老财迷 发表于 2024-9-17 08:06:46

晨枫 发表于 2024-9-16 14:00
也就是说,即使28nm现在还有光刻机瓶颈,其他也都就绪、只欠东风了。这是好事!

个人感觉:相比于前一阵 ...

这就要西方好好领教什么叫产能过剩了。
应该会在5年内实现吧。

微博上有位“沉睡之书11”说的。(不一定准确,可以看看)
24-9-16 23:55
发布于 湖南
来自 微博网页版
啊,说过很多次了,#光刻机# 不是挖机
不是运过来就能直接开工的。
他需要调试,需要不断的用,一边用一边调整,等光学畸变稳定——你可以理解为拷机或者汽车发动热机暖机。

这个时间很长,也是我常年说:
就算今天ASML传送一台EUV给咱,我们拿到第一批量产的芯片流片完(无论7nm,5nm还是多少)起码2年后——这最乐观的2年时间,还得是对EUV非常有经验的顶级工程师来操作优化。

现在发布的这台机器是起码3年前就验收了(科工),现在工信部验收推广(产业链),成熟得不行了才拿出来的。你需要,给钱就有,不限量。

简单理解就是——这机子是干式光刻机,做的是65-55nm的芯片,一次曝光。
干式光刻机没啥意义,为什么呢?因为改进之后的也可以出产低制程的,向下兼容并且良率更高(成本低方案成熟)
多重曝光也不是这哥们来做……(我是不清楚干式光刻机有没人搞这个)
但这玩意的光路设计啥的,是成型了的。有了它,就加浸没式透镜,修改物镜,最终成品是目前没有验收但肯定存在某个地方的浸没式光刻机,但起码上线了2年了

没公布的那个肯定还在不断的调试,修改,更换国产配件。
普通人不用管光刻机啥情况——你就看最终产品就是。
#华为mate70# 也没多久了。

moletronic 发表于 2024-9-17 08:15:36

老财迷 发表于 2024-9-16 16:06
应该会在5年内实现吧。

微博上有位“沉睡之书11”说的。(不一定准确,可以看看)


这个有点扯,新机到货后肯定要调试的,但绝对用不了两年的时间。

晨枫 发表于 2024-9-17 08:39:20

moletronic 发表于 2024-9-16 18:15
这个有点扯,新机到货后肯定要调试的,但绝对用不了两年的时间。

但干式到浸润的步子没那么大,这说对了吗?

moletronic 发表于 2024-9-17 10:54:17

本帖最后由 moletronic 于 2024-9-16 18:56 编辑

晨枫 发表于 2024-9-16 16:39
但干式到浸润的步子没那么大,这说对了吗?

按说这个跨越不算大,但Nikon就是浸水没搞定
所以俺不敢做预测,只敢对已知的做评述

沉宝 发表于 2024-9-17 11:08:25

晨枫 发表于 2024-9-17 03:34
不过EUV制作7nm可以轻易一次曝光,产率和良率应该提高很多?

理论上是这样。但制造芯片是个复杂的过程,需要各方面不断打磨,才能接近理想的结果。现实中的例子,台积电用193nm光刻机率先量产7nm,三星则以更先进的EUV光刻机应战,由于对新型光刻机的熟悉不足,结果良率低下,很多人抛弃三星。最后三星赔本赚吆喝,开出比台积电低30%的代工费用,才勉强留下大客户。

晨枫 发表于 2024-9-17 11:13:01

moletronic 发表于 2024-9-16 20:54
按说这个跨越不算大,但Nikon就是浸水没搞定
所以俺不敢做预测,只敢对已知的做评述 ...

有道理。

不过现在看尼康和佳能的光刻机,总有感觉他们已经三心二意了。既然干不过阿斯麦,就用最小投资吊着。不退场,但也不全力以赴。

中国肯定是全力以赴的。而且倾国之力肯定大于尼康、佳能。

这会有差别吗?

晨枫 发表于 2024-9-17 11:13:37

沉宝 发表于 2024-9-16 21:08
理论上是这样。但制造芯片是个复杂的过程,需要各方面不断打磨,才能接近理想的结果。现实中的例子,台积 ...

这倒是个问题。都说韩国人拼,看来还是拼不过中国人。台湾人也是中国人嘛。

雷声 发表于 2024-9-17 11:19:08

moletronic 发表于 2024-9-17 10:54
按说这个跨越不算大,但Nikon就是浸水没搞定
所以俺不敢做预测,只敢对已知的做评述 ...

还没搞定?
我可能是09年去给Nikon做实验,他们想搞明白光刻机里面为什么会产生微气泡,想买个做实验的系统。我在的小破公司搭了一个,然后过去一起做,看能不能用。那个时候估计还是早期,这些基础的问题都没个数。做了几个实验,证明可以捕捉到微气泡发生,成长和运动的轨迹,我就撤了。这都十五年过去了。
尼康那时候已经有点不灵的迹象,食堂里面睡满了安装队的人。正常的话那些人都是满世界跑给别人装机器的。

晨枫 发表于 2024-9-17 11:21:47

moletronic 发表于 2024-9-16 20:54
按说这个跨越不算大,但Nikon就是浸水没搞定
所以俺不敢做预测,只敢对已知的做评述 ...

突然想起来:现在就聚焦于逻辑芯片,存储芯片用的芯片技术一样吗?前一段听说长江还是谁的128还是256层NAND也被卡了,因为光刻机的事,这说法准确吗?高端NAND需要多少nm节点的光刻机?

雷声 发表于 2024-9-17 11:23:33

晨枫 发表于 2024-9-17 11:13
有道理。

不过现在看尼康和佳能的光刻机,总有感觉他们已经三心二意了。既然干不过阿斯麦,就用最小投资 ...

可能是真没钱投资了。这些钱政府应该赞助的,可是政府也难呐,到处都是嗷嗷待哺的嘴,捉了个虫也不知道塞哪张嘴里。
很多年前日本媒体评价日本财政用了很形象的词,叫硬直化。所有的钱都有定好的用处,几乎没有活动钱。需要财政支持的时候十分狼狈。该做的事情做不了,钱全都拿去维持日常运转了。

moletronic 发表于 2024-9-17 11:28:54

本帖最后由 moletronic 于 2024-9-16 19:33 编辑

雷声 发表于 2024-9-16 19:19
还没搞定?
我可能是09年去给Nikon做实验,他们想搞明白光刻机里面为什么会产生微气泡,想买个做实验的 ...

Nikon是稳定性不行,被牙膏退货后就没人再买。疫情前去开spie的会,Nikon还吹牛自己行了,但主流客户没人用。
有网上谣言说华为买了些Nikon自己魔改做出了9100…俺比较怀疑真实性。

moletronic 发表于 2024-9-17 11:31:01

晨枫 发表于 2024-9-16 19:21
突然想起来:现在就聚焦于逻辑芯片,存储芯片用的芯片技术一样吗?前一段听说长江还是谁的128还是256层NA ...

存储和逻辑的工艺重点不一样,节点体系也不同。存储那边现在还没上EUV。

晨枫 发表于 2024-9-17 11:34:00

moletronic 发表于 2024-9-16 21:31
存储和逻辑的工艺重点不一样,节点体系也不同。存储那边现在还没上EUV。 ...

需要用到浸润DUV吗?

我的问题其实是:65nm光刻机能解决国内NAND厂的设备禁运问题吗?

moletronic 发表于 2024-9-17 11:37:50

晨枫 发表于 2024-9-16 19:34
需要用到浸润DUV吗?

我的问题其实是:65nm光刻机能解决国内NAND厂的设备禁运问题吗? ...

浸水还是要的,这国产光刻机按公布的指标应该还是没法满足YMTC的全部要求。

晨枫 发表于 2024-9-17 11:38:06

雷声 发表于 2024-9-16 21:23
可能是真没钱投资了。这些钱政府应该赞助的,可是政府也难呐,到处都是嗷嗷待哺的嘴,捉了个虫也不知道塞 ...

是的,需要钱的地方太多,但光刻机和芯片可能是不计代价砸钱的方向,优先级比谁都高。这个瓶颈突破后,不只是军事、科技上的阳关道,经济上也是大片的处女地啊。

硬直化很形象。确实,西方家大业大,花钱手笔也大,但每一笔钱都预定了用处,活动余地真心很小。你看看美国在预算削减时那个鸡飞狗跳,就知道真是谁都动不得。“平均剃头”是公认的最坏选择,但是唯一大家可接受的选择。

晨枫 发表于 2024-9-17 11:40:47

moletronic 发表于 2024-9-16 21:37
浸水还是要的,这国产光刻机按公布的指标应该还是没法满足YMTC的全部要求。 ...

都说工信部这光刻机不是浸润式,但193nm光源,65nm分辨率,正好是2*1.44倍,是不是太巧了?

沉宝 发表于 2024-9-17 11:43:29

moletronic 发表于 2024-9-17 10:54
按说这个跨越不算大,但Nikon就是浸水没搞定
所以俺不敢做预测,只敢对已知的做评述 ...

具体工作中还是有很多细节要克服。例如曝光时照到光的水会比遮蔽区的水热一点,这个温差会让水的密度不均匀,从而折射率不均匀,影响成像。为了避免温差,必须让水快速流动混合,但又要避免产生漩涡或者析出气泡。水可以把所接触物品上的杂质洗下来,带到晶圆上,形成缺陷。当初ASML搞浸润式光刻机时,在浸液系统上与林本坚团队合作,方案修改了7-8回,耗时两年多才取得满意的结果。

moletronic 发表于 2024-9-17 11:59:49

本帖最后由 moletronic 于 2024-9-16 20:02 编辑

沉宝 发表于 2024-9-16 19:43
具体工作中还是有很多细节要克服。例如曝光时照到光的水会比遮蔽区的水热一点,这个温差会让水的密度不均 ...

这当然不容易,不过两年挺快啦,看看牙膏的10nm……

moletronic 发表于 2024-9-17 12:01:58

晨枫 发表于 2024-9-16 19:40
都说工信部这光刻机不是浸润式,但193nm光源,65nm分辨率,正好是2*1.44倍,是不是太巧了? ...

不知道啦,也许是隐晦放风的说法。

hsb 发表于 2024-9-17 17:38:39

晨枫 发表于 2024-9-17 11:13
这倒是个问题。都说韩国人拼,看来还是拼不过中国人。台湾人也是中国人嘛。 ...

中国大,各地方人气质不一,各擅胜场。精细活儿江南地方超过东北山东。如此说来,韩国近东北山东,台湾精英是江浙后代。
页: 1 [2] 3
查看完整版本: 国产光刻机猜测