TA的每日心情 | 慵懒
2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:006 f( T8 N) O; @/ d, Q1 Y* X/ }
也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！
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7 O3 @* [2 B) w' i个人感觉：相比于前一阵 ...
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应该会在5年内实现吧。1 `" h% B1 _: U& u K. Q
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微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）
9 l( X! I8 p6 p& n- n. r5 z: d1 n24-9-16 23:55
6 H( I M. u7 O发布于 湖南2 v5 i# A* b! e9 r8 ~3 V
来自 微博网页版9 }% b# S+ _3 z
啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机/ v/ Y! c! O6 `2 ~1 S8 @. d- o W
不是运过来就能直接开工的。
/ i8 T$ ~4 X% T: E: x2 B他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。
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! X" \( b5 H+ e. |3 f这个时间很长，也是我常年说：% \+ C4 R4 Q3 {; i! y2 D' B7 M, R7 P
就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
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现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。$ b$ M- f) @2 |8 a' |0 E; S! n
" `# y) ~7 H: L3 m+ D$ }; r简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。
( g K r5 Q* \- y8 ^3 O干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）
7 _6 }* p% a; ]! h' }多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）" r+ q5 a/ {( E: e
但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了8 n/ Z! l' \" X) O0 K
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没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。
% U+ J; J5 N5 k# ~普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
0 x$ k# h+ u* ?5 t& G+ ~ @#华为mate70# 也没多久了。
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雷达卡
发表于 2024-9-17 08:06:46
显身卡
楼主
发表于 2024-9-17 08:39:20