马鹿 发表于 2024-9-15 04:18
我还以为你才30多岁。。。
moletronic 发表于 2024-9-16 09:46
公布的参数只能确定的说解决了65nm的有无问题,对于代工厂来说要不要用还有几个关键参数没说。比如生产速度 ...
老财迷 发表于 2024-9-15 21:19
感谢感谢
工信部公布的是:2.1.6 氟化氩光刻机 晶圆直径:300mm;照明波长:193nm;分辨率≤ ...
晨枫 发表于 2024-9-16 14:00
也就是说,即使28nm现在还有光刻机瓶颈,其他也都就绪、只欠东风了。这是好事!( }' @& O& J! @( m. @
个人感觉:相比于前一阵 ...
moletronic 发表于 2024-9-16 07:42
EUV没有透镜,只有反射镜,整个光学系统完全不同。目前看不会再搞浸水了。 ...
沉宝 发表于 2024-9-16 12:46
不存在28nm光刻机,只有28nm工艺节点。
从光刻机所用的光源上来说,只有 193 nm (ArF激光) 和 13.5 nm ( ...
晨枫 发表于 2024-9-16 11:21
也就是说,EUV用浸水没有用?
moletronic 发表于 2024-9-16 14:384 g% {% Z* s7 |* d+ u& L5 c! [" X3 v
理论上有用,但目前没看到在路线图上。估计是水对EUV的吸收太大,本来EUV光源的强度就小。 ...
晨枫 发表于 2024-9-16 12:39
是哦,连透镜都不能用,水可能更加不行了
晨枫 发表于 2024-9-16 14:00) ^) l' j3 ^- @: `& \8 k x3 G1 e
也就是说,即使28nm现在还有光刻机瓶颈,其他也都就绪、只欠东风了。这是好事!
个人感觉:相比于前一阵 ...
这就要西方好好领教什么叫产能过剩了。
老财迷 发表于 2024-9-16 16:063 w! z9 I9 K) X; B) I4 E
应该会在5年内实现吧。
) Z$ z4 q9 G) M4 y
微博上有位“沉睡之书11”说的。(不一定准确,可以看看)
moletronic 发表于 2024-9-16 18:15
这个有点扯,新机到货后肯定要调试的,但绝对用不了两年的时间。
晨枫 发表于 2024-9-16 16:39
但干式到浸润的步子没那么大,这说对了吗?
晨枫 发表于 2024-9-17 03:34
不过EUV制作7nm可以轻易一次曝光,产率和良率应该提高很多?
moletronic 发表于 2024-9-16 20:54( N/ I% H; v0 |( @
按说这个跨越不算大,但Nikon就是浸水没搞定* O. ?; P; }+ N
所以俺不敢做预测,只敢对已知的做评述 ...
沉宝 发表于 2024-9-16 21:08
理论上是这样。但制造芯片是个复杂的过程,需要各方面不断打磨,才能接近理想的结果。现实中的例子,台积 ...
moletronic 发表于 2024-9-17 10:54
按说这个跨越不算大,但Nikon就是浸水没搞定4 a- q L" M- i; R8 ?+ T) Y9 ^7 O. T Y
所以俺不敢做预测,只敢对已知的做评述 ...
moletronic 发表于 2024-9-16 20:54/ ?# M( s' M) p. L z
按说这个跨越不算大,但Nikon就是浸水没搞定
所以俺不敢做预测,只敢对已知的做评述 ...
晨枫 发表于 2024-9-17 11:137 N7 S) J3 Z' j& {* Y; I" P' K# i
有道理。6 j# p' y2 [( J9 N& t
7 ~9 t( v, i7 w, z; m
不过现在看尼康和佳能的光刻机,总有感觉他们已经三心二意了。既然干不过阿斯麦,就用最小投资 ...
雷声 发表于 2024-9-16 19:19; b2 k" I/ F9 w9 J
还没搞定?
我可能是09年去给Nikon做实验,他们想搞明白光刻机里面为什么会产生微气泡,想买个做实验的 ...
晨枫 发表于 2024-9-16 19:213 f/ n2 m( D% h- ] U
突然想起来:现在就聚焦于逻辑芯片,存储芯片用的芯片技术一样吗?前一段听说长江还是谁的128还是256层NA ...
moletronic 发表于 2024-9-16 21:31" `4 ~7 Z N) Z9 R' z' A6 e1 i
存储和逻辑的工艺重点不一样,节点体系也不同。存储那边现在还没上EUV。 ...
晨枫 发表于 2024-9-16 19:34
需要用到浸润DUV吗?
我的问题其实是:65nm光刻机能解决国内NAND厂的设备禁运问题吗? ...
雷声 发表于 2024-9-16 21:23
可能是真没钱投资了。这些钱政府应该赞助的,可是政府也难呐,到处都是嗷嗷待哺的嘴,捉了个虫也不知道塞 ...
moletronic 发表于 2024-9-16 21:37/ }% W6 K5 ?% M/ l
浸水还是要的,这国产光刻机按公布的指标应该还是没法满足YMTC的全部要求。 ...
moletronic 发表于 2024-9-17 10:544 V8 D8 N/ U* P4 n
按说这个跨越不算大,但Nikon就是浸水没搞定$ N" I( H6 o2 {' P5 \( {! o& B
所以俺不敢做预测,只敢对已知的做评述 ...
沉宝 发表于 2024-9-16 19:43" w8 t- c2 g# R2 V# J5 f! f1 J$ x
具体工作中还是有很多细节要克服。例如曝光时照到光的水会比遮蔽区的水热一点,这个温差会让水的密度不均 ...
晨枫 发表于 2024-9-16 19:40
都说工信部这光刻机不是浸润式,但193nm光源,65nm分辨率,正好是2*1.44倍,是不是太巧了? ...
晨枫 发表于 2024-9-17 11:13# ]& ~7 K" c8 j! p. U
这倒是个问题。都说韩国人拼,看来还是拼不过中国人。台湾人也是中国人嘛。 ...
ringxiao 发表于 2024-9-17 07:45
在知乎看到一篇文章,应该是业内人士写的,他对目前的进度并不乐观。
我不懂这方面的技术,看起来说的还是 ...
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