TA的每日心情 | 慵懒
2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:00 ~' x; D+ w, V% B; p5 k
也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！
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. {% W. i, T! b6 _; N. }个人感觉：相比于前一阵 ...
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& L; l$ O1 @( H& C4 Q" v- E应该会在5年内实现吧。. ~- g$ e v; ?
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微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）5 g" n1 I3 X. Q: B
24-9-16 23:55
6 B$ H' m, H1 Z) b4 f" g发布于 湖南
5 L1 V7 \' Q8 _: \5 U来自 微博网页版' W- q- d% o N+ }
啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机
* X! C& ]7 F3 q$ j1 t9 m+ \不是运过来就能直接开工的。* g0 F4 T6 o% d, e5 w& s+ d
他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。
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( M/ j' e. m ?% D* p- R这个时间很长，也是我常年说：
* s4 L2 k: `: n. Q就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
) o: Y# r5 W3 M. {9 J2 ^3 }) l) W. O. y7 R
现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。
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& M9 n# w4 K% W( J5 C& r简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。% V+ L, I; u4 K0 B- q& v/ `
干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）, a# h/ G1 ?; {; |$ t/ a/ e% d
多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）. E, A* O& V8 y# ~ M$ ]: ?+ k0 [
但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了3 ~* K m; |& g7 X8 C# y
( g g, L0 {# o h没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。
2 | F4 F# ?5 l1 q4 [普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
8 M O) ?, g! b, ?2 A2 A#华为mate70# 也没多久了。' T! l, p s0 t- d
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