TA的每日心情 | 慵懒
2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:00
: w" }( _( a4 g# _ O& T( l也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！, ^9 z& Y! |1 V4 E( y0 t
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个人感觉：相比于前一阵 ...
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应该会在5年内实现吧。
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微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）
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发布于 湖南: I/ y y& r% h/ ~0 z; E9 A! o
来自 微博网页版8 o W) W- J5 D0 M& X6 z" \
啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机
; V; I0 s' Q J0 K* x+ z5 X不是运过来就能直接开工的。
) A& A1 d# I+ {6 S f他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。
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& Y& c: L+ t7 T; A: j0 K这个时间很长，也是我常年说：' r! A6 g8 V& f5 z0 d* U. q
就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
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现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。
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简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。
K# z% C& g6 _- q' D7 i3 I干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）5 e: o4 p$ E0 D# D0 g
多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）
5 w8 Z& \ z! l, q- p: f* E+ u但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了
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, ^' ^( u/ l; t* _8 E! J没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。
, m6 d5 E" F" C, s4 ^6 W% z0 g普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。* S. c4 ~+ ?, c+ {; T q
#华为mate70# 也没多久了。
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雷达卡
发表于 2024-9-17 08:06:46
显身卡
楼主
发表于 2024-9-17 08:39:20