国产光刻机猜测

老财迷

晨枫 发表于 2024-9-16 14:00
9 J8 ?$ \5 {- a3 _" M; [$ w2 S也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！

1 p; c" g  {( e, d" f2 H% A/ c个人感觉：相比于前一阵 ...

: V" i5 R  q6 ?: X% b) ^

这就要西方好好领教什么叫产能过剩了。

* O& f# w# u( K( C8 o4 S/ |应该会在5年内实现吧。
. a9 f# k  |; ^7 x# O/ O6 d9 ?
1 R4 U% h; T/ C; I$ i% y8 _8 n微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）
+ y: s4 j* b/ |4 r: F" U24-9-16 23:55
发布于 湖南
7 W" B  \& X0 F$ o2 Z1 D( h* `来自 微博网页版
啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机
不是运过来就能直接开工的。
" F  o9 u2 _2 |( G" v他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。

9 F& \, k. Z  K4 S% P这个时间很长，也是我常年说：
就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。
5 _2 Q4 r4 y! ~/ a) P2 A, e! H
* A8 C* U/ z' l' i2 _9 k3 f( g; J现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。
6 G  o- ?! \5 \$ ^
  V# i  U% @) j+ v! y6 L( E简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。
干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）
1 O! V& o* J' j3 O3 I多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）
但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了
3 P8 [% \1 R/ l% v7 V* ]  g
没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。
普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
#华为mate70# 也没多久了。

moletronic

老财迷 发表于 2024-9-16 16:06
4 l5 O- g1 N' u3 v应该会在5年内实现吧。

9 \( \, K+ T$ j9 ]0 g) A' ~& ~微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）

, D4 H& ?: l; F0 N( d: X这个有点扯，新机到货后肯定要调试的，但绝对用不了两年的时间。

晨枫

moletronic 发表于 2024-9-16 18:15
这个有点扯，新机到货后肯定要调试的，但绝对用不了两年的时间。

% q0 m3 e% ?$ F; x+ {  K但干式到浸润的步子没那么大，这说对了吗？

moletronic

晨枫 发表于 2024-9-16 16:39
但干式到浸润的步子没那么大，这说对了吗？

5 j0 n# k6 Y& G6 A% v7 D7 d
( b+ ~- b" i# B* N4 c, {按说这个跨越不算大，但Nikon就是浸水没搞定
& N. a) ]7 S) z) x5 o- a! A6 O' r; e0 ^所以俺不敢做预测，只敢对已知的做评述

沉宝

晨枫 发表于 2024-9-17 03:34
& c" G- x: n% }- L+ ]8 _$ r: B不过EUV制作7nm可以轻易一次曝光，产率和良率应该提高很多？

! \' O) P) L6 E- p0 W8 H' _理论上是这样。但制造芯片是个复杂的过程，需要各方面不断打磨，才能接近理想的结果。现实中的例子，台积电用193nm光刻机率先量产7nm，三星则以更先进的EUV光刻机应战，由于对新型光刻机的熟悉不足，结果良率低下，很多人抛弃三星。最后三星赔本赚吆喝，开出比台积电低30%的代工费用，才勉强留下大客户。

晨枫

moletronic 发表于 2024-9-16 20:54
: v! q4 Q. T( i8 {7 N按说这个跨越不算大，但Nikon就是浸水没搞定
% B1 G- [+ j' n所以俺不敢做预测，只敢对已知的做评述 ...

有道理。

不过现在看尼康和佳能的光刻机，总有感觉他们已经三心二意了。既然干不过阿斯麦，就用最小投资吊着。不退场，但也不全力以赴。

) n8 k, w- i" F& j7 A- ~2 s- P" X中国肯定是全力以赴的。而且倾国之力肯定大于尼康、佳能。
  h! j7 Y! e3 M; d: e0 \2 I
2 M6 H. {; i$ P: L  U' I这会有差别吗？

晨枫

沉宝 发表于 2024-9-16 21:08
) o' l2 C/ U" w' K$ k0 n: C理论上是这样。但制造芯片是个复杂的过程，需要各方面不断打磨，才能接近理想的结果。现实中的例子，台积 ...

3 u3 d, x0 s) g$ M9 E6 C9 \这倒是个问题。都说韩国人拼，看来还是拼不过中国人。台湾人也是中国人嘛。

雷声

moletronic 发表于 2024-9-17 10:54
) [! o8 Z) `' z6 _按说这个跨越不算大，但Nikon就是浸水没搞定
. B* C; j, ?6 X所以俺不敢做预测，只敢对已知的做评述 ...

; l* ]. h, X2 W还没搞定？
我可能是09年去给Nikon做实验，他们想搞明白光刻机里面为什么会产生微气泡，想买个做实验的系统。我在的小破公司搭了一个，然后过去一起做，看能不能用。那个时候估计还是早期，这些基础的问题都没个数。做了几个实验，证明可以捕捉到微气泡发生，成长和运动的轨迹，我就撤了。这都十五年过去了。
& w6 j- p( x, _. O尼康那时候已经有点不灵的迹象，食堂里面睡满了安装队的人。正常的话那些人都是满世界跑给别人装机器的。
5 R3 f! j) z. d% T! l7 I( q% r

晨枫

moletronic 发表于 2024-9-16 20:54
4 P  V. [9 i2 f. N2 \6 {! t, w6 E3 j按说这个跨越不算大，但Nikon就是浸水没搞定
所以俺不敢做预测，只敢对已知的做评述 ...

2 \  L, p9 I' T4 h( d突然想起来：现在就聚焦于逻辑芯片，存储芯片用的芯片技术一样吗？前一段听说长江还是谁的128还是256层NAND也被卡了，因为光刻机的事，这说法准确吗？高端NAND需要多少nm节点的光刻机？

雷声

晨枫 发表于 2024-9-17 11:13
% d2 {1 H/ @, }5 F2 @; b& @有道理。

不过现在看尼康和佳能的光刻机，总有感觉他们已经三心二意了。既然干不过阿斯麦，就用最小投资 ...

可能是真没钱投资了。这些钱政府应该赞助的，可是政府也难呐，到处都是嗷嗷待哺的嘴，捉了个虫也不知道塞哪张嘴里。
很多年前日本媒体评价日本财政用了很形象的词，叫硬直化。所有的钱都有定好的用处，几乎没有活动钱。需要财政支持的时候十分狼狈。该做的事情做不了，钱全都拿去维持日常运转了。

moletronic

雷声 发表于 2024-9-16 19:19
: D5 C5 V$ k6 Q; ]还没搞定？
. O" u# E9 {4 D. [; _4 r( v我可能是09年去给Nikon做实验，他们想搞明白光刻机里面为什么会产生微气泡，想买个做实验的 ...

Nikon是稳定性不行，被牙膏退货后就没人再买。疫情前去开spie的会，Nikon还吹牛自己行了，但主流客户没人用。
: F" y# X: V; M- I# F4 t有网上谣言说华为买了些Nikon自己魔改做出了9100…俺比较怀疑真实性。

moletronic

晨枫 发表于 2024-9-16 19:21
突然想起来：现在就聚焦于逻辑芯片，存储芯片用的芯片技术一样吗？前一段听说长江还是谁的128还是256层NA ...

3 R  ~. D* j) T, X$ h8 G8 u5 Q存储和逻辑的工艺重点不一样，节点体系也不同。存储那边现在还没上EUV。

晨枫

moletronic 发表于 2024-9-16 21:31
) n+ [/ N6 d0 F: I$ a: c存储和逻辑的工艺重点不一样，节点体系也不同。存储那边现在还没上EUV。 ...

! Z$ q$ |' d- g! U  F+ `* X) T$ y/ L需要用到浸润DUV吗？

我的问题其实是：65nm光刻机能解决国内NAND厂的设备禁运问题吗？

moletronic

晨枫 发表于 2024-9-16 19:34
需要用到浸润DUV吗？

我的问题其实是：65nm光刻机能解决国内NAND厂的设备禁运问题吗？ ...

. O, M: g4 M) H6 H, _浸水还是要的，这国产光刻机按公布的指标应该还是没法满足YMTC的全部要求。

晨枫

雷声 发表于 2024-9-16 21:23
/ ~+ o' E5 r6 G+ C* {0 D) J可能是真没钱投资了。这些钱政府应该赞助的，可是政府也难呐，到处都是嗷嗷待哺的嘴，捉了个虫也不知道塞 ...

! Y/ e! s; F# W8 [( q3 ?4 _是的，需要钱的地方太多，但光刻机和芯片可能是不计代价砸钱的方向，优先级比谁都高。这个瓶颈突破后，不只是军事、科技上的阳关道，经济上也是大片的处女地啊。

硬直化很形象。确实，西方家大业大，花钱手笔也大，但每一笔钱都预定了用处，活动余地真心很小。你看看美国在预算削减时那个鸡飞狗跳，就知道真是谁都动不得。“平均剃头”是公认的最坏选择，但是唯一大家可接受的选择。

晨枫

moletronic 发表于 2024-9-16 21:37
6 K5 W9 L/ v, O3 {* v浸水还是要的，这国产光刻机按公布的指标应该还是没法满足YMTC的全部要求。 ...

/ s, H1 o) X* @1 L. A) W7 X都说工信部这光刻机不是浸润式，但193nm光源，65nm分辨率，正好是2*1.44倍，是不是太巧了？

沉宝

moletronic 发表于 2024-9-17 10:54
8 E3 _. C+ y1 f: w4 \按说这个跨越不算大，但Nikon就是浸水没搞定
所以俺不敢做预测，只敢对已知的做评述 ...

: w) u$ b/ Z. x( i8 B" ?: l& v% J具体工作中还是有很多细节要克服。例如曝光时照到光的水会比遮蔽区的水热一点，这个温差会让水的密度不均匀，从而折射率不均匀，影响成像。为了避免温差，必须让水快速流动混合，但又要避免产生漩涡或者析出气泡。水可以把所接触物品上的杂质洗下来，带到晶圆上，形成缺陷。当初ASML搞浸润式光刻机时，在浸液系统上与林本坚团队合作，方案修改了7-8回，耗时两年多才取得满意的结果。

moletronic

* B6 N# z! T; Y* P# b' S9 C

沉宝 发表于 2024-9-16 19:43
. J1 G5 e& e+ k" n具体工作中还是有很多细节要克服。例如曝光时照到光的水会比遮蔽区的水热一点，这个温差会让水的密度不均 ...

这当然不容易，不过两年挺快啦，看看牙膏的10nm……

moletronic

晨枫 发表于 2024-9-16 19:40
9 ~  {7 w; Q3 ?! {+ x都说工信部这光刻机不是浸润式，但193nm光源，65nm分辨率，正好是2*1.44倍，是不是太巧了？ ...

; l" ?! Q/ S2 B9 Y, i9 h: e不知道啦，也许是隐晦放风的说法。

hsb

晨枫 发表于 2024-9-17 11:13
这倒是个问题。都说韩国人拼，看来还是拼不过中国人。台湾人也是中国人嘛。 ...

- q5 f& R, ?8 C5 J' v中国大，各地方人气质不一，各擅胜场。精细活儿江南地方超过东北山东。如此说来，韩国近东北山东，台湾精英是江浙后代。