TA的每日心情 | 慵懒
2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:003 w! Y" W( R1 t& v3 ~4 y8 p8 B
也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！' n) @) l, T% f E9 k+ s
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个人感觉：相比于前一阵 ...
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6 V3 h; c! |# z应该会在5年内实现吧。- O' p* H$ D! Q& z0 y+ i# z; q
9 ~* a8 L/ ~* c6 F微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）
8 V3 ]& e* X2 ^; G( C24-9-16 23:55
/ `3 m) b3 t8 I* l, ~3 @发布于 湖南
* A% E6 u2 p/ o1 \7 T4 r" q" {7 Y来自 微博网页版3 B+ c8 W5 O+ H( u. {" o# H
啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机
2 |% B7 a4 i: U不是运过来就能直接开工的。
4 w) o z6 d7 |3 }/ h% h他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。
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这个时间很长，也是我常年说：
, k& J: m" b) I5 b5 R. k! q( i4 [就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
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& E$ `3 n# x7 u/ p1 v i/ G现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。
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# j6 B8 G0 `2 u% | w简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。
3 a4 y" B/ B# r: @! C2 l# i- R干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）0 A Q$ ~+ F- c9 P
多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）* o( }' ]/ H3 s
但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了
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没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。1 }" {$ j3 |4 o
普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
" L8 T X4 i' Q* T4 \" K- R#华为mate70# 也没多久了。0 i3 w9 k2 o* n8 @+ Q- u2 L* U
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雷达卡
发表于 2024-9-17 08:06:46
显身卡
楼主
发表于 2024-9-17 08:39:20