国产光刻机猜测

老财迷

晨枫 发表于 2024-9-16 14:00
也就是说，即使28nm现在还有光刻机瓶颈，其他也都就绪、只欠东风了。这是好事！

2 c' c, L/ y9 z3 \4 A个人感觉：相比于前一阵 ...

0 \% i# ?- n  ?2 R  c" N* Y

这就要西方好好领教什么叫产能过剩了。

" L* B' _4 A, S5 L( Q' C7 l: q应该会在5年内实现吧。

微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）
$ J7 u& ]! e2 S4 S: K& c24-9-16 23:55
发布于 湖南
来自 微博网页版
$ A) ?1 E( p: V0 ~# e啊，说过很多次了，#光刻机# 不是挖机
: T0 U1 V) P+ k0 ]3 ]不是运过来就能直接开工的。
他需要调试，需要不断的用，一边用一边调整，等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。
, v1 z* g# p* p* L
+ D7 v9 ]( R8 d9 P# X* x4 D这个时间很长，也是我常年说：
就算今天ASML传送一台EUV给咱，我们拿到第一批量产的芯片流片完（无论7nm，5nm还是多少）起码2年后——这最乐观的2年时间，还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。

% ]$ E2 G6 Z) c现在发布的这台机器是起码3年前就验收了（科工），现在工信部验收推广（产业链），成熟得不行了才拿出来的。你需要，给钱就有，不限量。

' T0 p' ^. s' f  X+ V简单理解就是——这机子是干式光刻机，做的是65-55nm的芯片，一次曝光。
干式光刻机没啥意义，为什么呢？因为改进之后的也可以出产低制程的，向下兼容并且良率更高（成本低方案成熟）
1 {" ?, h' R5 A多重曝光也不是这哥们来做……（我是不清楚干式光刻机有没人搞这个）
但这玩意的光路设计啥的，是成型了的。有了它，就加浸没式透镜，修改物镜，最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机，但起码上线了2年了
4 {  B" G% U6 ]. z! `
没公布的那个肯定还在不断的调试，修改，更换国产配件。
! E- A5 I/ d: V/ b+ `普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
( Z4 Y7 q8 O; @#华为mate70# 也没多久了。
: d( e5 L2 ]1 c& p" F8 Z- Q

moletronic

老财迷 发表于 2024-9-16 16:06
应该会在5年内实现吧。
0 I; s2 }3 ^( {0 e7 y6 k
! Q, m- U% G) }9 ?7 m  v( h. L# j微博上有位“沉睡之书11”说的。（不一定准确，可以看看）

; c) r2 l2 R  T6 ^3 a这个有点扯，新机到货后肯定要调试的，但绝对用不了两年的时间。

晨枫

moletronic 发表于 2024-9-16 18:15
& b. I% d' P2 f5 ^这个有点扯，新机到货后肯定要调试的，但绝对用不了两年的时间。

但干式到浸润的步子没那么大，这说对了吗？

moletronic

晨枫 发表于 2024-9-16 16:39
) J8 |, K8 x. c3 k( ~# }6 Q但干式到浸润的步子没那么大，这说对了吗？

  ~1 n1 `; |' h  ^按说这个跨越不算大，但Nikon就是浸水没搞定
) _6 _; w7 \; O所以俺不敢做预测，只敢对已知的做评述

沉宝

晨枫 发表于 2024-9-17 03:34
' U* K! f0 F/ U: I, @' C! n$ `不过EUV制作7nm可以轻易一次曝光，产率和良率应该提高很多？

理论上是这样。但制造芯片是个复杂的过程，需要各方面不断打磨，才能接近理想的结果。现实中的例子，台积电用193nm光刻机率先量产7nm，三星则以更先进的EUV光刻机应战，由于对新型光刻机的熟悉不足，结果良率低下，很多人抛弃三星。最后三星赔本赚吆喝，开出比台积电低30%的代工费用，才勉强留下大客户。

晨枫

moletronic 发表于 2024-9-16 20:54
2 p8 N- k6 h' N2 K" M' X按说这个跨越不算大，但Nikon就是浸水没搞定
4 r. S) i4 j* h; S所以俺不敢做预测，只敢对已知的做评述 ...

有道理。

不过现在看尼康和佳能的光刻机，总有感觉他们已经三心二意了。既然干不过阿斯麦，就用最小投资吊着。不退场，但也不全力以赴。
9 Y5 P9 N/ r" Q# Z/ _7 e
  b, T5 k* W7 ?' @% i中国肯定是全力以赴的。而且倾国之力肯定大于尼康、佳能。
2 V6 Q8 _' |7 L" }5 M* w
" _1 [8 z& {# O2 f( {# J& b- m这会有差别吗？

晨枫

沉宝 发表于 2024-9-16 21:08
& j. ~; k" L  ?理论上是这样。但制造芯片是个复杂的过程，需要各方面不断打磨，才能接近理想的结果。现实中的例子，台积 ...

这倒是个问题。都说韩国人拼，看来还是拼不过中国人。台湾人也是中国人嘛。

雷声

moletronic 发表于 2024-9-17 10:54
" G- N3 N& N" b- L8 T按说这个跨越不算大，但Nikon就是浸水没搞定
所以俺不敢做预测，只敢对已知的做评述 ...

4 @* G. B% w$ B* ~5 }还没搞定？
$ a5 a# ]& @' |4 G我可能是09年去给Nikon做实验，他们想搞明白光刻机里面为什么会产生微气泡，想买个做实验的系统。我在的小破公司搭了一个，然后过去一起做，看能不能用。那个时候估计还是早期，这些基础的问题都没个数。做了几个实验，证明可以捕捉到微气泡发生，成长和运动的轨迹，我就撤了。这都十五年过去了。
2 N5 j) X" A( O/ k0 w5 G* ]尼康那时候已经有点不灵的迹象，食堂里面睡满了安装队的人。正常的话那些人都是满世界跑给别人装机器的。

晨枫

moletronic 发表于 2024-9-16 20:54
按说这个跨越不算大，但Nikon就是浸水没搞定
5 W0 e$ i  b6 v3 Y/ P: e0 L所以俺不敢做预测，只敢对已知的做评述 ...

突然想起来：现在就聚焦于逻辑芯片，存储芯片用的芯片技术一样吗？前一段听说长江还是谁的128还是256层NAND也被卡了，因为光刻机的事，这说法准确吗？高端NAND需要多少nm节点的光刻机？

雷声

晨枫 发表于 2024-9-17 11:13
有道理。
5 i( |7 d7 Z! H  u
0 M, `$ [3 @4 I- x+ ?) [: ~不过现在看尼康和佳能的光刻机，总有感觉他们已经三心二意了。既然干不过阿斯麦，就用最小投资 ...

可能是真没钱投资了。这些钱政府应该赞助的，可是政府也难呐，到处都是嗷嗷待哺的嘴，捉了个虫也不知道塞哪张嘴里。
1 J% w0 ^! C- n- g很多年前日本媒体评价日本财政用了很形象的词，叫硬直化。所有的钱都有定好的用处，几乎没有活动钱。需要财政支持的时候十分狼狈。该做的事情做不了，钱全都拿去维持日常运转了。

moletronic

. B* b+ \; n3 Y8 ]9 Z

雷声 发表于 2024-9-16 19:19
: u, x' i% f. m1 l/ T3 R还没搞定？
7 U5 N2 x4 l! h: @我可能是09年去给Nikon做实验，他们想搞明白光刻机里面为什么会产生微气泡，想买个做实验的 ...

( S1 B6 I, w( N! L
5 W0 ]/ \  o, fNikon是稳定性不行，被牙膏退货后就没人再买。疫情前去开spie的会，Nikon还吹牛自己行了，但主流客户没人用。
有网上谣言说华为买了些Nikon自己魔改做出了9100…俺比较怀疑真实性。

moletronic

晨枫 发表于 2024-9-16 19:21
突然想起来：现在就聚焦于逻辑芯片，存储芯片用的芯片技术一样吗？前一段听说长江还是谁的128还是256层NA ...

4 c4 V- w- \9 A. x存储和逻辑的工艺重点不一样，节点体系也不同。存储那边现在还没上EUV。

晨枫

moletronic 发表于 2024-9-16 21:31
. g4 @2 Z  H1 J' H存储和逻辑的工艺重点不一样，节点体系也不同。存储那边现在还没上EUV。 ...

需要用到浸润DUV吗？

我的问题其实是：65nm光刻机能解决国内NAND厂的设备禁运问题吗？

moletronic

晨枫 发表于 2024-9-16 19:34
需要用到浸润DUV吗？
9 U( W  P3 x' K% e" `. {
' ]1 F; c; y+ g我的问题其实是：65nm光刻机能解决国内NAND厂的设备禁运问题吗？ ...

8 [- \( M5 V# O9 N. e浸水还是要的，这国产光刻机按公布的指标应该还是没法满足YMTC的全部要求。

晨枫

雷声 发表于 2024-9-16 21:23
( W) Y- E' T( D! p4 ?可能是真没钱投资了。这些钱政府应该赞助的，可是政府也难呐，到处都是嗷嗷待哺的嘴，捉了个虫也不知道塞 ...

8 g& U( P5 P8 ~& B- A* a是的，需要钱的地方太多，但光刻机和芯片可能是不计代价砸钱的方向，优先级比谁都高。这个瓶颈突破后，不只是军事、科技上的阳关道，经济上也是大片的处女地啊。
2 U2 }7 |3 ^" H9 `5 V
# K# }' Q* X7 Z! S硬直化很形象。确实，西方家大业大，花钱手笔也大，但每一笔钱都预定了用处，活动余地真心很小。你看看美国在预算削减时那个鸡飞狗跳，就知道真是谁都动不得。“平均剃头”是公认的最坏选择，但是唯一大家可接受的选择。

晨枫

moletronic 发表于 2024-9-16 21:37
$ F7 q) L( `$ n浸水还是要的，这国产光刻机按公布的指标应该还是没法满足YMTC的全部要求。 ...

, J5 c; W, ^' G7 c5 g9 f都说工信部这光刻机不是浸润式，但193nm光源，65nm分辨率，正好是2*1.44倍，是不是太巧了？

沉宝

moletronic 发表于 2024-9-17 10:54
按说这个跨越不算大，但Nikon就是浸水没搞定
所以俺不敢做预测，只敢对已知的做评述 ...

0 g9 b, [: {) A具体工作中还是有很多细节要克服。例如曝光时照到光的水会比遮蔽区的水热一点，这个温差会让水的密度不均匀，从而折射率不均匀，影响成像。为了避免温差，必须让水快速流动混合，但又要避免产生漩涡或者析出气泡。水可以把所接触物品上的杂质洗下来，带到晶圆上，形成缺陷。当初ASML搞浸润式光刻机时，在浸液系统上与林本坚团队合作，方案修改了7-8回，耗时两年多才取得满意的结果。

moletronic

沉宝 发表于 2024-9-16 19:43
. `: v& Y/ Y! e1 U% E具体工作中还是有很多细节要克服。例如曝光时照到光的水会比遮蔽区的水热一点，这个温差会让水的密度不均 ...

8 J# {0 r# G* B2 o这当然不容易，不过两年挺快啦，看看牙膏的10nm……

moletronic

晨枫 发表于 2024-9-16 19:40
) Z+ u3 ^& `6 z4 G/ w都说工信部这光刻机不是浸润式，但193nm光源，65nm分辨率，正好是2*1.44倍，是不是太巧了？ ...

不知道啦，也许是隐晦放风的说法。

hsb

晨枫 发表于 2024-9-17 11:13
这倒是个问题。都说韩国人拼，看来还是拼不过中国人。台湾人也是中国人嘛。 ...

  C: }" @. w& r" j中国大，各地方人气质不一，各擅胜场。精细活儿江南地方超过东北山东。如此说来，韩国近东北山东，台湾精英是江浙后代。