人。台湾人也是中国人嘛。 ...

中国大，各地方人气质不一，各擅胜场。精细活儿江南地方超过东北山东。如此说来，韩国近东北山东，台湾精英是江浙后代。