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老财迷 发表于 2024-9-15 21:19
+ h; N" z( X$ k# k8 I感谢感谢
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: `& e5 w& I! {, h% h& G# S& T3 V& G2 K工信部公布的是:2.1.6 氟化氩光刻机 晶圆直径:300mm;照明波长:193nm;分辨率≤ ... / D/ ^1 M N5 E; ~! E, S) a3 f% _
也就是说,即使28nm现在还有光刻机瓶颈,其他也都就绪、只欠东风了。这是好事!
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个人感觉:相比于前一阵的绝对保密,现在放出这消息肯定是有用意的。# a; ]- H% w# P9 \
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1、内行人一看就知道,还在65nm
2 ?+ b; F/ y$ n! b; O( O, y1 Y2、没说的就不知道到了哪一步,而中国肯定不会满足于65nm
% ?9 \, p# {6 T3、一旦这一关过去,下一关应该是28nm光刻机(咳咳,我知道这说法要被内行人狂扁,你知道我的意思,暂且手下留情吧),但说中国还有15年的落后可能误导,追赶总是更快,尤其是这在现在根本不是最领先水平: R6 t6 p/ R& }& j) G6 f9 `
0 S" V, b6 x' j! m8 i然后就要等EUV了。 p# J; b) p6 N Y
6 `# }/ a' V- u会不会中国人首先解决光源,索性一步到位EUV,但干式先行?不是说俄罗斯EU V光源给力吗?
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# y& Z9 i, V# t2 Y在一段时间里,一旦中国28nm全国产化,芯片爆产能就有工装保障了。这就要西方好好领教什么叫产能过剩了。 |
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