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[LV.Master]无
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[LV.7]分神
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马鹿 发表于 2024-9-15 04:18" @7 m" Y$ Z- t b( w$ l8 J 我还以为你才30多岁。。。
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[LV.4]金丹
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[LV.8]合体
moletronic 发表于 2024-9-16 09:46; F9 S( r1 a/ G9 e# v 公布的参数只能确定的说解决了65nm的有无问题,对于代工厂来说要不要用还有几个关键参数没说。比如生产速度 ...
老财迷 发表于 2024-9-15 21:19 5 ?- f; v" U8 {3 F# A+ c感谢感谢 J1 [! Q8 Y+ y, \/ w* A' h5 }" }7 k1 {: G 工信部公布的是:2.1.6 氟化氩光刻机 晶圆直径:300mm;照明波长:193nm;分辨率≤ ...
晨枫 发表于 2024-9-16 14:00 / D5 K3 [4 w& \. e也就是说,即使28nm现在还有光刻机瓶颈,其他也都就绪、只欠东风了。这是好事!6 B" X1 {3 J V5 `% o / ~- y5 f* S; ^. S2 c个人感觉:相比于前一阵 ...
moletronic 发表于 2024-9-16 07:42 , B3 \* j, U" m' lEUV没有透镜,只有反射镜,整个光学系统完全不同。目前看不会再搞浸水了。 ...
沉宝 发表于 2024-9-16 12:463 Z% b2 A8 \0 J. d 不存在28nm光刻机,只有28nm工艺节点。3 u3 ^! A! h9 \0 A2 F) U# @% o , Z" t. l: T( @ 从光刻机所用的光源上来说,只有 193 nm (ArF激光) 和 13.5 nm ( ...
晨枫 发表于 2024-9-16 11:21 " T, B; w& D& p. a( `4 D; v也就是说,EUV用浸水没有用?
moletronic 发表于 2024-9-16 14:38( L+ A7 k2 r: _4 e 理论上有用,但目前没看到在路线图上。估计是水对EUV的吸收太大,本来EUV光源的强度就小。 ...
晨枫 发表于 2024-9-16 12:39& }; o7 M9 Q* v: r' J8 P8 j 是哦,连透镜都不能用,水可能更加不行了
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