TA的每日心情 | 慵懒
2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:00
% o1 @( r d) [' ^% E也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！+ a8 N% h# [* Z8 M
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个人感觉：相比于前一阵 ...
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应该会在5年内实现吧。, \4 B: C2 n+ }) I7 C) ?
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微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）- {2 c! c6 d8 @8 f: S
24-9-16 23:55
+ P8 j6 W# Q+ q' Y发布于 湖南
) W+ {+ ^( g7 a K7 F$ x, I2 k2 ^来自 微博网页版
6 t7 N( B! y7 a) [0 U6 i: }4 c啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机: t+ Q9 g* z/ W0 Q4 ^6 U% H" R+ T
不是运过来就能直接开工的。6 _; l3 y' f& I, n" r
他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。
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这个时间很长，也是我常年说：
6 `+ S0 d" Y4 i7 M" v就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。1 ]+ H( g' l, M: \
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现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。3 U1 J" G8 s0 V
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简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。
# @# Z9 S: u' s0 u, y3 y干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）4 L) e P* |. c5 R
多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）% |' C# H) j# ?! t
但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了% f& [* ^. |& k& H$ t; I
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没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。, [8 t0 k4 S D. ^' O5 {- Q/ p
普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
: f! c$ ]. j0 x" S, g# t* P2 G#华为mate70# 也没多久了。( e! S7 U1 X% \8 j9 A) }
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雷达卡
发表于 2024-9-17 08:06:46
显身卡
楼主
发表于 2024-9-17 08:39:20