TA的每日心情 | 慵懒
2022-8-27 22:14 |
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晨枫 发表于 2024-9-16 14:005 \8 N9 f! G1 o! n: {9 v
也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！
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个人感觉：相比于前一阵 ...
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. l0 U& U# \; ^5 [应该会在5年内实现吧。
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1 U9 x5 @7 f; @3 t5 S微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）! y- m" b/ }: {; h
24-9-16 23:55
! {* z- k; w6 D- f发布于 湖南
) s( j3 T3 y% K9 L2 n, h. c来自 微博网页版
. _6 s0 b# q4 }% X啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机
: t: W. }7 [7 c6 |" w9 Y不是运过来就能直接开工的。+ ]. m8 g. ?! ?, S
他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。$ W9 G |% q2 L1 g" M, E" t7 d
: k) \6 h6 d$ e# u5 M, W" U- i _
这个时间很长，也是我常年说：
2 E, y. a5 A2 E& d就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。0 ~$ s$ V( ~& \
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现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。
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6 u7 v6 F; d& H# _9 J i* @简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。
! h* v, [% b) q- U, V9 J干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）: }6 X" y m" {+ X$ H0 V
多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）
8 ~8 Y* B! w/ F- G7 f但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了& U8 ^+ [) D) m! `
! k" w' H! P. y# y3 m, z没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。! t! x2 g1 O. v. A6 n0 \
普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。) m3 y% y$ H4 j* ]- R0 M& C* H$ ]
#华为mate70# 也没多久了。
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雷达卡
发表于 2024-9-17 08:06:46
显身卡
楼主
发表于 2024-9-17 08:39:20